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国家高技术研究发展计划(2008AA031301)

作品数：1 被引量：15H指数：1
相关作者：严大洲谢正和汤传斌更多>>
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领域

  • 3个化学工程
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  • 2个电气工程
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  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
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  • 1个医药卫生
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学

主题

  • 3个电加热管
  • 3个多晶
  • 3个多晶硅
  • 3个氧化硅
  • 2个单晶
  • 2个单晶硅
  • 2个单炉
  • 2个低沸物
  • 2个底盘
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  • 2个电解
  • 2个电解制氢
  • 2个电流
  • 2个电压
  • 2个电源谐波
  • 2个电子产品
  • 2个电子级
  • 1个袋料
  • 1个氮掺杂
  • 1个氮源

机构

  • 3个中国恩菲工程...
  • 2个北京有色冶金...

资助

  • 3个国家高技术研...
  • 1个河南省科技攻...
  • 1个中国博士后科...

传媒

  • 3个有色冶金节能
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  • 1个现代化工
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  • 1个太阳能
  • 1个材料导报
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  • 1个电池
  • 1个有色冶炼
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  • 1个中国建设动态...
  • 1个中南大学学报...

地区

  • 3个北京市
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严大洲
供职机构：中国恩菲工程技术有限公司
研究主题：多晶硅 四氯化硅 三氯氢硅 还原炉 氯硅烷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢正和
供职机构：中国恩菲工程技术有限公司
研究主题：四氯化硅 多晶硅 纳米级二氧化硅 氯化氢 脱酸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤传斌
供职机构：中国恩菲工程技术有限公司
研究主题：多晶硅 三氯氢硅 四氯化硅 氯化氢 氯硅烷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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