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国家教育部博士点基金(20050080007)

作品数：33 被引量：104H指数：6
相关作者：刘玉岭牛新环刘效岩张伟檀柏梅更多>>
相关机构：河北工业大学天津职业技术师范大学天津理工大学更多>>
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相关领域：电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

领域

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主题

  • 40个化学机械抛光
  • 40个机械抛光
  • 36个抛光
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机构

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  • 1个中国人民政治...
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资助

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  • 15个国家科技重大...
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传媒

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  • 4个计算机时代
  • 4个电镀与涂饰
  • 4个人工晶体学报

地区

  • 38个天津市
  • 4个河北省
  • 1个北京市
共 43 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：卫星电源 化学机械抛光 CMP 太阳电池阵 空间电源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐文栋
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
苏艳勤
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP ULSI 抛光液 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田军
供职机构：河北工业大学
研究主题：硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武彩霞
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 ULSI 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康海燕
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 ULSI 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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