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国家高技术研究发展计划(2004AA3Z1140)

作品数：2 被引量：32H指数：2
相关作者：闫志瑞林霖鲁进军王继李耀东更多>>
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领域

  • 9个电子电信
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
  • 1个文化科学

主题

  • 9个硅片
  • 6个化学机械抛光
  • 6个机械抛光
  • 5个电路
  • 5个声波
  • 5个集成电路
  • 5个硅片清洗
  • 5个RCA清洗
  • 5个300MM硅...
  • 5个HF
  • 5个超大规模集成
  • 5个超大规模集成...
  • 5个大规模集成电...
  • 5个O
  • 3个单晶
  • 3个抛光
  • 3个硅单晶
  • 3个硅片表面
  • 2个抛光技术
  • 2个CMP

机构

  • 9个北京有色金属...
  • 1个有色金属研究...

资助

  • 9个国家高技术研...
  • 5个国家科技重大...

传媒

  • 9个半导体技术
  • 6个稀有金属
  • 2个中国有色金属...
  • 2个中国有色金属...
  • 1个中国稀土学报
  • 1个电子工业专用...
  • 1个微电子学
  • 1个2014`全...

地区

  • 9个北京市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
闫志瑞
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林霖
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李莉
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
鲁进军
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 氧浓度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘红艳
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张静
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：HF RCA清洗 硅片清洗 硅片 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王继
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李俊峰
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李耀东
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 化学机械抛光 超大规模集成电路 300MM硅片 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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