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安顺学院电子与信息工程学院航空电子电气与信息网络工程中心

作品数:2 被引量:11H指数:2
相关作者:杨娇更多>>
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相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇第一性原理
  • 2篇电子结构
  • 2篇子结构
  • 2篇光学
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性质
  • 1篇第一性原理计...
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电特性
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇掺杂
  • 1篇V

机构

  • 2篇安顺学院
  • 1篇贵州大学

作者

  • 2篇闫万珺
  • 2篇周士芸
  • 2篇张忠政
  • 1篇张春红
  • 1篇郭笑天
  • 1篇郭本华
  • 1篇桂放
  • 1篇谢泉
  • 1篇杨娇

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇原子与分子物...

年份

  • 2篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
稀土La掺杂CrSi_2电子结构与光学性质的第一性原理研究被引量:5
2014年
基于密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法,对稀土La掺杂CrSi2的几何结构,电子结构和光学性质进行了计算与分析.结果表明,La掺杂后,CrSi2的晶格常数a,b和c均增大,晶格体积增大.La掺杂导致费米面进入价带,带隙明显变窄仅为0.07eV;在费米面附近,La原子的5d层电子态密度只占总态密度很小的一部分,而总态密度仍然由Si的3p层和Cr的3d层电子的分波态密度决定;La掺杂后CrSi2的静态介电常数ε1(0)由28.98增大为91.69,ε2(ω)的两个介电峰均向低能方向偏移且增强,光学吸收边向低能方向移动,吸收峰减小.计算结果为CrSi2材料掺杂改性的实验研究提供了理论依据.
张忠政张春红闫万珺周士芸郭本华
关键词:第一性原理掺杂电子结构光学性质
第一性原理计算V-Al共掺杂CrSi_2的光电特性被引量:8
2014年
采用第一性原理赝势平面波方法,对V-Al共掺杂CrSi2的几何结构、电子结构和光学性质进行了理论计算,并与未掺杂、V、Al单掺杂CrSi2的光电性能进行了比较。结果表明:V-Al共掺杂会增大CrSi2的晶格常数a和b,体积相应增大。V-Al:CrSi2是p型间接带隙半导体,带隙宽度为0.256eV,介于V、Al单掺杂CrSi2之间;费米能级附近的电子态密度主要由Cr-3d、V-3d、Si-3p、Al-3p轨道杂化构成。与未掺杂的CrSi2相比,V-Al:CrSi2的静态介电常数和折射率增大,εi(ω)在低能区有一个新的跃迁峰。在光子能量为5eV附近,εi(ω)的跃迁峰强度大幅减弱,吸收系数和光电导率明显降低,吸收边略有红移,平均反射效应减弱。V的掺入会削弱Al单掺杂的电子跃迁,V-Al共掺杂可以对CrSi2的能带结构和光学性质进行更精细的调节。
闫万珺张忠政郭笑天桂放谢泉周士芸杨娇
关键词:电子结构光学性质第一性原理
共1页<1>
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