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华中科技大学光电子工程系激光技术国家重点实验室

作品数:5 被引量:19H指数:3
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺理学机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光学
  • 1篇导光
  • 1篇电路
  • 1篇多光束干涉
  • 1篇衍射
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子注入
  • 1篇折射率
  • 1篇折射率变化
  • 1篇阵列
  • 1篇阵列波导
  • 1篇阵列波导光栅
  • 1篇双折射
  • 1篇通信
  • 1篇偏振
  • 1篇偏振光
  • 1篇偏振光干涉
  • 1篇热影响区
  • 1篇开关矩阵
  • 1篇刻蚀

机构

  • 5篇华中科技大学
  • 1篇中国地质大学
  • 1篇图像信息处理...

作者

  • 3篇黄德修
  • 2篇刘德明
  • 1篇易新建
  • 1篇杜汉斌
  • 1篇胡席远
  • 1篇缪庆元
  • 1篇孙军强
  • 1篇胡伦骥
  • 1篇孔令彬
  • 1篇鲁平
  • 1篇陈四海
  • 1篇张波
  • 1篇胡振华
  • 1篇王涛
  • 1篇刘建华

传媒

  • 1篇机械工程学报
  • 1篇华中科技大学...
  • 1篇光学学报
  • 1篇激光技术
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 2篇2003
  • 1篇2002
  • 2篇2001
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
激光切割热传导损失数值计算方法被引量:9
2001年
建立了热切割过程模型 ,通过求解切割前沿的能量平衡方程 ,找到了切割过程中热传导损失及热影响区宽度与切割工艺参数之间的数学关系。这些变量是贝克来数 (Pe)的函数。为了提高公式的通用性 ,采用量纲一的参数进行表述。该理论公式可用来预测切割速度。试验证明 ,切割速度的预测结果是非常准确的。
杜汉斌刘建华胡席远胡伦骥
关键词:激光切割热影响区
光刻胶在二元光学元件制作工艺中的行为研究
在二元光学衍射微透镜的制作工艺中,光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重要的作用.光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与掩模版的图形达到很高的一致性,这样才能实现元件被高保真地制作到衬底上.在整个工艺过程中,由于不同光...
孔令彬易新建陈四海王典洪黄光
关键词:光刻光刻胶刻蚀二元光学元件大规模集成电路
文献传递
基于半导体光放大器的可扩展型光开关矩阵被引量:3
2003年
未来的高速和高度灵活的光分组交换网络要求开关速度达到纳秒量级且集成度高的大规模空间光开关矩阵。在分析了基于半导体光放大器的常用结构形式的光开关矩阵存在规模局限性的基础上 ,综述了新型的可实现大规模集成的基于半导体光放大器的光开关矩阵的基本原理和研究现状。
缪庆元胡振华王涛黄德修刘德明
关键词:半导体光放大器插入损耗载流子注入折射率变化
阵列波导光栅的波动理论分析与结构设计被引量:2
2002年
运用波动理论分析了阵列波导光栅 (AWG)的模场特性 ,给出了器件传输的数学模型即光栅方程 ,导出了器件的衍射效率与ω0 /d的变化关系 ;提出了AWG器件结构的设计方法 ,论述了决定器件结构的性能参数衍射级、阵列波导数、焦距等的设计原理 ,为器件的整体优化设计提供了参考数据 ;给出了 1 6× 0 .8nm ,中心波长为 1 5 5
鲁平刘德明黄德修孙军强
关键词:阵列波导波分复用集成光学器件光栅衍射
双折射Gires-Tournois型交叉复用器的性能研究被引量:5
2003年
利用偏振光干涉和多光束干涉的原理 ,推导了BGT型交叉复用器的传输函数。分析传输函数发现 ,Gires Tournois腔的反射率越高 ,交叉复用器的 0 .5dB通带带宽越宽 ,隔离度越小 ;反之 ,0 .5dB通带带宽越窄 ,隔离度越大。设计、调试相关实验 ,验证了BGT型交叉复用器性能参量之间的关系。可利用BGT型交叉复用器的这一特性来确定其结构参量 。
张波黄德修
关键词:光纤通信偏振光干涉多光束干涉隔离度
共1页<1>
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