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沈阳芯源微电子设备有限公司
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谷德君
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卢继奎
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王阳
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王冲
24篇
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一种基板翻转对中装置
本发明属于半导体处理系统中对基板处理的技术领域,具体地说是一种基板翻转对中装置。包括保持部II、保持部I、翻转驱动部、平移驱动部、控制部I、控制部II、传动机构I及传动机构II,其中保持部II和保持部I通过传动机构II与...
程虎
文献传递
一种匀胶显影装置
本发明涉及一种晶圆加工设备,具体地说是一种全自动的匀胶显影装置,包括热处理单元、机械手、加工单元、对中单元、片盒单元和工作台,其中机械手设置于工作台中部,加工单元分设于机械手的左右两侧且同侧的加工单元叠放设置,对中单元和...
洪旭东
张杨
文献传递
一种半导体设备用滤风整流装置
本发明涉及半导体行业生产领域,具体地说是一种半导体设备用滤风整流装置。该装置设置于供风系统与作业区域之间,包括滤风整流箱和整流板,其中滤风整流箱的一侧面上设有与供风系统相对应的滤风整流箱入风口,所述滤风整流箱的底部均布有...
郭聪
胡延兵
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一种排风稳压器及其排风稳压方法
本发明涉及一种排风稳压器及其排风稳压方法,排风稳压器的主管道串联在厂务端与设备端之间,在主管道上设有阀板安装块;主管道靠近厂务端的一端内设有风扇,靠近设备端的另一端设有测量孔接头,压力传感器安装在测量孔接头的上方;阀板安...
刘莹
施强
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涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构
本实用新型涉及涂胶显影单元工作臂的改进技术,具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的各工作臂的可分控作业及可交叉作业结构,解决涂胶、显影单元中实现工作臂的上下动作结构复杂,工作效率低等问题。涂胶单元或显影单元的基座一...
王阳
文献传递
一种不同尺寸基板喷涂用支撑加热装置
本发明涉及半导体处理系统中对基板处理设备,具体地说是一种不同尺寸基板喷涂用支撑加热装置,加热支撑盘内设有真空通道,在加热支撑盘的表面上均布有与真空通道相连通的真空孔;盘体支撑轴与加热支撑盘相连,真空通道通过盘体支撑轴与真...
程虎
一种防止晶片翘曲的烘烤装置及其烘烤方法
本发明涉及在芯片制造用基片加工过程中对基片涂敷保护材料加热烘干的设备,具体地说是一种防止晶片翘曲的烘烤装置及其烘烤方法,装置包括上部加热盘、顶针、下部加热盘及工作台,下部加热盘安装在工作台上,在下部加热盘上插设有上下升降...
张怀东
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一种半导体热盘上的陶瓷球微调装置
本发明涉及半导体生产设备中提高热盘性能指标的装置,具体地说是一种半导体热盘上的陶瓷球微调装置。包括底板、二维移动平台、热盘、陶瓷球、陶瓷球挤压装置、升降机构及真空吸取装置,其中热盘设置于底板上、并盘体上设有多个分别容置于...
尹硕
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光刻胶喷嘴更换辅助定位半自动固定装置
本发明涉及半导体领域,具体为一种用以在半导匀胶显影设备中光刻胶喷嘴更换辅助定位半自动固定装置,用以在多光刻胶喷嘴手动更换时的辅助定位和半自动固定,达到更换方便,适应多喷嘴更换,定位准确,固定结实的优点。该装置设有光刻胶喷...
王阳
后道匀胶机胶嘴结晶问题分析
2017年
文章对半导体后道工艺所用匀胶机胶嘴结晶的问题进行了分析,提出了Dummy及保湿两种具体解决结晶问题的方法,并通过两种方法共同作用,初步解决了胶嘴结晶问题,经过工艺现场测试验证了其有效性。
刘正伟
徐春旭
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