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武汉大学理学院加速器实验室

作品数:2 被引量:0H指数:0
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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化镓
  • 1篇电特性
  • 1篇电性质
  • 1篇异质结
  • 1篇深能级
  • 1篇深能级缺陷
  • 1篇碳60
  • 1篇能级
  • 1篇离子注入
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇光电性质
  • 1篇发光
  • 1篇SI异质结
  • 1篇GAN材料
  • 1篇掺杂
  • 1篇C_(60)

机构

  • 2篇武汉大学

作者

  • 1篇罗海林
  • 1篇傅德君
  • 1篇雷园园
  • 1篇王琼

传媒

  • 1篇太阳能学报
  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇1999
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
离子-C_(60)相互作用及其对C_(60)/Si异质结光电特性的影响
1999年
用离化团簇束(ICB)沉积法制备了C60薄膜。XRD测试表明,膜呈多晶结构;原位电阻测试表明,膜的室温电阻率超过103Ωcm,具有负的电阻温度系数。用80keVp+,BBr3+,Ar+和He+对C60膜作剂量范围为0—1016cm-2的离子注入,C60膜的电阻率随注入剂量的增加而下降,p+注入使膜呈n型电导,离子与C60团簇的相互作用导致C60分裂,并使膜表面非晶化。在沉积过程中溅射掺Al得到p型C60膜。C60/Si样品具有明显的异质结特性,光照对结特性有明显响应。
雷园园傅德君李金钗郭怀喜叶明生范湘军
关键词:光电性质异质结
GaN材料中离子注入的研究进展
1999年
综述了GaN材料中离子注入的研究进展,重点介绍了离子注入技木在 GaN材料中的发光(PL,EL,CL)研究,注入隔离,p-型/n-型掺杂和深能级缺陷研究中的应用。
罗海林王琼雷圆圆范湘军
关键词:离子注入发光掺杂深能级缺陷氮化镓
共1页<1>
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