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文献类型

  • 6篇专利
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  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇电子控制
  • 2篇有机化合物
  • 2篇碲镉汞
  • 2篇尾气
  • 2篇尾气处理
  • 2篇金属
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  • 2篇化合物
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  • 2篇报警
  • 2篇
  • 2篇MOCVD
  • 1篇倒置式
  • 1篇导气
  • 1篇底片
  • 1篇电偶
  • 1篇形貌
  • 1篇蒸发

机构

  • 9篇中国科学院

作者

  • 9篇何进
  • 8篇马可军
  • 7篇俞振中
  • 7篇沈寿珍
  • 6篇许平
  • 2篇匡定波
  • 2篇杨建荣

传媒

  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇第3届全国微...

年份

  • 1篇1999
  • 4篇1998
  • 1篇1996
  • 1篇1994
  • 1篇1992
  • 1篇1991
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
MOCVDHgCdTe中杂质的SIMS分析
何进杨建荣马可军
关键词:三元合金半导体材料质谱法离子微探针分析
金属有机化合物气相沉积技术倒置式生长反应器
本实用新型提供了一种金属有机化合物气相沉积技术倒置式生长反应器。在水平式常压开管腔体内,置有石英搁架,外延衬底片放置在搁架上。加热石墨块紧贴衬底,置于衬底片上方。衬底片外延面朝向下面的反应物主气流。在前部的Hg池上方,设...
何进俞振中马可军沈寿珍许平
文献传递
HgCdTe/CdTe/GaAs MOCVD 生长中的若干问题研究-生长机制,Ga、As自掺杂与MO源热分解
何进
一种自补给汞源装置
本实用新型提供了一种MOCVD技术生长碲镉汞薄膜材料用的自补给汞源装置。其主体为一个具有双池的石英器皿,一池在加热时产生汞蒸汽,另一为贮汞池,二者由小管相通。热电偶插至蒸发汞舟中部的石英热偶管内以精确控温。贮汞池的汞液通...
俞振中马可军何进沈寿珍许平
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一种薄膜晶体生长装置
本实用新型提供一种改进的具有二个生长腔体的金属有机化合物气相沉积薄膜晶体生长装置,由气体供给部分、尾气处理部分、电子控制部分、安全报警部分、反应生长腔体及加热部分组成。其特点是:一个腔体为倒置式生长结构,采用高频加热方式...
俞振中马可军何进沈寿珍许平
文献传递
一种可调温度场的加热装置
本实用新型提供了一种可调温度场的加热装置,在平面辐射加热装置上设置以二条相平行的轴,在每条轴上设置有一组翅状辐射板,每组辐射板的个数视需要为1至几十个,每个辐射板能绕自己的转轴转动和于不同角度处调节定位,通过调节反射板能...
马可军俞振中何进沈寿珍许平匡定波
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气垫式衬底旋转装置
本实用新型提供了一种金属有机化合物气相沉积技术生长腔气垫式衬底旋转装置。在半圆柱状的基座上配置气垫,气垫和旋片之间用转轴支撑,在旋片上置放衬底。气垫上设置喷气口和涡流状导气槽,旋转驱动气流由基座后面的进气口注入,进入气垫...
马可军匡定波何进俞振中沈寿珍许平
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MOCVD-Hg_(1-x)Cd_xTe/CdTe/GaAs外延材料红外吸收光谱研究被引量:2
1994年
从理论上完成对MOCVD工艺生长的HgCdTe/CdTe/GaAs材料的透过率、吸收边和相干行为的计算.结果表明光的干涉条纹与外延层HgCdTe和缓冲层CdTe的总厚度相关,其透过率不能直接反映材料的内在质量.计算结果还表明,外延材料组份的均匀性对红外光谱的吸收边有很大的影响.运用理论计算对实验中测得的光谱曲线进行了分析,发现MOCVD工艺存在着一种部分过饱和态的生长机制,并发现负禁带HgTe薄膜也具有一定的透光特性.
杨建荣何进沈寿珍马可军俞振中
关键词:碲镉汞红外材料
金属有机化合物气相沉积薄膜晶体生长装置
本发明提供了一种改进的金属有机化合物气相沉积薄膜晶体生长装置,由气体供给部分、尾气处理部分、电子控制部分、安全报警部分及多个可通过阀门切换的反应生长腔体及加热部分组成。该装置已成功地生长出HgCdTe单晶膜并已试制成功性...
俞振中马可军何进沈寿珍许平
文献传递
共1页<1>
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