周小红
- 作品数：53 被引量：71H指数：5
- 供职机构：苏州大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省“六大人才高峰”高层次人才项目国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学轻工技术与工程更多>>
- 基于DMD微光刻的导光板模板的制作方法被引量：3
- 2009年
- 提出了一种基于数字微反射镜(DMD)微光刻的导光模板的制作方法。导光板的网点单元图形由DMD输入,经过缩微光学成像系统缩微后,在光刻胶干板上逐单元网点曝光,再经过显影、微电铸得到导光板模板,在PC薄板材上用微纳米压印制成导光板,厚度仅为0.381 mm。采用自行研制的SVGwriting-DMD激光直写系统,图形的最小分辨率为2μm,DMD微光刻法无需掩膜版,可实现不同形状、大小、微结构的单元网点图形及网点的排布,便于大幅面的导光板模板的制作。
- 李晓建朱冀梁申溯周小红陈林森
- 关键词：激光直写导光板
- 一种LED面板灯及LED面板灯的制作方法
- 本发明公开一种LED面板灯，包括柔性基膜、设置在所述柔性基膜上的多个电路、设置在所述柔性基膜上的多个LED灯珠，每一所述电路至少连接1个LED灯珠，所述电路至少设有2条相互平行的导电线，其中，所述导电线由多条次级导电线组...
- 基亮亮刘麟跃周小红
- 多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构被引量：2
- 2009年
- 使用波长351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源,经过位相光栅分束,形成干涉光场,在硅表面直接刻蚀微结构,制作了周期为0.55μm,槽深可达55nm的一维微光栅和周期为1.25μm,刻蚀深度45nm的正交微光栅结构.给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果.正交微光栅的一级衍射效率在1.8%～6.3%之间.该研究是改变硅表面微结构,优化硅材料特性的一种新方法,并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用.
- 朱冀梁张恒陈林森李晓建周小红
- 关键词：衍射效率
- 一种光学元件成型装置
- 本实用新型公开了一种光学元件成型装置，包括：底座、成型筒和固定框，所述底座的上方安装有支撑架，且支撑架的上方滑动连接有滑动平台；所述成型筒通过安装机构与安装筒相连接，其中安装机构包括连接块和安装帽，所述连接块和安装帽螺纹...
- 冷江刘全周小红 王可欣陈志伟
- 一种导电膜的层间架桥结构及其制备方法
- 本发明公开了一种导电膜的层间架桥结构及其制备方法，所述导电膜的层间架桥结构包括基底；第一结构层，其包括第一导电区；第二结构层，其包括第一导电连接区；架桥区，其设置在所述第一结构层和第二结构层之间，所述架桥区同时与所述第一...
- 基亮亮刘麟跃周小红
- 文献传递
- 一种基于散斑结构的全息显示屏
- 2007年
- 提出一种全息平面显示屏的设计和制作方法。显示屏由全息像素单元组成,每一个像素单元都基于散斑的像面全息结构,其中基元光栅起到调制入射光并定向衍射成像的作用。分析了显示屏的视场特性,数值模拟了记录参考光不同入射角度和起限制垂直方向视场作用的狭缝的宽度对再现散斑像的影响。制作出幅面大小为600 mm×800 mm(约40″),厚度为1.5 mm的普通投影全息显示屏,给出相应的制作流程和制作参数。结果表明,全息显示屏具有高亮度和消色散的优点,浮雕型结构便于进行大幅面的快速微纳米压印复制,使得所提出的显示屏具有低成本的工艺优势。
- 周雷吴智华浦东林申溯周小红陈林森
- 关键词：全息散斑场
- 双屏触控一体机
- 1．本外观设计产品的名称：双屏触控一体机。;2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于显示信息及人机交互。;3．本外观设计产品的设计要点：在于本外观设计产品的整体形状。;4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体...
- 杨菊芬周小红严立祥付佳宾
- 无掩模激光混合图形化直写光刻关键技术及应用
- 浦东林朱鹏飞周小红胡进魏国军张瑾方宗豹杨颖朱昊枢王钦华陈林森
- 主要技术内容：该项目是微纳制造方法、技术和装备的原始创新。学科：电子、通信与自动控制技术。微纳图形化直写技术是从设计数据到原始微纳结构获得(Data-＞Structure)的必要手段，中国微纳装备依赖进口，性能和数量不足...
- 关键词：
- 一种导光膜制作装置
- 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的...
- 吴智华周小红方宗豹申溯魏国军浦东林陈林森
- 微纳柔性制造与印刷电子材料被引量：6
- 2014年
- 微纳加工技术主要应用在光电子和IC领域,随着国际新一轮印刷电子技术的发展,电路线宽越来越细,对印刷电子材料与应用技术提出更高要求,传统印刷术很难实现数微米以下精密电路。针对国际行业研究现状、工艺及最新进展,详细阐述微纳柔性制造技术的原理与特点。基于微纳图形化激光直写光刻技术、卷对卷纳米压印技术及其配套(微纳填充、转印和软压印)技术,以大尺寸透明导电材料的研发为例,微纳柔性制造在106.68 cm幅面上使印刷电路的线宽达到1.5μm。微纳柔性制造方法属于"加法"制造。展望了柔性制造在印刷电子材料产业发展中的前景和需求,指出微纳柔性制造与印刷材料的结合,有可能成为新一轮大尺寸柔性显示与触控、传感器件等产业发展的有力工具和推动性力量。
- 刘艳花申溯周小红方宗豹浦东林朱鹏飞陈林森
