张一志
- 作品数：4 被引量：10H指数：2
- 供职机构：同济大学更多>>
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- 相关领域：理学更多>>
- 氮气反应溅射制备软X射线Co/Ti多层膜被引量：9
- 2015年
- 针对“水窗”波段（280～540 eV）对多层膜反射镜的应用需求,在Ti的L吸收边（452.5 eV）附近,优化设计了Co/Ti多层膜的膜系结构.计算了不同界面粗糙度条件下的反射率,结果显示,界面粗糙度对多层膜反射率有较大影响.采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制备了Co/Ti多层膜,通过将氮气引入原有的溅射气体氩气中作为反应气体,明显减小了制备的多层膜的界面粗糙度.利用X射线掠入射反射实验和透射电子显微镜测试了多层膜结构,并在北京同步辐射装置（BSRF）3W1B实验站测量了不同氮气浓度下多层膜的反射率.结果显示,氮气含量为5％的溅射气体制备的多层膜样品反射率最高,即将纯氩气溅射制备得到的反射率9.5％提高到了12.0％.得到的结果表明,将氮气加入反应溅射气体可以有效改善Co/Ti多层膜的性能.
- 朱京涛岳帅鹏涂昱淳张一志
- 关键词：磁控溅射反应溅射反射率
- 氮气反应溅射制备Co/Sb多层膜研究被引量：2
- 2014年
- 针对"水窗"波段(280~540eV)对多层膜反射镜的应用需求,在Sb的M5吸收边(525.5eV)附近,选择Co和Sb作为该能点的多层膜材料组合,优化设计膜系结构。采用直流磁控溅射方法制备了Co/Sb多层膜,通过在溅射气体氩气中引入氮气作为反应气体,多层膜界面粗糙度明显减小。利用X射线掠入射反射(GIXRR)测试多层膜结构,并在北京BSRF同步辐射3W1B实验站测量了反应溅射前后的多层膜反射率(SXR),结果表明:氮气含量为25%时的界面粗糙度最小,反射率从无反应溅射的7.2%提高到11.7%。
- 岳帅鹏朱京涛涂昱淳张一志
- 关键词：反应溅射多层膜COSB
- 共溅射制备W_xSi_(1-x)/Si多层膜应力的实验研究
- 2015年
- 采用直流磁控溅射技术制备了周期厚度为27.5nm的W/Si多层膜,使用实时应力测量装置对其应力特性进行了研究。为降低膜层应力,采用W、Si共溅射技术制备WxSi1-x膜层替换W膜层,制备出WxSi1-x/Si多层膜,与W/Si多层膜的应力特性进行了比较研究。结果表明,W/Si多层膜为较大的压应力,测量值为-476.86 MPa,WxSi1-x/Si周期多层膜为较小的压应力,测量值为-102.84MPa。因此采用共溅射制备WxSi1-x代替W可以显著改善多层膜的应力特性。
- 冀斌张一志朱京涛吴文娟
- 关键词：应力多层膜磁控溅射X射线
- 不同溅射气压制备W/Si多层膜的实时应力研究
- 2015年
- 研究了不同溅射气压条件下磁控溅射制备W/Si多层膜过程中的应力变化,使用X射线衍射仪测量了多层膜的结构,使用实时应力测量装置研究W/Si多层膜沉积过程中的应力演变。结果表明,在溅射气压从0.05Pa增加到1.10Pa的过程中,薄膜沉积过程中产生的压应力不断减小并最终过渡为张应力,应力值在溅射气压为0.60Pa时最小,研究结果对减小膜层应力具有指导意义。
- 张一志冀斌叶天明陈进文朱京涛吴文娟
- 关键词：应力多层膜磁控溅射溅射气压
