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陈进文

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：同济大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇多层膜
  • 1篇应力
  • 1篇应力研究
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射气压
  • 1篇SI
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇W

机构

  • 1篇上海应用技术...
  • 1篇同济大学

作者

  • 1篇张一志
  • 1篇朱京涛
  • 1篇吴文娟
  • 1篇叶天明
  • 1篇冀斌
  • 1篇陈进文

传媒

  • 1篇光学仪器

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
不同溅射气压制备W/Si多层膜的实时应力研究
2015年
研究了不同溅射气压条件下磁控溅射制备W/Si多层膜过程中的应力变化,使用X射线衍射仪测量了多层膜的结构,使用实时应力测量装置研究W/Si多层膜沉积过程中的应力演变。结果表明,在溅射气压从0.05Pa增加到1.10Pa的过程中,薄膜沉积过程中产生的压应力不断减小并最终过渡为张应力,应力值在溅射气压为0.60Pa时最小,研究结果对减小膜层应力具有指导意义。
张一志冀斌叶天明陈进文朱京涛吴文娟
关键词：应力多层膜磁控溅射溅射气压
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