陈入领
- 作品数：16 被引量：7H指数：2
- 供职机构：东华大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：化学工程机械工程轻工技术与工程自动化与计算机技术更多>>
- 含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物及其制备方法
- 本发明公开了一种含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.003~1.78%还原剂有机胺类化合物、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯...
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- 文献传递
- 原子级光滑表面的制造技术与机理研究被引量：1
- 2011年
- 报告中国国家重点基础研究发展计划（973计划）项目《高性能电子产品设计制造精微化、数字化新原理和新方法》中有关于原子级光滑表面制造的基础研究中所取得的进展和阶段性成果。包括CMP的若干关键技术的突破，化学机械抛光的机理研究，CMP中纳米粒子行为的计算机模拟和实验研究。开展原子级光滑表面制造和化学机械抛光开展的实验研究，理论分析和计算机模拟。内容包括固体磨粒材料的选择，磨粒的表面修饰和分散，磨粒大小和含量的优化；抛光液中氧化剂，络合剂，缓释剂和其它化学助剂的作用机理；抛光压力速度等T艺参数的优化，抛光中纳米粒子的行为以及纳米团簇一硅基体碰撞过程的分子动力学模拟，纳米粒子与基体的冲击实验，抛光过程和二相流动中纳米粒子运动的荧光跟踪观察等。研究结果表明，抛光液中的固体磨粒对抛光中的材料去除和高质量表面的形成具有重要的贡献。减小颗粒的粒径一般有利于改善表面质量，但关键是保证粒子的大小均匀，因为大颗粒容易造成表面划痕或缺陷。通过对固体磨粒的含量和大小尺寸的优化，可以获得高质量的抛光表面、同时保证较高的抛光去除速率。除了固体磨粒外．抛光液中还包含氧化剂，络合剂，缓释剂，以及多种化学助剂。氧化剂与抛光工件表面发生化学反应形成软质钝化层，以便通过抛光垫和磨粒的机械作用加以去除，形成“氧化一去除一氧化”的材料去除循环。但钝化层的形成阻碍了氧化反应过程的继续发展，络合剂的作用是与氧化反应产物形成流动性较好的络合物，从而增加了钝化层的化学活性，使氧化反应和材料去除得以继续发展。高品质的抛光液的研制取决与对抛光液中各种化学成分的精心调配和长期的潜心试验。我们在计算机磁头，磁盘基片�
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- 关键词：化学机械抛光抛光液材料去除机理摩擦学分子动力学模拟
- 无磨粒化学机械抛光的研究进展
- 粒化学机械抛光AFP(Abrasive-free ChemicalMechanical Polishing)技术由于克服了传统化学机械抛光(CMP)中纳米磨粒引起的微观划痕、凹陷、颗粒残余等缺点,引起了研究者的广泛关注,...
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- 关键词：金属工业工艺参数
- 一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物
- 本发明涉及一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的酸性清洗液组合物。本发明酸洗液组合物的组成及其重量百分如下：酸1～8％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0....
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- 薄膜蒸发器内流场分布与传输特性数值模拟研究
- 2023年
- 为深化薄膜蒸发器内液料传输特性方面的研究,通过Fluent数值模拟软件建立薄膜蒸发器内气液两相流三维稳态数值模拟模型,探究薄膜蒸发器内液料的径向混合和轴向传输特性,并进一步探讨液料黏度对这两个方向传输特性的影响。结果表明:圈形波与液膜的交界处为层流且夹带大量气体;圈形波的轴向流速比液膜快,并在轴向传输过程中剪切稀化,促进液料的径向混合,液料逐渐进入液膜,圈形波当量直径不断减小;液料黏度增大后,交界处的气体夹带量增多,圈形波的尺寸随之增大但轴向减小趋势不变,且减小的速度变慢;液料黏度的增大使得圈形波与液膜间的径向混合受到抑制,圈形波逐渐变成轴向传输的主力。
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- 关键词：薄膜蒸发器两相流假塑性流体
- 单螺杆挤出的进料均匀性分析及其结构优化设计被引量：4
- 2022年
- 螺杆挤出设备因其自身结构简单、设备能耗低等优点,在橡胶塑料、纤维成型等领域被广泛使用。但实际生产中螺杆的进口总会出现进料不均匀、不连续的情况。因此,采用Fluent软件对单螺杆挤出机中聚合物的三维等温流场进行数值模拟,探究了均匀进料和不均匀进料对聚合物流场的影响,并针对不均匀进料的不良影响,对螺杆的导程和螺棱间隙进行优化改进。研究结果表明,进料的不均匀性会增大物料反应过程中的死区占比和停留时间,同时出口流量的稳定性也会遭到破坏,而适当增大螺杆导程和螺棱间隙可有效改善以上问题,加强挤出螺杆的轴向输送能力,提升产品的生产质量。
- 朱玉珩黄瑶邹鲲陈入领彭倚天
- 关键词：螺杆间隙
- 一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液
- 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛...
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- 文献传递
- 镧元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法
- 本发明公开了镧元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法，该复合磨粒的组成及其重量百分比含量如下：镧元素化合物为？0.1～5%；氧化硅溶胶为99.9～95%？；制备过程为：首先，将镧元素通过共沉淀的方法掺杂到氧...
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- 文献传递
- 镁元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒、抛光液及其制备方法
- 本发明涉及一种镁掺杂二氧化硅溶胶的复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒的制备方法为：质量分数为1.1wt%的硝酸镁溶液和2.5wt%的硅酸溶液按质量比1:1混合，通过共沉淀法沉淀在二氧化硅晶种上。溶胶中的复合颗...
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- 文献传递
- 含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法
- 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒...
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