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李东海

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇星型
  • 2篇星型结构
  • 2篇塔架
  • 2篇涂胶
  • 2篇显影
  • 2篇六边形
  • 2篇晶片
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体晶片
  • 1篇电动
  • 1篇电路
  • 1篇电路制造
  • 1篇气缸
  • 1篇气缸位置
  • 1篇开关
  • 1篇开关量
  • 1篇开关量信号
  • 1篇控制精度
  • 1篇集成电路
  • 1篇集成电路制造

机构

  • 4篇沈阳芯源微电...

作者

  • 4篇李东海
  • 1篇郑春海
  • 1篇徐春旭
  • 1篇张军
  • 1篇张怀东
  • 1篇宗润福
  • 1篇陈焱
  • 1篇王绍勇
  • 1篇刘正伟
  • 1篇苗涛

年份

  • 2篇2009
  • 2篇2008
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种电动气缸的位置控制装置
本实用新型涉及一种电动气缸的位置控制装置，电动气缸由步进电机驱动，以PLC为控制核心，其输入端与电动气缸控制器的输出端相连，PLC的输出端接有电动气缸位置参数设定点、电动气缸执行点及电动气缸暂停点，PLC通过通讯模块与电...
李东海李孟鸿
文献传递
星型结构的涂胶显影设备
本实用新型公开一种在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影工艺处理设备的结构。设备由盒站模块、第一涂胶或显影模块、第二涂胶或显影模块、第一热处理模块、第二热处理模块、传送机器人组成；所述盒站模块是由2个盒站单元...
胡延兵李东海
文献传递
集成电路制造匀胶显影设备
宗润福胡延兵徐春旭王绍勇郑春海张军苗涛陈焱张怀东李东海刘正伟
匀胶显影(又称Track系统)是集成电路制造的关键设备之一，用于集成电路制造光刻工艺中晶圆的涂胶和显影。该成果技术指标达到了预期目标：　　1.满足线宽工艺达到0.25微米　　2.涂胶考核均匀度：10000±25　　3.光...
关键词：
关键词：集成电路
星型结构的涂胶显影设备
本发明公开一种在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影工艺处理设备的结构。设备由盒站模块、第一涂胶或显影模块、第二涂胶或显影模块、第一热处理模块、第二热处理模块、传送机器人组成；所述盒站模块是由2个盒站单元和1...
胡延兵李东海
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