王军生
- 作品数：15 被引量：9H指数：2
- 供职机构：中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- 大面积PET基中频反应磁控溅射沉积TiN隔热薄膜实验研究被引量：1
- 2011年
- 本文讨论在柔性基材PET上沉积氮化钛(TiN)阳光控制膜——作为隔热薄膜。"隔热"是指对红外光区的有效阻隔。氮化钛(TiN)薄膜具有光谱选择透过性,因此可以作为阳光控制薄膜使用。实验采用中频孪生靶磁控溅射实验装置,在等离子体辐射监视系统(PEM)的控制下,在大面积PET柔性基材上沉积TiN隔热薄膜。实验主要研究了制备不同透光率的PET基TiN隔热膜并观察薄膜表面状况;对沉积的TiN薄膜用分光光度仪进行光谱透过率分析并计算各种透过率薄膜的光学性能参数,比较不同透过率的隔热效果;为了对该隔热薄膜的化学稳定性进行分析,还做了耐酸碱性测试。通过本实验为以后的大规模工业产业化发展奠定良好的基础。
- 翟玉涛戴彬王军生韩大凯王治安
- 关键词：阳光控制反应溅射
- PEM控制中频反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的研究被引量：2
- 2011年
- 采用中频反应磁控溅射孪生靶在玻璃基体上沉积TiO2薄膜。沉积过程中采用多路送气和等离子体发射光谱监测控制系统，使整个反应溅射过程维持在“过渡区”，从而快速稳定获得均匀高质量的TiO2薄膜，沉积速度在50nm／min以上。随着SP值的增加，沉积速率的增加呈线性关系。通过比较不同SP值制备的TiO2薄膜的光谱图发现，快速稳定地沉积TiO2薄膜的SP值大致在2．5～3．8范围内。
- 王治安王军生童洪辉
- 关键词：TIO2过渡区PEM
- 磁控溅射柔性覆铜基板及制备其的磁控溅射装置
- 本实用新型公开了一种磁控溅射柔性覆铜基板，包括柔性基材，在柔性基材上通过在中毒模式下反应磁控溅射镀有钛氧化物镀层，在钛氧化物镀层上通过磁控溅射工艺镀有铜镀层。本实用新型还公开了一种用于制备上述磁控溅射柔性覆铜基板的磁控溅...
- 刘维王军生陈璐瑶
- 文献传递
- PEM控制中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的研究
- 2012年
- 在中频孪生靶反应磁控溅射实验装置上,用PEM控制沉积TiO2薄膜,实验了靶基距、电流与沉积速率的关系。实验得出,靶基距为112 mm时沉积速率最大,沉积速率与电流基本成线性比例关系。在溅射电流30 A,靶基距112 mm,设置点2.5时,测量了基片随时间的温升变化。然后以自然温升的单晶硅为基片,实验研究了设置点对TiO2薄膜晶体结构、折射率的影响。实验结果表明,设置点越高溅射沉积的薄膜金红石相越多,折射率也越高。
- 王军生童洪辉韩大凯王治安
- 关键词：PEM磁控溅射TIO2沉积速率
- 隔热膜
- 本发明属于隔热膜技术领域，具体涉及一种隔热性能好，且内可见光反射率低、外可见光反射率适中的准单向透视隔热膜。单基材结构隔热膜依次包括硬化层、第一基材层、化合物镀层、金属镀层、压敏胶层和防粘层；双基材结构隔热膜依次包括硬化...
- 王军生王治安童洪辉
- 文献传递
- 一种阳极层线性离子源
- 本实用新型属于离子束，具体涉及一种适用于离子束清洗和离子束刻蚀的阳极层线性离子源。它包括阴极底板，阴极底板上固定有阴极框，阴极框的顶部固定有阴极外顶板和阴极内顶板，所述的阴极外顶板与阴极内顶板之间设有一开口，阴极内顶板与...
- 韩大凯童洪辉戴彬刘晓波饶敏赵军徐丽云王军生
- 文献传递
- 双层PET结构隔热膜
- 本发明属于隔热膜技术领域，具体涉及一种双层PET结构隔热膜。该隔热膜为层状组合结构，从下至上依次包括：起保护作用的硬化涂层、无色透明的第一PET层、设在第一PET层上的起隔热作用的镀膜层A、第一胶层、透明的第二PET层、...
- 王军生童洪辉陈庆川刘维赵嘉学
- 文献传递
- 隔热膜
- 本实用新型属于隔热膜技术领域，具体涉及一种隔热性能好，且内可见光反射率低、外可见光反射率适中的准单向透视隔热膜。单基材结构隔热膜依次包括硬化层、第一基材层、化合物镀层、金属镀层、压敏胶层和防粘层；双基材结构隔热膜依次包括...
- 王军生王治安童洪辉
- 文献传递
- 一种软胶面沟槽展平辊
- 本实用新型属于一种展平辊，具体涉及一种适用于镀膜，涂布，复合，印刷等行业，对柔性基材进行展平使用的软胶面沟槽展平辊。它包括芯轴，芯轴外包有软胶面，在所述的软胶面上开有环状矩形槽，环状矩形槽在软胶面呈等间距排布，环状矩形槽...
- 戴彬韩大凯刘晓波赵军胡德福王军生
- 文献传递
- 等离子体发射监控系统参与的中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的实验研究被引量：2
- 2009年
- 在一个孪生靶实验装置上进行了中频反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的工艺实验。得到了一组真实的反应溅射TiO2薄膜的沉积速率和真空与反应气体流量之间关系的迟滞曲线(无等离子体发射监控系统Plasma Emission Monitoring,PEM)参与。介绍了PEM参与下的反应溅射TiO2的一些实验现象和结果,此时TiO2的沉积速率与PEM设定值呈很好的线性关系,反应溅射可以稳定在过渡态的任一工作点。设定值是PEM控制系统最关键的参数,直接决定着控制的可靠性、反应溅射速率以及薄膜的微观结构。结果表明,为了得到标准化学配比的反应物,PEM的设定值不能超过某个极限值。要在保证化学配比也就是反应物的成分或结构的前提下提高沉积速率才有意义。
- 赵嘉学王军生
- 关键词：设定值
