您的位置: 专家智库 > >

赵嘉学

作品数:10 被引量:82H指数:4
供职机构:中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇专利
  • 2篇会议论文

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 2篇等离子体增强
  • 2篇等离子体增强...
  • 2篇镀膜
  • 2篇孪生
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇TIN
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛涂层
  • 1篇镀膜机
  • 1篇镀膜技术
  • 1篇压敏
  • 1篇真空镀
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇真空镀膜技术
  • 1篇柔性基材

机构

  • 10篇中国核工业集...

作者

  • 10篇赵嘉学
  • 7篇童洪辉
  • 5篇王军生
  • 5篇陈庆川
  • 3篇戴彬
  • 3篇王珂
  • 3篇金凡亚
  • 2篇刘晓波
  • 2篇沈丽如
  • 1篇刘维
  • 1篇徐丽云
  • 1篇饶敏
  • 1篇胡德福

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇金属热处理
  • 1篇核聚变与等离...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第五届中国热...
  • 1篇第十三届全国...

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2004
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
常见磁控溅射靶材利用率及其计算方法的探讨被引量:17
2007年
探讨了矩形平面、圆形平面和圆柱管这三种常见磁控溅射源的靶材极限利用率的理论计算方法,推出了利用率的近似计算公式,分析了影响利用率的因素。跑道刻蚀形状(宽度和收缩系数)强烈影响平面类静态靶的极限利用率。旋转磁场圆柱管靶材的极限利用率主要决定于靶的自身几何尺寸(壁厚、长度和管径),与跑道的刻蚀形状(即外界的物理因素)几乎没有关系。
赵嘉学金凡亚
一种柔性基材卷绕镀膜机的冷鼓系统
本实用新型属于真空镀膜技术领域,特别涉及一种柔性基材镀膜机的冷鼓系统。目的是提供一种易于使用的冷鼓系统。它包括:冷鼓轴(14)、焊接于冷鼓轴(14)上的圆柱形冷鼓(15)、进出水隔离管(9);冷鼓(15)整体为圆柱形,其...
刘晓波戴彬陈庆川韩大凯胡德福王珂赵嘉学
文献传递
等离子体发射监控系统参与的中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的实验研究被引量:2
2009年
在一个孪生靶实验装置上进行了中频反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的工艺实验。得到了一组真实的反应溅射TiO2薄膜的沉积速率和真空与反应气体流量之间关系的迟滞曲线(无等离子体发射监控系统Plasma Emission Monitoring,PEM)参与。介绍了PEM参与下的反应溅射TiO2的一些实验现象和结果,此时TiO2的沉积速率与PEM设定值呈很好的线性关系,反应溅射可以稳定在过渡态的任一工作点。设定值是PEM控制系统最关键的参数,直接决定着控制的可靠性、反应溅射速率以及薄膜的微观结构。结果表明,为了得到标准化学配比的反应物,PEM的设定值不能超过某个极限值。要在保证化学配比也就是反应物的成分或结构的前提下提高沉积速率才有意义。
赵嘉学王军生
关键词:设定值
影响磁控溅射均匀性的因素
用中频孪生靶磁控溅射实验平台,对影响磁控溅射生成的薄膜厚度均匀性的因素进行了实验。结果表明,磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。针对实验结果,提出了用磁场和气体相互配合达到高的镀膜均匀性。
王军生童洪辉赵嘉学韩大凯戴彬
关键词:磁控溅射磁场气体均匀性
文献传递
磁控溅射原理的深入探讨被引量:59
2004年
从更深层次——电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因。对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及原因。
赵嘉学童洪辉
关键词:磁阻力磁控溅射镀膜
双层PET结构隔热膜
本发明属于隔热膜技术领域,具体涉及一种双层PET结构隔热膜。该隔热膜为层状组合结构,从下至上依次包括:起保护作用的硬化涂层、无色透明的第一PET层、设在第一PET层上的起隔热作用的镀膜层A、第一胶层、透明的第二PET层、...
王军生童洪辉陈庆川刘维赵嘉学
文献传递
电源工作模式对中频磁控溅射沉积速率的影响被引量:4
2009年
在中频孪生靶磁控溅射实验装置上,研究了电源恒压、恒流、恒功率工作模式下沉积速率与气压、电参数之间的关系,得出不同工作模式下电压、电流、功率及频率、占空比对沉积速率的影响:恒流模式下沉积速率稳定性最好,恒压最差;气压变化时,恒功率、恒流工作模式有稳定沉积速率作用;恒流模式下,沉积速率随占空比升高而减小,随频率升高而增大。
王军生童洪辉赵嘉学戴彬
关键词:磁控溅射沉积速率
内表面等离子体增强化学气相沉积TiN涂层研究被引量:6
2008年
介绍了一种新型等离子体增强化学气相沉积内表面复合处理系统。利用此系统沉积TiN涂层的结果表明,100mm×1000mm316不锈钢管内表面沉积涂层相对均匀,且具有较好的表面特性和机械特性。
金凡亚王珂赵嘉学沈丽如陈庆川童洪辉
关键词:等离子体增强化学气相沉积内表面
大面积孪生磁控溅射源
本新型属于溅射源装置,具体涉及一种大面积孪生磁控溅射源。它包括V型支撑板,在V型支撑板的每个板面上均设有一个屏蔽罩,两个屏蔽罩之间形成气路组合,屏蔽罩与V型支撑板形成的空腔内设有磁控溅射源,与V型支撑板之间设有绝缘垫板,...
韩大凯童洪辉陈庆川刘晓波王军生赵嘉学徐丽云饶敏
文献传递
内表面等离子体增强化学气相沉积TiN涂层研究
介绍了一种新型等离子体增强化学气相沉积内表面复合处理系统.利用此系统沉积TiN涂层的结果表明,φ100 mm×1000 mm 316不锈钢管内表面沉积涂层相对均匀,且具有较好的表面特性和机械特性。
金凡亚王珂赵嘉学沈丽如陈庆川童洪辉
关键词:等离子体增强化学气相沉积氮化钛涂层表面特性机械特性
文献传递
共1页<1>
聚类工具0