谢毅柱
- 作品数：6 被引量：12H指数：3
- 供职机构：兰州大学更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金国家自然科学基金湛江师范学院科学研究基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>
- 溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
- 2012年
- HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
- 马紫微苏玉荣谢毅柱赵海廷刘利新李健谢二庆
- 基于柔性电子学的复眼照相机的制备
- 生物的眼睛是一个不同寻常的视觉器件,具有许多吸引人的特性,其中最引人注目的是曲面的感光元件阵列——视网膜。这个特性在各种不同生物眼睛上都能找到。正是由于这个特性,赋予了生物眼睛许多不同寻常的视觉能力,比如说宽视角,低相差...
- 谢毅柱
- 文献传递
- 衬底温度对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：4
- 2010年
- 采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500℃下制备了HfO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UVvis)研究了衬底温度对HfO2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。XRD研究结果显示:不同衬底温度下制备的HfO2薄膜均为单斜多晶结构;随衬底温度的升高,(-111)面择优生长更加明显,薄膜中晶粒尺寸增大。SE和UVvis研究结果表明:随衬底温度升高,薄膜折射率增加,光学带隙变小;制备的HfO2薄膜在250～850nm范围内有良好的透过性能,透过率在80%以上。
- 赵海廷马紫微李健刘利新张洪亮谢毅柱苏玉荣谢二庆
- 关键词：衬底温度晶体结构直流磁控反应溅射光学带隙
- 两步氧化法制备ZnO薄膜及其光催化特性研究被引量：4
- 2008年
- 本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜,然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外透过光谱等表征技术,研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质量和光学性能的影响。研究结果表明,两步氧化法在400℃下氧化1 h后的样品中除含有ZnO成份外,还有少量金属Zn存在;525℃下氧化1 h可以制备出疏松多孔的ZnO薄膜,其在紫外光和可见光范围内的透过率可达85%。通过太阳光和紫外光(254 nm)催化降解苯酚实验,发现两步氧化法制备的ZnO薄膜具有良好的光催化特性:太阳光照10 h后苯酚降解率达到56%,紫外灯下苯酚降解率高达86%。此外,ZnO薄膜的光催化重复利用实验表明,经过H2O2溶液清洗干燥处理后,ZnO薄膜可以基本恢复其光催化能力,此特性为ZnO薄膜的重复利用提供了很好的实验依据。
- 张军谢毅柱谢二庆邵乐喜
- 关键词：ZNO薄膜热蒸发光催化
- 衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响被引量：2
- 2008年
- 采用射频反应溅射法在不同衬底上制备Zn3N2薄膜,然后对其原位氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射分析(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光谱(PL)等表征技术研究了不同衬底对ZnO薄膜的结晶特性和发光性能的影响。XRD研究结果显示:Zn3N2薄膜在500℃原位氧化3 h后完全转变为ZnO薄膜,在玻璃和熔融石英衬底上制备的多晶ZnO薄膜无择优取向,而单晶硅(100)衬底上的多晶ZnO薄膜具有较好的沿(002)方向的择优取向。PL测试结果显示:硅和熔融石英衬底上的多晶ZnO薄膜发光性能良好,激子复合产生的紫外发光峰很强,且半高宽较窄,而来自于深能级发射的绿色发光峰很弱;而玻璃衬底上的多晶ZnO薄膜发光性能较差。
- 张军谢二庆谢毅柱付玉军邵乐喜
- 关键词：ZNO薄膜光致发光衬底
- 两步氧化法ZnO薄膜光催化特性重复利用研究
- 本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜，然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外透过光谱等表征技术，研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质量和光学性能的影响。
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- 邵乐喜张军谢毅柱付玉军
- 关键词：ZNO薄膜热蒸发光催化活性X射线衍射
- 文献传递
