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吴家亮

作品数：4 被引量：2H指数：1
供职机构：杭州电子科技大学更多>>
发文基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金浙江省科技计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇铝酸锶
  • 2篇电子枪
  • 2篇有毒有害气体
  • 2篇有害气体
  • 2篇真空室
  • 2篇光谱
  • 2篇光谱仪
  • 2篇光纤光谱
  • 2篇光纤光谱仪
  • 2篇峰值波长
  • 2篇波长
  • 1篇氧化物
  • 1篇钴氧化物
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土掺杂
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇禁带
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇光学

机构

  • 4篇杭州电子科技...
  • 1篇浙江大学

作者

  • 4篇吴家亮
  • 3篇季振国
  • 3篇席俊华
  • 2篇张尔攀
  • 1篇曹虹
  • 1篇李红霞

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2013
  • 3篇2011
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种利用电子束轰击还原掺Eu铝酸锶夜光材料的方法
本发明涉及一种利用电子束轰击还原掺Eu铝酸锶夜光材料的方法。现有的还原方法能耗大，且用到或产生有毒有害气体。本发明方法首先将待还原掺Eu铝酸锶材料进行烧结，将烧结后的掺Eu铝酸锶材料放入真空室内，将真空室抽真空，使得真空...
季振国吴家亮张尔攀席俊华
文献传递
反应激光脉冲沉积法制备CoO和Co_3O_4薄膜
2011年
利用反应脉冲激光沉积法,以金属钴为靶材,通过改变衬底温度、反应气体氧气的流量等工艺参数,先后在玻璃衬底上成功制备了CoO薄膜以及Co3O4薄膜。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外-可见光吸收光谱(UV-Vis)研究了沉积工艺参数对沉积薄膜的晶体结构和光学特性的影响。结果表明,当氧气流量小于15sccm时,沉积的薄膜为岩盐矿结构的CoO,而当氧气流量大于15sccm时,沉积的薄膜为尖晶石矿结构的Co3O4。通过对紫外-可见吸收光谱的数据分析,证明CoO和Co3O4薄膜均为间接能带结构,禁带宽度分别为0.82eV和1.21eV。
季振国吴家亮曹虹席俊华李红霞
关键词：脉冲激光沉积钴氧化物禁带宽度光学性能
稀土掺杂铝酸锶长余辉发光材料制备与性能研究
SrAl2O4：Eu2+，Dy3+荧光粉是上世纪九十年代发展起来的新型长余辉材料，其以余辉时间长、发光亮度大、化学稳定性好、无辐射、无毒性无污染等优点而优于传统的长余辉发光材料。铝酸锶夜光粉在印刷工业、塑料工业、涂料工业...
吴家亮
关键词：长余辉发光材料稀土掺杂铝酸锶材料性能
文献传递
一种利用电子束轰击还原掺Eu铝酸锶夜光材料的方法
本发明涉及一种利用电子束轰击还原掺Eu铝酸锶夜光材料的方法。现有的还原方法能耗大，且用到或产生有毒有害气体。本发明方法首先将待还原掺Eu铝酸锶材料进行烧结，将烧结后的掺Eu铝酸锶材料放入真空室内，将真空室抽真空，使得真空...
季振国吴家亮张尔攀席俊华
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