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李士军

作品数：22 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 13篇PECVD
  • 8篇氮化
  • 8篇氮化硅
  • 7篇平板
  • 5篇电池
  • 5篇平板式
  • 5篇装载
  • 5篇卸载
  • 5篇进气
  • 5篇光伏
  • 4篇体硅
  • 4篇晶体硅
  • 4篇覆膜
  • 4篇传输系统
  • 3篇单腔
  • 3篇电器
  • 3篇太阳能
  • 3篇太阳能电池
  • 3篇全自动
  • 3篇微电子

机构

  • 22篇中国科学院

作者

  • 22篇张健
  • 22篇李士军
  • 22篇赵崇凌
  • 22篇徐宝利
  • 22篇洪克超
  • 21篇张冬
  • 18篇钟福强
  • 17篇陆涛
  • 13篇李松
  • 13篇王刚
  • 13篇王学敏
  • 13篇郭玉飞
  • 13篇刘兴
  • 13篇赵科新
  • 13篇许新
  • 11篇张振厚
  • 9篇段鑫阳
  • 5篇高振国
  • 5篇奚建平
  • 5篇崔秀伟

年份

  • 2篇2015
  • 5篇2013
  • 6篇2012
  • 2篇2011
  • 6篇2010
  • 1篇2009
共 22 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种全自动下传输系统
本发明属于PECVD的传输系统领域，具体地说是一种全自动下传输系统。包括装载台、升降传输、下传输系统、卸载台，所述下传输系统包括4个传输工位、固态继电器及PLC，其中每个传输工位均由电机、传感器以及传输型材组成，所述电机...
雷震霖赵崇凌李士军张健张冬洪克超徐宝利钟福强陆涛许新王刚刘兴郭玉飞王学敏李松
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一种用于晶体硅太阳能PECVD装备的多区控温平板加热器
本实用新型涉及平板加热器，具体地说是一种用于晶体硅太阳能PECVD装备的多区控温平板加热器，包括至少一个加热平板，在该加热平板上至少设有一个辐射加热线圈，在所述辐射加热线圈对应的加热温区上连接有控制该加热温区温度的温控表...
张振厚赵崇凌李士军张健张冬洪克超徐宝利钟福强陆涛许新王刚刘兴郭玉飞王学敏李松
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一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置
本发明涉及进气装置，具体地说是一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，安装在真空腔室上，包括第一、二回填分气板、回填分气管、进气法兰、短管对焊接管及密封紧固件，进气法兰安装在真空腔室上，短管对焊接管位于真空腔室...
张振厚赵崇凌李士军张健张冬洪克超徐宝利钟福强陆涛许新王刚刘兴郭玉飞王学敏李松
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一种平板PECVD氮化硅覆膜系统
本发明涉及氮化硅薄膜领域，具体为一种平板PECVD氮化硅覆膜系统。该系统设有装载腔、工艺腔和卸载腔，装载腔、工艺腔和卸载腔为模块化的三个腔体，装载腔和工艺腔相通，工艺腔和卸载腔相通；装载腔的外侧依次设置装载台和进载台，卸...
张振厚赵科新赵崇凌李士军张健张冬洪克超段鑫阳徐宝利钟福强陆涛
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提高晶体硅太阳能电池转换效率的多层膜结构
本实用新型涉及一种多层膜结构，特别涉及一种可以提高晶体硅太阳能电池转换效率的多层膜结构。所述多层膜为至少两层的硅系膜层该多层膜结构可以用作太阳能电池片上的钝化层/减反射层。可以通过在沉积工艺期间通过向常规前驱气体混合物在...
雷震霖赵崇凌李士军张健张冬洪克超徐宝利钟福强陆涛许新王刚刘兴郭玉飞王学敏李松
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全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜制备设备
本发明涉及薄膜制备装置，尤其是涉及一种单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜设备，解决现有技术中管式结构的PECVD设备存在的单次生产时间过长、产量低的问题，以及多腔室平板式PECVD设备存...
赵科新奚建平赵崇凌张冬洪克超段鑫阳张健徐宝利李士军高振国崔秀伟
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一种全自动下传输系统
本发明属于PECVD的传输系统领域，具体地说是一种全自动下传输系统。包括装载台、升降传输、下传输系统、卸载台，所述下传输系统包括4个传输工位、固态继电器及PLC，其中每个传输工位均由电机、传感器以及传输型材组成，所述电机...
雷震霖赵崇凌李士军张健张冬洪克超徐宝利钟福强陆涛许新王刚刘兴郭玉飞王学敏李松
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一种全自动大型平板PECVD氮化硅覆膜制备系统
本实用新型涉及光伏电池片薄膜制备装置，具体地说是一种多腔室在真空条件下连续工作的全自动大型平板PECVD氮化硅覆膜制备系统，包括自动传输装载台、预热室、PECVD室、冷却室及自动传输卸载台，其中预热室、PECVD室及冷却...
赵科新赵崇凌李士军洪克超段鑫阳张振厚张冬张健徐宝利钟福强奚建平高振国崔秀伟
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一种平板PECVD氮化硅覆膜的系统
本实用新型涉及氮化硅(SiNx)薄膜领域，具体为一种平板PECVD氮化硅覆膜的系统。该系统设有装载腔I、装载腔II、工艺腔、卸载腔I和卸载腔II，装载腔I、装载腔II、工艺腔、卸载腔I和卸载腔II为模块化的五个腔体，装载...
张振厚赵科新赵崇凌李士军张健张冬洪克超段鑫阳徐宝利钟福强陆涛
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全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜制备设备
本实用新型涉及薄膜制备装置，尤其是涉及一种单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜设备，解决现有技术中管式结构的PECVD设备存在的单次生产时间过长、产量低的问题，以及多腔室平板式PECVD设...
赵科新奚建平赵崇凌张冬洪克超段鑫阳张健徐宝利李士军高振国崔秀伟
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