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郑秋云

作品数:5 被引量:1H指数:1
供职机构:湘潭大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:理学经济管理金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇学位论文
  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 3篇磁流体
  • 2篇数值模拟
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇值模拟
  • 1篇润滑
  • 1篇润滑模型
  • 1篇社会福利
  • 1篇社会福利函数
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁流体
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇拓扑
  • 1篇流体模型
  • 1篇晶片
  • 1篇福利
  • 1篇福利函数
  • 1篇RAYLEI...
  • 1篇SIMPLE...

机构

  • 5篇湘潭大学

作者

  • 5篇郑秋云
  • 3篇舒适
  • 3篇李明军

传媒

  • 1篇力学学报

年份

  • 2篇2010
  • 2篇2008
  • 1篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
磁流体的一种R-T不稳定模型及其数值模拟
因为与星系稳定性的联系,铁磁流体 Rayleigh-Taylor(R-T)不稳定性一直是当前研究的重要课题。在该文中,主要研究了外界磁场对磁流体 R-T 不稳定性的作用。文章假定忽略磁流体的粘性的且是无旋的,同时也只考虑...
郑秋云李明军舒适
关键词:磁流体
文献传递
考虑对流效应和磁场的CMP模型及其数值模拟被引量:1
2010年
推导了具有对流效应的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)润滑模型,研究各参数对压力场分布的影响.在此模型基础上,研究了磁流体抛光液在外界磁场作用下的润滑模型,以及外磁场对抛光过程中压力场分布的影响.数值结果表明,具有对流效应的润滑模型的压力分布与已有经验结果更一致,能更为有效地解释CMP过程中的负压现象;进一步通过外界磁场的作用,可以有效地改变磁流体CMP的压力分布,这为实现对晶片的全局抛光提供了一种可供参考的新途径.
郑秋云李明军舒适
关键词:化学机械抛光润滑模型磁流体晶片
一类机械化学抛光的磁流体模型及其数值模拟
本文主要建立一类机械化化学抛光(CMP)的磁流体模型并对其进行了数值模拟。文章假设抛光液是顺磁材料,且磁化过程线性的,磁化强度与磁场强度成正比,抛光液在机械化学抛光过程中的流动是稳态不可压。通过简化和坐标变换,文章推导了...
郑秋云李明军舒适
文献传递
几类铁磁流体模型及其数值求解
铁磁流体具有某些特殊的物理性质,它已广泛的应用到化学、机械、材料、磁路设计、医学等领域,对铁磁流体的建模及其数值求解已成为计算流体力学领域中研究的热点.虽然该方面的研究取得了很大的进展,但仍存在许多值得研究的问题.本文围...
郑秋云
关键词:铁磁流体MAXWELL方程化学机械抛光SIMPLE算法
文献传递
社会福利函数中的拓扑学方法
对社会福利函数的研究大约有两百多年的历史,它在经济学中一直是一个热门的论题,以至于吸引了如此之多著名的经济学家对这一问题进行讨论。在研究方法上,最初人们主要采用到功利主义方法对它进行研究。而现代福利函数的诞生,使人们在只...
郑秋云
关键词:社会福利函数拓扑不可能定理
文献传递
共1页<1>
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