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刘娟

作品数：27 被引量：19H指数：3
供职机构：中国工程物理研究院电子工程研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域：电子电信机械工程理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇专利
  • 8篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 15篇电子电信
  • 2篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 13篇光刻
  • 11篇掩模
  • 6篇激光
  • 6篇干涉光刻
  • 5篇通信
  • 5篇高速通信
  • 4篇信号
  • 4篇微电子
  • 4篇微电子机械
  • 4篇微电子机械系...
  • 4篇光刻技术
  • 4篇光刻系统
  • 3篇离轴
  • 3篇离轴照明
  • 3篇滤波器
  • 3篇抗蚀剂
  • 3篇激光干涉
  • 3篇激光干涉光刻
  • 2篇点火
  • 2篇点火器

机构

  • 17篇中国科学院
  • 10篇中国工程物理...
  • 1篇四川大学
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 27篇刘娟
  • 16篇张锦
  • 16篇冯伯儒
  • 6篇宗德蓉
  • 5篇吴秋宇
  • 5篇林长星
  • 4篇席仕伟
  • 4篇施志贵
  • 4篇邓贤进
  • 4篇张茜梅
  • 2篇王亚军
  • 2篇罗斌
  • 2篇唐海林
  • 2篇杨黎明
  • 1篇陈宝钦
  • 1篇蒋均
  • 1篇郭永康
  • 1篇苏平
  • 1篇蒋世磊
  • 1篇刘明

传媒

  • 4篇光电工程
  • 2篇应用激光
  • 1篇Journa...
  • 1篇太赫兹科学与...

年份

  • 3篇2023
  • 2篇2022
  • 1篇2020
  • 1篇2013
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 3篇2009
  • 6篇2006
  • 6篇2005
  • 2篇2004
共 27 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
采用梯形棱镜波前分割的激光干涉光刻技术被引量：3
2005年
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制。激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景。阐述了激光干涉光刻技术的基本原理。提出了一种采用梯形棱镜作为波前分割元件的激光干涉光刻方法。建立了相应的曝光系统,该系统可用于双光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光干涉光刻。给出了具有点尺寸约220nm的周期图形阵列的实验结果。
冯伯儒张锦刘娟
关键词：激光干涉光刻光刻技术微细加工
用相干激光束曝光孔点阵列图形的几种方法
2005年
将涂有光致抗蚀剂的硅片或其它光敏材料置于由多束相干光以某种方式组合构成的干涉场中,可以在大视场和深曝光场内形成孔、点或锥阵周期图形,光学系统简单廉价,不需掩模和高精度大NA光刻物镜,采用现行抗蚀剂工艺。文中介绍的双光束双曝光法得到的阵列图形周期d的极限为dm i n=λ/2,四光束单曝光的周期略大,为前者的2倍,三光束单曝光得到2/3 d周期的图形,并且图形不受基片在曝光场中位置的影响,适合大面积尺寸器件中周期图形的制作,而三光束双曝光和五光束曝光的结果是周期为2d的阵列图形,并且沿光轴方向光场随空间位置也作周期变化,适合在大纵深尺寸范围内调制物体结构。
张锦冯伯儒郭永康刘娟
关键词：激光干涉光刻无掩模光刻技术
用于太赫兹高速通信的FIR滤波器64并行实现算法被引量：3
2020年
为满足太赫兹无线通信系统对大容量基带信号处理算法的要求,基于直接从多项式分解导出的传统滤波器并行实现算法,通过矩阵变化推导出复杂度更小的快速有限冲激响应(FIR)滤波器并行实现。在此基础上通过张量积的表示给出了2并行、4并行和8并行的转换公式以及实现架构。既而推导出2^N并行快速FIR滤波器的通用实现公式,并对比了优化前后的复杂度差异。最后给出了64并行的快速FIR滤波器的推导公式和具体实现架构,以及优化前后的硬件复杂度对比,64并行的快速FIR滤波器算法资源消耗更少。
王颖刘娟刘娟吴秋宇吴秋宇
关键词：FIR滤波器并行化数字信号处理
一种全集成冲击片点火器及其制备方法
本发明公开了一种全集成冲击片点火器及其制备方法，属于火工品技术领域。它基于微电子机械系统(MEMS)加工技术，在桥箔、飞片、加速膛和反射片的加工过程中同时完成了装配，有利于提高器件的装配精度，而且具备集成电路并行加工的特...
施志贵席仕伟杨黎明张茜梅刘娟唐海林
文献传递
一种全集成冲击片点火器及其制备方法
本发明公开了一种全集成冲击片点火器及其制备方法，属于火工品技术领域。它基于微电子机械系统(MEMS)加工技术，在桥箔、飞片、加速膛和反射片的加工过程中同时完成了装配，有利于提高器件的装配精度，而且具备集成电路并行加工的特...
施志贵席仕伟杨黎明张茜梅刘娟唐海林
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采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统
用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统，其特征是采用梯形棱镜与可编程选通快门结合，为掩模提供不同方位的照明(垂直于掩模的照明，使低空间频率成份曝光；沿+X方向的偏置照明与沿－X方向的偏置照明，使沿X方向分布的较高空间...
冯伯儒张锦刘娟
文献传递
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术被引量：1
2004年
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术。对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究。研究表明,无铬相位光刻(CPL)PSM和高透AttPSM 相结合构成的混合掩模最适合用于193nmArF光刻,以产生100nm节点抗蚀剂图形。
冯伯儒张锦宗德蓉刘娟陈宝钦刘明
关键词：相移掩模衰减相移掩模
一种太赫兹高速通信发射机构架及超宽带信号处理方法
本发明公开了一种太赫兹高速通信发射机构架及超宽带信号处理方法，所述架构包括基带部分和射频部分，其中基带部分包括算法级全并行的数字调制架构、DAC和低通滤波器，射频部分包括正交谐波混频器；该超宽带信号处理方法基于本发明的太...
刘娟吴秋宇王颖刘戈林长星邓贤进
文献传递
一种用于高速通信的并行基带解调器架构
本发明公开了一种用于高速通信的并行基带解调器架构，所述架构为两路并行的信号处理架构，包括：按信号传输的方向依次设置的ADC采样单元、匹配滤波器、定时同步模块、IQ不平衡校正模块、IQ自适应交换模块、帧同步模块、数字增益控...
王颖吴秋宇刘娟林长星邓贤进
文献传递
一种用于微结构制造的全干法刻蚀硅溶片制备方法
本发明公开了一种用于微结构制造的全干法刻蚀硅溶片制备方法，属于微电子机械系统（MEMS）加工技术领域。本发明的制备方法采用以下加工步骤：(a)玻璃电极制备；(b)硅台阶和微结构制备；(c)玻璃-硅静电键合和硼硅玻璃划槽；...
施志贵席仕伟张茜梅刘娟王亚军
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