姚金才
- 作品数：3 被引量：20H指数：2
- 供职机构：西南大学更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”教育部科学技术研究重点项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
- 电化学制备薄黑硅抗反射膜被引量：16
- 2008年
- 采用计算机控制电流密度按指数规律衰减对单晶硅进行电化学腐蚀,得到了折射率随薄膜厚度连续均匀变化的抗反射膜,即黑硅样品.这种在制取上快速、经济和工艺非常简单的样品,不仅在较宽波段范围内反射率小于5%,且整个薄膜厚度不足1μm.利用传输矩阵方法对黑硅样品的反射谱进行模拟,得到了理论与实验符合较好的结果.
- 刘光友谭兴文姚金才王振熊祖洪
- 关键词：折射率抗反射膜
- 多孔铝上铁磁性薄膜的特性研究
- 阳极氧化铝模板(PAA)不仅制备工艺简单，而且得到的多孔氧化膜具有孔径分布均匀、孔密度高、孔洞之间互相不连通，取向一致的特点，并且可根据实际需要调控孔径大小，是作为模板的良好选择之一。近年来，以多孔刚极氧化铝为模板合成一...
- 姚金才
- 关键词：阳极氧化铝模板多孔铝磁控溅射
- 文献传递
- 有机吸附物对多孔硅微腔发光的影响被引量：4
- 2008年
- 理论上,采用Bruggeman有效介质近似,研究了有机吸附物对多孔硅微腔的折射率及其光致发光谱的影响.实验上,采用计算机控制的电化学腐蚀法制备了多孔硅微腔样品,并利用机械泵油的蒸气分子与该微腔样品进行相互作用.研究发现,多孔硅微腔发射的窄化光致发光谱对泵油蒸气分子的吸附与脱附很敏感,与之伴随的是该窄化光致发光谱发生明显的峰位移动(可达71 nm)和强度变化.结合Bruggeman近似和表面态对多孔硅发光的影响,对实验结果进行了定性解释.实验结果与理论模拟结果符合较好.
- 刘光友谭兴文王振姚金才熊祖洪
- 关键词：多孔硅微腔光致发光谱
