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江涛

作品数：16 被引量：12H指数：2
供职机构：北京大学更多>>
发文基金：北京市自然科学基金更多>>
相关领域：理学核科学技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇学位论文
  • 4篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 3篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 4篇核科学技术
  • 3篇电气工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇政治法律

主题

  • 3篇单槽
  • 3篇导体
  • 3篇基底
  • 3篇管式
  • 3篇高温加热
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体薄膜
  • 3篇薄膜生长
  • 3篇-CELL
  • 3篇TESLA
  • 2篇电池
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇退火
  • 2篇硫化
  • 2篇硫化镉
  • 2篇薄膜太阳能电...
  • 2篇CIGS薄膜
  • 2篇超导腔
  • 2篇CDS
  • 1篇电子谱

机构

  • 16篇北京大学

作者

  • 16篇江涛
  • 11篇赵夔
  • 7篇焦飞
  • 5篇陆真冀
  • 4篇廖成
  • 4篇韩俊峰
  • 3篇郝建奎
  • 3篇徐文灿
  • 3篇谢华木
  • 3篇全省文
  • 3篇张保澄

传媒

  • 1篇无机化学学报
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇真空
  • 1篇Chines...
  • 1篇第十一届中国...

年份

  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇1995
  • 1篇1992
  • 1篇1990
共 16 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
9-cell TESLA超导加速腔研制中Dumb-Bells的测量与调整
为了保证9-cell超导加速腔在场的平滑度、TM010模的频率以及加速器的总长度达到TESLA 国际标准，必须确保每个Dumb—Bell在以上各方面达到标准要求。由于冲压、机加工以及电子束焊接等过程会引起形变，因此，必须...
徐文灿全省文郝建奎江涛张保澄赵夔
关键词：加速器电子束焊接
9-cell TESLA超导加速腔研制中Dumb-Bells的测量与调整
为了保证9-cell超导加速腔在场的平滑度、TM010模的频率以及加速器的总长度达到TESLA国际标准,必须确保每个Dumb-Bell在以上各方面达到标准要求.由于冲压、机加工以及电子束焊接等过程会引起形变,因此,必须在...
徐文灿全省文郝建奎江涛张保澄赵夔
关键词：超导腔
文献传递
燃烧方程组的Riemann问题
江涛
掺杂型超导铌腔的机理分析与实验研究
经过半个世纪的发展，射频超导技术已经在加速器领域得到广泛的应用。由于超导加速器具有高品质因数以及可以运行在连续波与长脉冲模式下的特点，因此它在很多大科学装置上有着重要的应用。超导加速器的核心部件是超导加速腔。它的性能的提...
江涛
关键词：稀土元素
带自由面的不可压NS方程的数值方法
江涛
9-cell TESLA超导加速腔研制中Dumb-Bells的测量与调整
2008年
为了保证9-cell超导加速腔在场的平滑度、TM010模的频率以及加速器的总长度达到TESLA国际标准,必须确保每个Dumb-Bell在以上各方面达到标准要求.由于冲压、机加工以及电子束焊接等过程会引起形变,因此,必须在完成iris和加强筋的电子束焊接之后对Dumb-Bells进行微波和机械测量,并根据测量的结果对其腔形和长度等作必要的调整.北京大学已经建立了一套完整的测量和调整Dumb-Bells的装置,本文深入研究了Dumb-Bells的测量与调整的方法.
徐文灿全省文郝建奎江涛张保澄赵夔
关键词：超导腔
NS方程的开路边条件
江涛
X射线光电子谱方法研究CdTe/CdS异质结界面
CdTe/CdS异质结是CdTe电池光电转换的核心部分。X射线光电子谱(XPS)是研究材料界面成分分布、能带结构的有力工具。我们使用化学水浴的方法在FTO薄膜上制备CdS膜，使用密闭空间升华的方法制备CdTe膜，对CdT...
韩俊峰廖成江涛谢华木焦飞陆真冀赵夔
关键词：薄膜太阳能电池光电转换X射线光电子谱
文献传递
一种硫化镉化学水浴镀膜反应器
本实用新型公开了一种平板CIGS太阳能电池用硫化镉化学水浴镀膜反应器。本实用新型的硫化镉化学水浴镀膜反应器包括：硫化镉反应器、化学水浴槽、热水循环管道、热水循环加热装置及反应镀液配制装置；进一步，硫化镉反应器包括：注液管...
焦飞赵夔陆真冀江涛
文献传递
一种在管式基底上制备半导体薄膜的生产设备
本发明公开了一种在管式基底上制备半导体薄膜的生产设备。本发明采用单槽多管方式，加热液体流入管式基底的内壁，从内部对管式基底加热，再通过管式基底加热反应溶液，反应溶液可以以常温状态存在，而不影响半导体薄膜生长的进行，能够使...
焦飞江涛赵夔陆真冀
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