秦俊岭
- 作品数：6 被引量：21H指数：3
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划教育部“同步辐射博士生创新中心”研究生创新基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术更多>>
- 用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜被引量：11
- 2007年
- 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。
- 秦俊岭邵建达易葵
- 关键词：MO/SI多层膜溅射功率软X射线反射率
- Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响被引量：2
- 2006年
- 用磁控溅射法制备了Mo/Si薄膜,用AFM和XRD分别研究了Mo原子的溅射能量不同时,Mo/Si薄膜表面形貌和晶相的变化。通过比较发现,随着Mo原子溅射能量的增大,Mo/Si薄膜表面粗糙度增加,Mo和Si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且Mo膜层和Si膜层之间生成了Mo-Si2。Mo原子的溅射能量是诱导非晶Si结晶和MoSi2生成的主要原因。
- 秦俊岭易葵邵建达
- 关键词：MO/SIMOSI2
- 研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟被引量：7
- 2007年
- 在特定波长下,用四层结构模型模拟了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dMo-on-Si和dSi-on-Mo对Mo/Si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害Mo/Si多层膜的光学性能,通过合理设计dMo-on-Si和dSi-on-Mo厚度,增加dMo-on-Si与dSi-on-Mo的比值,也能提高多层膜的软X射线反射率.
- 秦俊岭邵建达易葵范正修
- 关键词：软X射线多层膜MO/SI反射率
- 周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率被引量：2
- 2006年
- 由于界面互扩散的存在,实际的超薄多层膜很难具有清晰的界面结构.假设超薄多层膜为具有周期性梯度折射率的多层膜结构,用直线模型和余弦模型模拟了周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率.结果证明,折射率余弦渐变的多层膜虽然不具有清晰的界面,但它同样具有很高的反射率.
- 秦俊岭易葵邵建达范正修
- 关键词：余弦模型梯度折射率多层膜
- 极紫外与短波长软X射线多层膜的研制
- 在软X射线波段(0.2-50nm)，任何材料的折射率均接近于1，而且吸收很大，无法组成透射式光学系统，同时单层膜反射镜对近正入射软X射线反射率几乎为零，因此正入射软X射线成像系统只能由镀有软X射线多层膜的反射镜构成。 ...
- 秦俊岭
- 关键词：软X射线
- Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究被引量：7
- 2007年
- 用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律。并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率。研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小。
- 秦俊岭邵建达易葵周洪军霍同林范正修
- 关键词：MO/SI多层膜软X射线界面粗糙度反射率
