霍同林
- 作品数：72 被引量：193H指数：8
- 供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国科学院“百人计划”更多>>
- 相关领域：机械工程理学一般工业技术电子电信更多>>
- 声表面波压电免疫检测系统的设计被引量：1
- 2001年
- 文章报导了一种声表面波压电免疫检测系统 ,它是利用压电元件的质量敏感性质 ,结合生物免疫识别特性而形成的一种自动化分析传感器检测系统 ,可对多种抗原或抗体进行实时、快速的定量测定 ,并可用于反应动力学的研究。具有高特异性、高灵敏度、响应快和小型简便等特点。文中给出了利用该系统进行一些实验研究得到的结果。
- 叶为全周康源王君陈昕刘胜付绍军陶晓明霍同林洪义麟徐向东周红军鲍继鹏
- 关键词：叉指换能器抗原声表面波压电免疫传感器反应动力学压电元件
- Ar在4．5～12nm光电离截面的测量
- 2007年
- 利用双收集板电离室作为吸收池研究了Ar在4．5～12nm波段的吸收截面．在5～12nm波段间，实验测得的光电离截面的相对误差范围在±10％以内，与West和Samson等的测量结果有很好的可比性．
- 霍同林周洪军钟鹏飞蒋新亭
- 关键词：AR光电离截面
- 国家同步辐射实验室真空紫外光束线的改造被引量：1
- 2004年
- 分析了原光束线存在问题的原因,并提出了改造方案;经过优化设计,确定了光路设计及光学元件参数;经过初步测量,改造后的光束线可达到原来的设计指标。
- 张国斌石军岩戚泽明周洪军霍同林符义兵
- 关键词：光线追迹光通量测量
- 真空紫外波段绝对光强的测量研究
- 2008年
- 介绍了利用双极型稀有气体电离室进行真空紫外波段（12-34nm）绝对光强测量的方法,并对Ar在12-34nm波段的电离吸收截面进行了测量。讨论了在利用稀有气体电离室进行绝对光强测量时,二次电离对测量结果的影响。通过建立适当的数学模型来确定二次电离系数。
- 刘金元廖宁放周洪军霍同林
- 关键词：真空紫外电离室
- 国家同步辐射实验室反射率计误差分析被引量：1
- 2008年
- 中国科技大学国家同步辐射实验室"光谱辐射标准与计量实验站"上的反射率计主要用于测量各种光学元器件在X射线、真空紫外波段的反射率。为保证测试结果的精确性和可靠性,在大量实验数据的基础上,结合必要的理论推导,对反射率计测试误差来源及影响程度进行了分析,确定影响反射率计测试精度的主要因素包括光源、探测器、样品安装等。总结了光源波动、探测器损坏的几种典型形式,定性、定量地分析了这些因素和样品安装、光斑尺寸对测试精度的影响,针对性地提出了应对办法,把测试误差控制在2%以内,从而有效地保证了测试精度。
- 干蜀毅刘正坤徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军
- 关键词：误差分析
- 0.6m段四个量级真空差分系统的实现被引量：2
- 2003年
- 介绍了光谱辐射标准及计量测试光束线实验站上使用的 ,在 0 .6 m段达到四个量级的真空差分而设计的差分系统。该系统在光束线和实验站运行时 ,要求在有限的长度范围内既要保证四个量级的真空差分效果又要让同步辐射光能顺利通过。文中详细介绍了该差分系统的理论计算、结构、实验结果与理论值的比较。讨论了引起理论值与实测值差异的几种原因。
- 周洪军霍同林张国斌戚则明王秋平
- 关键词：光束线理论值
- 真空紫外波段Al膜保护层MgF_2的光学常数被引量：4
- 2017年
- 由于Al膜的保护层MgF_2薄膜的光学常数对Al/MgF_2高反射镜的性能有极大的影响,本文研究了获取MgF_2薄膜光学常数的方法。用热舟蒸发的方法在室温B270基底上镀制了3块不同MgF_2厚度的Al/MgF_2反射镜样品,通过掠入射X射线小角反射方法表征样品,获得了膜层厚度和粗糙度。在国家同步辐射实验中心计量站测试了入射角为5°时,样品在105~130nm波段的反射率。在Al、MgF_2膜层的厚度和Al的光学常数已知条件下,依据菲涅尔公式,得出了满足某波长处样品反射率的等值曲线,然后从三条曲线的交点得出了MgF_2薄膜在108~128nm波段的光学常数。对比和分析显示:利用此方法得到的108~128nm波段MgF_2薄膜光学常数计算的反射率曲线和实际测试得到的反射率曲线吻合较好。
- 王风丽张壮壮王占山周洪军霍同林
- 关键词：真空紫外反射镜保护层光学常数菲涅尔公式热蒸发
- 同步辐射活化氧清洗碳污染的研究被引量：8
- 2010年
- 利用自行设计的实验装置,研究了同步辐射光活化氧对光学元件表面碳污染的清洗作用。清洗前样品的碳层厚度为10.3 nm,同步辐射光被引入实验用真空室内,真空室内干燥氧气的压强维持在1.0 Pa,研究显示同步辐射活化氧能有效地清除硅片表面的石墨型碳层。通过测试清洗前后碳膜的反射率和使用IMD软件对清洗后硅片反射率的拟合,可得碳层的去除率为1.75 nm/h。
- 周洪军钟鹏飞霍同林蒋新亭郑津津
- 大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测被引量：5
- 2008年
- 基于严格的矢量耦合波理论,优化设计了用于13.4 nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版.采用电子束光刻技术,在国内首次成功制作了周期为100 nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5 mm×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si3N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期为50和25 nm的大面积周期结构.最后,测量了该光栅对波长为13.4 nm同步辐射光的衍射光强度,并且推算得出该光栅的1级和2级衍射效率分别为4.41%和0.49%,与理论设计值比较符合.实验结果与理论模拟结果的对比表明该光栅侧壁陡直,Gap/period的控制也与设计值符合.
- 朱伟忠吴衍青郭智朱效立马杰谢常青史沛熊周洪军霍同林邰仁忠徐洪杰
- 关键词：衍射效率
- 极紫外光源用大口径Mo/Si多层膜厚度控制与热稳定性研究
- 2024年
- Mo/Si多层膜是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜膜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层膜提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光源用Mo/Si多层膜面临的膜厚梯度控制和高温环境问题,利用掩模板辅助法对大口径曲面基底上不同位置处的多层膜膜厚进行修正;选择C作为扩散阻隔层材料,对磁控溅射法制备的Mo/Si、Mo/Si/C和Mo/C/Si/C三种多层膜在300℃高温应用环境下的热稳定性展开了研究。研究结果表明:通过掩模板辅助的方式能够将300 mm口径曲面基底上不同位置处的Mo/Si多层膜膜厚控制在预期厚度的±0.45%以内,基底上不同位置处Mo/Si多层膜的膜层结构和表面粗糙度基本相同;引入C扩散阻隔层后,经过300℃退火,Mo/Si多层膜的反射率损失从9.0%减少为1.8%,说明C的引入能够有效减少高温对多层膜微结构的破坏和对光学性能的影响,提高了多层膜的热稳定性。
- 刘翔月张哲蒋励宋洪萱姚殿祥黄思怡徐文杰霍同林周洪军齐润泽黄秋实张众王占山
- 关键词：激光光学MO/SI多层膜磁控溅射热稳定性
