付绍军
- 作品数：197 被引量：364H指数：9
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信一般工业技术更多>>
- 声表面波压电免疫检测系统的设计被引量：1
- 2001年
- 文章报导了一种声表面波压电免疫检测系统 ,它是利用压电元件的质量敏感性质 ,结合生物免疫识别特性而形成的一种自动化分析传感器检测系统 ,可对多种抗原或抗体进行实时、快速的定量测定 ,并可用于反应动力学的研究。具有高特异性、高灵敏度、响应快和小型简便等特点。文中给出了利用该系统进行一些实验研究得到的结果。
- 叶为全周康源王君陈昕刘胜付绍军陶晓明霍同林洪义麟徐向东周红军鲍继鹏
- 关键词：叉指换能器抗原声表面波压电免疫传感器反应动力学压电元件
- 条形射频源大口径离子束刻蚀机性能(英文)被引量：2
- 2007年
- 针对大尺寸基底往复扫描条形离子束来实现大面积刻蚀的特点,实验测试了基于射频感应耦合等离子体离子源大型离子束刻蚀机的性能.利用法拉第筒扫描探测系统在线测量束流密度,通过控制气体流量、调节加速电压等,得到了纵向束流密度±5.3%均匀性的较好结果.刻蚀实验表明40 cm长度范围刻蚀深度均匀性为±5.4%,同时具有较好的束流稳定性.添加束阑,并结合掩模修正束流,会得到更好的束流密度与刻蚀深度均匀性.
- 董晓浩刘颖赵飞云徐德权徐向东周银贵汪啸姚传荣洪义麟付绍军徐朝银
- 关键词：离子束刻蚀机
- 全息光刻-离子束刻蚀制作磁性亚微米结构被引量：1
- 2008年
- 激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离子刻蚀引入到制作工艺中,对光刻胶图形进行修正,获得了很好的效果,具有工艺简单、可控性好等特点。以50nm厚的由磁控溅射生长的Ta/Co0.9Fe0.1/Ta薄膜为基底,采用激光干涉光刻结合离子束刻蚀转移图形的方式,制作出了特征尺寸为330nm Co0.9Fe0.1亚微米周期结构,并采用SQUID的技术对其磁滞回线进行了研究。
- 张自军徐向东刘颖邱克强付绍军洪义麟郭玉献徐鹏寿蔡建旺
- 关键词：全息光刻
- 光学表面粗糙状态分形研究被引量：2
- 2010年
- 将分形法引入光学表面粗糙度评价体系中，以克服常用表面粗糙度评价参数（如Rn、Rq、PSD）随取样点位置、取样长度而变化的弊端。用原子力显微镜（AFM）对样片表面进行测量，计算测量值的配分函数和多重分形谱。计算结果表明：不同样品在同样取样范围内多重分形谱显著不同，同一样品在不同取样范围内配分函数曲线有区别，但多重分形谱却非常相似。对分形计算结果与表面粗糙状态之间的内在联系进行了分析，提出用多重分形谱宽把分形计算结果量化，以客观、唯一地表示被测表面粗糙状态。
- 干蜀毅周卿徐向东洪义麟刘颍付绍军
- 关键词：计量学表面粗糙度分形多重分形谱自相似
- 提高多层介质膜脉宽压缩光栅阈值的清洗方法(英文)被引量：6
- 2012年
- 采用HPM溶液(盐酸、双氧水和去离子水的混合液)结合氧等离子体对多层介质膜脉宽压缩光栅进行清洗研究。用X射线光电子能谱检测光栅表面的元素成分及其原子含量的变化。实验结果表明,氧等离子体处理能有效去除光栅表面残留光刻胶和碳氟化合物;再经HPM溶液清洗,反应离子束刻蚀和氧等离子体处理过程产生的金属污染物被进一步去除。经过上述清洗工艺处理后,光栅一级衍射效率仍保持在95%以上,光栅表面激光诱导损伤阈值达到1.6J/cm2(1053nm,10ps)。实验结果说明了氧等离子体和HPM溶液相结合能有效清洗多层介质膜脉宽压缩光栅,并显著提高光栅损伤阈值。
- 陈上碧盛斌邱克强刘正坤徐向东刘颖洪义麟付绍军
- 反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅被引量：2
- 2016年
- 离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用,已广泛运用于现代微电子器件和微光学器件的制作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术,针对线密度较低的小阶梯光栅,倾斜刻蚀石英同质掩模,制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小阶梯光栅。第一种光栅线密度为360lp/mm,闪耀角16.8°,在325nm波长的透射衍射效率为74%;第二种和第三种光栅线密度均为400lp/mm,闪耀角为34.7°和43°,其在632.8nm波长的透射衍射效率分别为63%和57%。结果表明,使用CHF_3作为刻蚀气体的反应离子束刻蚀石英同质掩模,所制作的小阶梯光栅在其工作波段透射闪耀的衍射效率为理论值的75%以上,为全息离子束制作低线密度大闪耀角的光栅提供参考。
- 董圣为邱克强付绍军
- 关键词：反应离子束刻蚀衍射效率
- 基于俯视SEM图像的矩形光栅占宽比检测方法
- 2014年
- 提出了一种利用俯视SEM图像检测矩形光栅占宽比的新方法。对目标检测图像进行灰度轮廓预处理,接着进行基于动态规划和最小二乘样条逼近的边缘检测,最后按照设定的量化评价标准,计算出目标区域内的光栅占宽比的平均值和标准偏差。使用该方法不仅可以快速准确地计算出目标区域内的光栅占宽比和量化评价占宽比空间分布均匀性,也避免了具有破坏性的制样过程,弥补了传统断面测量方法的不足。编写了用于矩形光栅占宽比检测的图像处理软件GradUI。使用此软件对一组1 200线/mm矩形光栅的俯视SEM图像进行检测分析,发现平均占宽比与灰度轮廓估算值的均方根偏差为0.017 3。结果表明,基于俯视SEM图像的矩形光栅占宽比检测方法是有效可行的,同时,也验证了软件的可靠性。
- 吴丽翔刘颖饶欢乐邱克强付绍军
- 关键词：动态规划
- 一种微调刻蚀深度空间分布的方法和系统
- 本发明涉及一种微调刻蚀深度空间分布的方法和系统。所述方法包括离子束刻蚀工作流程和运动轨迹计算方法，由于是在以均匀刻蚀的方式加工工件的同时对工件刻蚀深度空间分布进行动态微调，这避免了后续精加工的工序，因此可大大节省工作时间...
- 吴丽翔邱克强付绍军
- 文献传递
- 光栅离子束刻蚀的光学在线检测装置及检测方法
- 本发明涉及衍射光学、微细制作等科学领域，具体涉及扫描离子束刻蚀中在线光学扫描检测装置与方法。该装置包括离子束刻蚀工作台、置于离子束刻蚀系统真空室内的光学平面反射镜及置于真空室外的激光器、光电探测器、数字电压表和计算机数据...
- 刘颖徐向东洪义麟徐德权付绍军
- 文献传递
- Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究被引量：4
- 2008年
- 对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究。采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜。利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著。采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响。膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%。
- 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军
- 关键词：离子束溅射
