刘正坤
- 作品数：102 被引量：115H指数：6
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信一般工业技术更多>>
- 一种利用离子束刻蚀修饰闪耀光栅槽形的方法
- 本发明提供一种利用离子束刻蚀修饰闪耀光栅槽形的方法，包括如下步骤：(1)通过全息‑离子束刻蚀法在石英表面制作出浮雕闪耀光栅；(2)通过严格耦合波分析方法确定透射型或者反射型闪耀光栅的反闪耀角对衍射效率的影响，找出反闪耀角...
- 陈智文邱克强刘正坤付绍军洪义麟
- 一种白光干涉位移传感器中楔形膜及其制作方法
- 本发明公开了一种白光干涉位移传感器中楔形膜及其制作方法，该方法用压印技术在普通的光学基底上得到较好的面型，在压印后的基底上镀制反射率为某一值的金属膜，再在金属膜上通过压印技术制作出楔形膜，在楔形膜上表面镀制设计要求的半透...
- 刘正坤黄涛邱克强徐向东付绍军
- 文献传递
- 氧化铈抛光改善光束采样光栅衍射效率均匀性
- 2013年
- 作为强激光系统的终端组件之一,光束采样光栅是制作在熔石英基底上的浅槽光栅。利用熔石英的传统化学机械抛光技术,修正熔石英光束采样光栅的槽型轮廓,降低局部偏高的衍射效率,以提高光束采样光栅的整体效率均匀性。利用此方法已成功将430mm×430mm的光束采样光栅的衍射效率均方根值(RMS)由30%附近降低到5%以下。实验结果显示,利用传统化学机械抛光技术可以有效提高光束采样光栅衍射效率均匀性,这是一种可行的技术方案。
- 饶欢乐刘正坤刘颖蒋晓龙邱克强徐向东洪义麟付绍军
- 关键词：衍射效率均匀性化学机械抛光
- 电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的误差分析及补偿方法被引量：1
- 2018年
- 在激光等离子体诊断等领域中,以平焦场光栅为核心器件的软X射线光谱仪发挥着重要作用。利用电子束光刻-近场全息法制作的平焦场光栅兼具电子束光刻线密度变化灵活,以及全息光栅低杂散光、抑制高次谐波等的特点。采用光线追迹方法分析电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的主要制作误差对其光谱成像特性的影响。结果表明:电子束光刻制备熔石英掩模和近场全息图形转移过程的制作误差均会导致谱线展宽;以目前应用较多的软X射线平焦场光栅(中心线密度为2400line/mm、工作波段在0.8~6.0nm)为例,当熔石英掩模在光栅矢量方向的长度为50mm时,电子束光刻分区数目应保证在1500以上;熔石英掩模线密度偏差引入的谱线展宽可以通过调整近场全息制作参数来消除;确定了近场全息中的两个主要影响因素——熔石英掩模与光栅基底的间距和夹角;近场全息中各误差因素之间有相互补偿的效果,故除了尽可能消除制备过程中的每一种制作误差外,也可以通过优化不同误差之间的分配来降低制备误差。本研究对优化电子束直写掩模策略、降低掩模制作难度、设计和调整近场全息光路有重要帮助。
- 林达奎陈火耀刘正坤刘颖
- 关键词：光栅电子束光刻谱线宽度
- 一种光栅掩模与硅片{111}晶面的对准方法
- 本发明提供了一种光栅掩模与硅片{111}晶面的对准方法，包括以下步骤：A)在硅片上制作具有光栅衍射特性的多个对准标志图形，各对准标志图形具有与所述硅片的定位边平行的两长边；B)将步骤A)得到的硅片进行湿法刻蚀，使所述对准...
- 王宇刘正坤邱克强郑衍畅刘颖洪义麟
- 文献传递
- 具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法
- 为了解决目前在大口径薄膜衍射元件制备工艺中存在的技术难题，本发明提供了一种具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法，包括5个步骤：步骤1为多台阶浮雕结构石英基底制作，步骤2为聚合物溶液的涂覆，步骤3为聚合物溶液的固化...
- 张健刘正坤邱克强徐向东付绍军
- 文献传递
- 全息平面变间距光栅线密度分布方程系数研究
- 2006年
- 简述全息变间距光栅几何理论,通过分析其线距变化系数,研究了全息记录参数对线密度分布方程系数的约束,给出了使全息记录得到的线密度分布方程与期望方程相吻合的必要条件。同时还给出了遗传算法优化计算后的误差曲线,并对理论分析进行了验证,计算结果与理论分析相吻合。
- 楼俊刘正坤徐向东付绍军
- 关键词：全息线密度遗传算法
- 位相型朗奇光栅槽深的光学检测方法
- 本发明位相型朗奇(Ronchi)光栅槽深的光学检测方法。解决了对于周期远大于其工作波长的位相型朗奇光栅槽深的精确检测。本发明包括：1、利用光谱仪记录工作光源的初始光谱曲线I<Sub>s</Sub>(λ)；2、工作光源的出...
- 刘颖付绍军刘正坤徐向东洪义麟
- 文献传递
- 一种软X射线双频光栅剪切干涉系统
- 本发明提供一种软X射线双频光栅剪切干涉系统，其采用了一种双频光栅作为软X射线剪切干涉元件，利用掠入射条件下，该光栅的两组-1级衍射光束自剪切干涉，对穿过等离子体的X射线激光的波前检测。该剪切干涉仪中采用两个多层膜球面镜的...
- 刘正坤邱克强刘颖徐向东付绍军
- 文献传递
- 离子束溅射沉积Ir膜真空紫外反射特性研究
- 2009年
- 根据吸收材料基底上单层金属膜数学计算模型,对不同基片上各种厚度的Ir膜真空紫外反射率进行了优化计算.采用离子束溅射沉积技术,在石英、K9玻璃和Si基片上沉积了不同厚度的Ir膜,研究了基片、表面厚度、离子束能量及镀后热处理对Ir膜反射率的影响,在波长120nm处获得了近30%正入射反射率.
- 干蜀毅刘正坤盛斌徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军
- 关键词：离子束溅射
