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掺硼CVD金刚石膜的制备工艺及性能研究: 金刚石是集多种优异的物理化学性质于一身的超硬多功能材料，纯金刚石是良好的绝缘体，通过掺杂可使其变为宽禁带半导体或耐腐蚀导体，因此，掺杂诱导的金刚石在电子、微电子、电化学和机械加工等领域有广阔的应用前景，硼掺杂金刚石膜是当...; 封全娇; 关键词：金刚石膜硼掺杂; 文献传递

氮气对DC-PCVD法制备金刚石薄膜影响的研究被引量：3: 2011年; 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积方法,用甲烷、氢气、氮气的混合气体在Mo基底上成功制备了金刚石薄膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)对不同流量氮气氛下生长金刚石薄膜的形貌、取向、质量进行了表征。结果表明:适量氮气的加入,不仅可以促进金刚石薄膜的生长速率,还可以促进金刚石(100)晶面的显现;随着氮气含量的增加,金刚石晶粒也逐渐细化,并且薄膜中非金刚石成分增加,但金刚石表面变得光滑平整。本工作有助于金刚石膜涂层领域的应用。; 侯雪姜志刚朱品文郑艳彬胡双封全娇; 关键词：化学气相沉积金刚石薄膜氮气

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