居勇峰
- 作品数：8 被引量：10H指数：3
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：理学机械工程化学工程电子电信更多>>
- 离子注入掺杂锐钛矿TiO_2薄膜的光学性能被引量：3
- 2009年
- 在玻璃基体上,采用射频磁控溅射方法在不同的基体温度下制备了TiO2薄膜,然后在薄膜中注入注量分别为5×1016,1×1017和5×1017/cm2的N离子以制备N掺杂的TiO2薄膜。X射线衍射结果表明:制备出的TiO2薄膜为锐钛矿型。X射线光电子能谱研究结果表明:注入的N离子与TiO2晶粒相互作用,形成了含氮的TiOxN2-x化合物,从而改变了TiO2薄膜的吸收边;随N离子注量增加,吸收边移动更明显;同时,由于氮离子注入产生的辐照缺陷使TiO2薄膜在紫外和可见光区的吸收也明显增强。
- 常丹陈猛向霞居勇峰祖小涛
- 关键词：TIO2薄膜锐钛矿离子注入吸收光谱射频磁控溅射
- 非晶氧化钛薄膜的电学特性研究
- 2012年
- 室温下,通过采用直流反应磁控溅射法在覆盖有氮化硅薄膜的单晶硅衬底上生长了厚度约为100nm的氧化钛薄膜。掠入射X射线衍射分析结果表明在室温下,不同氧分压下生长的氧化钛薄膜均具有非晶结构。分别采用场发射扫描电子显微镜、X射线光电子能谱对薄膜的表面和断面形貌以及薄膜的组分进行了分析和表征。对薄膜的电学特性测试发现非晶氧化钛薄膜在293～373K的温度范围内主要依靠热激发至扩展态中的电子导电。
- 居勇峰陈彤吴志明蒋亚东
- 关键词：反应溅射TCRFESEM
- 氮气退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响被引量：3
- 2008年
- 提出了一种利用离子注入和后续退火制备氮掺杂TiO2薄膜的方法。首先在室温下向石英玻璃中注入Ti离子,随后在氮气中退火到900℃,从而制备了氮掺杂的玻璃基TiO2薄膜。SRIM2006程序模拟和卢瑟福背散射谱(RBS)研究表明注入离子从样品表面开始呈高斯分布,实验结果和模拟结果吻合很好。X射线光电子能谱(XPS)研究结果表明注入态样品中形成了金属Ti和TiO2,900℃退火后金属Ti转变成TiO2,同时N原子替代少量的晶格O原子形成了O-Ti-N化合物。紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)结果显示,当退火温度至500℃时,在吸收光谱中开始出现TiO2的吸收边,随退火温度升高到900℃,由于O-Ti-N化合物形成,TiO2的吸收边从3.98 eV红移到3.30 eV,TiO2吸收边末端延伸到可见光区,在可见光区的吸收强度明显增加。
- 居勇峰祖小涛向霞
- 关键词：离子注入光学带隙退火
- Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响被引量：3
- 2007年
- 利用溶胶凝胶方法在石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜。将能量56keV、剂量1×10^17cm。的Zn离子注入到薄膜中。离子注入后，薄膜在500-900℃的氩气中退火，利用X射线衍射谱、光致发光谱和光吸收谱研究了离子注入和退火对ZnO薄膜结构和光学性质的影响。结果显示：衍射峰在约700℃退火后得到恢复；当退火温度小于600℃时，吸收边随着退火温度的提高发生蓝移，超过600℃时，吸收边随着退火温度的提高发生红移；近带边激子发光和深能级缺陷发光都随退火温度的提高而增强。
- 袁兆林祖小涛薛书文张晓艳余华军向霞居勇峰
- 关键词：ZNO薄膜离子注入退火温度光致发光
- 氧化钛薄膜的制备、微结构及特性研究
- 非制冷红外探测器一直以来都是红外探测领域关注的焦点，其中对该器件中新型敏感材料的探索和研究更是该领域中的热点。近年来，氧化钛（TiOx）薄膜作为一种新型的热敏材料在这方面的应用开始受到关注。 本文主要采用直流反应磁控溅...
- 居勇峰
- 关键词：氧化钛薄膜微观结构电学特性
- 衬底温度对氧化钛薄膜的光学常数影响
- 2012年
- 采用沈阳CK-3高真空磁控溅射薄膜沉积设备在K9玻璃衬底上分别制备了衬底温度为150℃、200℃和250℃的氧化钛薄膜。XRD分析显示这三种温度制备的薄膜由于制备温度不高均没有明显衍射峰,为非晶薄膜。薄膜的光学常数由德国SENTECH SE 850型光谱型椭偏仪对薄膜测试得到,测试波长为300 nm～800 nm,采用Cauchy模型对测试结果进行拟合。结果发现随着制备衬底温度的增大,薄膜的折射率n和消光系数k都随着增大。在衬底温度从150℃增大到250℃时,薄膜的光学带隙从3.46 eV减小到3.02 eV。
- 李林吴志明居勇峰蒋亚东
- 关键词：氧化钛薄膜XRD椭偏仪光学常数光学带隙
- 磁控溅射氧化钛薄膜在不同溅射温度下的光电性能研究被引量：1
- 2010年
- 通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。通过对其光电性能的分析测试,探讨了溅射温度对氧化钛薄膜性能的影响。实验表明:低温溅射下,薄膜表面颗粒较小,结构较为疏松,高温溅射下,薄膜颗粒较大,薄膜表面颗粒出现团聚现象;随着溅射温度的升高,溅射速率减小;薄膜方阻减小,载流子浓度增大;溅射温度越高,薄膜在紫外可见光波段内透射越弱,光学带隙越小。
- 邱永龙吴志明居勇峰罗振飞姜晶蒋亚东
- 关键词：氧化钛薄膜光电性能
- 热处理对离子注入法制备的二氧化钛薄膜光学性能的影响
- TiO2在紫外光下具有优异的光催化性能，在废水处理、空气净化、抗菌等环保领域有着广泛的应用，但实现其可见光催化一直是研究的难点之一。本论文提出了一种利用离子注入和后续退火制备氮掺杂TiO2薄膜的方法，以实现TiO2的可见...
- 居勇峰
- 关键词：离子注入二氧化钛薄膜光学
- 文献传递
