徐言东
- 作品数：7 被引量：11H指数：2
- 供职机构：曲阜师范大学物理工程学院更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 退火处理对ZnS薄膜的结构和光学性质的影响被引量：3
- 2009年
- 在200℃下利用激光沉积技术分别在玻璃和Si(100)上沉积制备了ZnS薄膜,并在300,400,500℃下退火1h。用X射线衍射(XRD)仪、紫外/可见光/近红外分光光度计、台阶仪和原子力显微镜(AFM)分别对不同衬底上样品的特征进行了观察。结果表明,玻璃上的ZnS薄膜只在28.5°附近存在着(111)方向的高度取向生长。在可见光范围内透射率为60%～90%。计算显示薄膜的光学带隙在3.46～3.53eV之间,其小于体材料带隙的原因在于硫元素的缺失。根据光学带隙判断薄膜是单晶立方结构的β-ZnS。Si(100)上生长的是多晶ZnS薄膜:500℃下退火后,表面也比未退火表面更加平整致密,变化规律与ZnS/glass的类似。说明高温下退火可以有效地促进晶粒的结合并改善薄膜质量。
- 徐言东李清山蒙延峰张霞于业梅李新坤丁旭丽
- 关键词：脉冲激光沉积光学带隙表面形貌
- 制备参数和后处理对ZnO薄膜光学性质的影响被引量：1
- 2008年
- 采用脉冲激光沉积技术在不同生长气氛氧压（10-3pa1、0-2Pa、10-1Pa、1Pa、10Pa）和生长衬底温度（250-600℃）下制备了高度c轴取向的ZnO薄膜。光致发光（PL）光谱表明,氧压和衬底温度对ZnO的光学性质有重要影响。制备紫外（UV）发射强的ZnO薄膜,要综合考虑氧压和衬底温度两个参数,衬底温度升高,氧气氛压强要相应升高。进一步研究表明,在化学配比失衡的情况下,升高衬底温度和退火会在ZnO中产生缺陷和杂质束缚电子态,束缚电子态引起的晶格弛豫使局域电子态发生多声子无辐射跃迁,ZnO深能级发射由辐射复合变为无辐射复合。
- 梁德春李清山张立春徐言东
- 关键词：脉冲激光沉积退火
- 氦压对类金刚石薄膜结构和光学性质的影响被引量：1
- 2009年
- 使用脉冲激光沉积技术在不同氦压下制备了系列无氢类金刚石薄膜,测量了样品的Raman光谱、光吸收光谱和光致发光光谱,采用原子力显微镜测试了薄膜的表面形貌,研究了薄膜的微结构和光学性质与制备条件的依赖关系.结果表明,该薄膜是由sp2和sp3杂化碳原子组成的非晶碳膜.薄膜的光学带隙在1.45～1.78 eV.薄膜的发光在可见光区呈宽带结构,氦压能够对类金刚石薄膜的结构和光学性质产生较大影响.当氦压从0.05 Pa升高至15 Pa时,sp2团簇变大,带尾态增多,从而导致薄膜的发光增强,光学带隙变窄,发光峰位红移.AFM形貌表明随着氦压的升高,薄膜的表面由致密光滑变得粗糙,并且许多大小不均匀的球状颗粒出现在薄膜表面.
- 丁旭丽李清山徐言东于业梅李新坤
- 关键词：类金刚石薄膜脉冲激光沉积
- Ag生长温度对Ag／ZnO肖特基接触特性的影响被引量：1
- 2009年
- 利用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si衬底上制备了ZnO单晶体薄膜,并在不同温度下生长了Ag膜作为肖特基电极,研究了Ag与ZnO的接触特性.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和I-V测试方法对样品的晶体质量、结构和电学性质进行了分析.结果表明,ZnO薄膜具有高度的c轴择优取向,Ag膜随生长温度的不同的晶体质量有较大差异.样品在室温下的I-V测试结果表明Ag电极的生长温度对Ag/ZnO接触性能有重要影响.在150℃和200℃生长的Ag电极实现了Ag与ZnO的肖特基接触,电极生长温度低于150℃和高于200℃的样品Ag与ZnO均为欧姆接触.经过分析,肖特基接触的形成依赖于在Ag与ZnO接触界面处形成的p型反型层.
- 李新坤李清山梁德春徐言东谢小军
- 关键词：ZNO肖特基势垒MSM结构
- AlN缓冲层对ZnO薄膜质量的影响被引量：2
- 2008年
- 采用脉冲激光沉积法以AlN为缓冲层在Si（100）衬底上制备了ZnO薄膜，并测量了样品的XRD谱、SEM图和PL谱．结果表明，AlN缓冲层可以提高Si衬底上外延生长ZnO薄膜的晶体质量．改变缓冲层的生长温度（50～500℃）所制备样品的测量结果表明，较低温度下生长的AlN缓冲层有利于制备高质量的ZnO外延层薄膜，其中AlN缓冲层生长温度为100℃时外延生长ZnO薄膜晶体质量最好．
- 宗磊李清山李新坤张霞梁德春徐言东
- 关键词：脉冲激光沉积ZNOALN缓冲层
- 脉冲激光沉积法制备ZnS薄膜及其性质的研究
- Ⅱ-Ⅵ族化合物ZnS是一种直接宽带隙半导体材料,光学带隙为3.7eV,有良好的光学和电学特性,无论是在光发射器件领域,还是在α粒子探测器件、薄膜电池和电致发光领域,都是应用极为广泛的材料。本论文利用KrF准分子脉冲激光沉...
- 徐言东
- 关键词：脉冲激光沉积透射率光学带隙退火处理
- 文献传递
- Cu掺杂ZnO薄膜光学性质的研究被引量：3
- 2010年
- 为了制备结晶质量好的Cu掺杂ZnO薄膜,研究其结构和光学性质,采用脉冲激光沉积方法,在Si衬底上选择不同的衬底温度来制备薄膜。实验成功制得了结晶质量较好的Cu掺杂ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光分光光度计对样品进行了测量和分析。所制备的样品均表现出高度的c轴择优取向,衬底温度为300℃时,薄膜表面形貌均匀致密;在样品的光致发光谱中,发现样品除了在380nm附近出现紫外发光峰外,在460nm附近出现了蓝光发光峰,真正意义上实现了ZnO薄膜的蓝光发射。结果表明,衬底温度对其晶体质量有较大影响。
- 于业梅李清山李新坤徐言东蒙岩峰
- 关键词：脉冲激光沉积蓝光发射
