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李会斌

作品数：17 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇等离子体平板...
  • 5篇荧光粉
  • 5篇平板显示
  • 5篇显示器
  • 4篇镀膜技术
  • 4篇真空镀膜
  • 4篇真空室
  • 4篇平板显示器
  • 4篇浆料
  • 4篇发光
  • 3篇镀膜
  • 2篇导电薄膜
  • 2篇等离子平板显...
  • 2篇等离子体平板...
  • 2篇等离子体显示
  • 2篇等离子体显示...
  • 2篇电致发光
  • 2篇电子束
  • 2篇多层膜
  • 2篇掩膜

机构

  • 17篇中国科学院长...

作者

  • 17篇李会斌
  • 10篇刘星元
  • 6篇林杰
  • 5篇王晓君
  • 4篇王宁
  • 2篇田苗苗
  • 1篇刘维亚
  • 1篇邹海峰
  • 1篇狄卫华
  • 1篇谢宜华
  • 1篇王瑞光
  • 1篇杨文库
  • 1篇陈宝玖
  • 1篇陈宇
  • 1篇赵晓霞
  • 1篇郑喜凤

年份

  • 3篇2014
  • 3篇2013
  • 4篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2003
  • 1篇2002
共 17 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
等离子体显示器用荧光粉包膜材料及其制备方法
本发明属于发光材料应用技术领域，涉及一种等离子体显示器(PDP)荧光粉材料性能提高技术。等离子体显示器用荧光粉包膜材料其组成物为两种两性表面活性剂和蜡类物质，HLB值较低的表面活性剂的加入量是蜡类物质重量的0.1～10%...
王晓君李会斌
文献传递
一种使器件在手套箱与真空室之间转移的传递装置
一种使器件在手套箱与真空室之间转移的传递装置，属于真空镀膜技术领域，涉及一种真空镀膜领域的真空辅助部件，目的在于解决现有技术中过渡室体积庞大而导致的抽气时间较长的问题，并且避免了资源的浪费。包括转移机构及托板；所述托板的...
刘星元林杰李会斌
文献传递
彩色等离子体平板显示(PDP)用荧光粉浆料的研究
王晓君李会斌陈宝玖邹海峰谢宜华狄卫华杨文库赵晓霞
1、任务来源及背景：吉林省科技发展计划，吉科合字20030303；研制出具有自主知识产权性能优良的PDP荧光粉浆料。2、技术原理及性能指标：荧光粉浆料通过丝网印刷到玻璃基板上，在两个障壁之间充有Ne-Xe的混合气体，气体...
关键词：
关键词：荧光粉浆料平板显示等离子体
等离子体显示器用荧光粉包膜材料及其制备方法
本发明属于发光材料应用技术领域，涉及一种等离子体显示器(PDP)荧光粉材料性能提高技术。等离子体显示器用荧光粉包膜材料其组成物为两种以上两性表面活性剂和蜡类物质，两性表面活性剂加入量为荧光粉重量比的0.001～2％；其制...
王晓君李会斌
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一种环形磁控溅射装置
一种环形磁控溅射装置，属于真空镀膜领域。目的在于解决现有技术中短部磁场不被作为工作有效区的问题，提高靶材的利用率。本发明的磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽板；内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上，靶体上面...
刘星元林杰李会斌
多层膜器件真空沉积装置
本发明多层膜器件真空沉积装置属于真空技术领域，目的在于解决现有技术中设备复杂、成本高、蒸发源浪费的问题。包括主挡板、主掩膜板、主衬底板以及一个真空室；所述主挡板、主掩膜板以及主衬底板位于所述真空室内；所述主衬底板、主掩膜...
刘星元林杰李会斌
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透明导电薄膜及其制备方法
本发明涉及一种可广泛应用于液晶显示屏、电致发光显示器、太阳能电池、薄膜晶体管、有机和无机半导体激光器、隔热节能玻璃等技术领域的透明导电薄膜及其制备方法。该薄膜是在主体材料In<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Su...
李会斌王宁刘星元
文献传递
一种使器件在手套箱与真空室之间转移的传递装置
一种使器件在手套箱与真空室之间转移的传递装置，属于真空镀膜技术领域，涉及一种真空镀膜领域的真空辅助部件，目的在于解决现有技术中过渡室体积庞大而导致的抽气时间较长的问题，并且避免了资源的浪费。包括转移机构及托板；所述托板的...
刘星元林杰李会斌
等离子体平板显示用荧光粉浆料及其合成方法
本发明属于发光材料应用技术领域，涉及一种等离子体荧光粉浆料及其合成方法。浆料由高挥发点溶剂、等离子体荧光粉、两种以上能形成胶液的介质材料和聚硅氧烷组成，合成方法是把两种以上胶液介质材料分别溶入高挥发点溶剂中形成两种以上胶...
李会斌王晓君
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一种环形磁控溅射装置
一种环形磁控溅射装置，属于真空镀膜领域。目的在于解决现有技术中短部磁场不被作为工作有效区的问题，提高靶材的利用率。本发明的磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽板；内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上，靶体上面...
刘星元林杰李会斌
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