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杜支波

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域:电子电信轻工技术与工程化学工程自然科学总论更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 2篇钨阴极
  • 2篇钡钨阴极
  • 1篇电真空
  • 1篇电真空器件
  • 1篇电子显微分析
  • 1篇压电石英
  • 1篇亚表面损伤层
  • 1篇元件
  • 1篇真空器件
  • 1篇损伤层
  • 1篇微观结构
  • 1篇显微分析
  • 1篇扩散
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇
  • 1篇成膜
  • 1篇成膜机理
  • 1篇亚表面

机构

  • 4篇电子科技大学

作者

  • 4篇杜支波
  • 3篇包生祥
  • 2篇彭晶
  • 2篇李世岚
  • 2篇马丽丽
  • 1篇张德政
  • 1篇周勋

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2009
  • 3篇2008
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
压电石英亚表面损伤层分析
2008年
压电石英基片在加工过程中会带来表面/亚表面损伤,这种损伤会直接影响电子器件的性能、稳定性及寿命。该文采用扫描电镜(SEM)观测与X-射线双晶回摆曲线检测化学腐蚀逐层剥离深度相结合的方法,定量分析了36°AT切压电石英基片亚表面损伤层厚度,并探讨了亚表面损伤层的形成原因及对器件性能的影响。
李世岚包生祥马丽丽彭晶杜支波周勋
关键词:压电石英化学机械抛光
钡钨阴极电子显微分析研究
随着微波技术的发展,大功率微波真空电子器件所要求的大电流密度、高稳定性的钡钨阴极被广泛应用,并越来越获得研究学者的重视。为了提高其性能,国内外许多研究学者一般从理论、配方、工艺和材料等方面进行实验研究。而在实际生产过程中...
杜支波
关键词:电真空器件电子显微分析成膜机理
含钪钡钨阴极龟裂原因分析
2009年
针对钪酸盐阴极在装管测试过程中发生发射电流下降,阴极表面出现龟裂等问题,利用扫描电镜和能谱作为研究手段,分析对比了失效阴极与正常阴极的微观结构差异,结果表明,阴极表面龟裂的原因是阴极发射物质成分和工作温度共同作用的结果。根据分析结果,调整工艺参数,解决了龟裂失效问题。
杜支波包生祥张德政
关键词:钡钨阴极微观结构
多层共烧元件界面研究的现状与展望被引量:1
2008年
通过调研国内外多层陶瓷元件界面的研究现状,并结合自身工作,分析了在制备过程中多层陶瓷元件界面所存在的关键问题及其难点:共烧匹配性、扩散、结合性能等,提出了相应的控制措施,展望了其发展方向。并介绍了主导烧结曲线(MSC)、有限成分法(FEM)等相关的理论模型。这些都是有效控制界面品质,获得高性能多层陶瓷元件的关键。
杜支波包生祥彭晶李世岚马丽丽
关键词:扩散
共1页<1>
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