公共文化服务平台

共 6 条记录，以下是 1-6

全选清除导出

排序方式：

本征非晶硅薄膜的激光晶化研究: 目前,世界能源结构中,人类主要利用的是石油、天然气、煤炭等不可再生能源,而根据目前所探明的储量和消费量计算,这些能源资料仅可供全世界大约消费150年左右。并且,不可再生能源无限制的开发和滥用是造成人类生存环境恶化的主要原...; 段国平; 关键词：激光晶化多晶硅单晶硅; 文献传递

本征非晶硅薄膜的准分子激光晶化被引量：1: 2013年; 为了减低非晶硅薄膜太阳能电池的光致衰减效应和提高其光电转换效率,用等离子体化学气相沉积系统制备了本征非晶硅薄膜,用波长为248nm的KrF准分子激光器激光晶化了非晶硅表层,用共焦显微喇曼测试技术研究了非晶硅薄膜在不同的激光能量密度和不同的频率下的晶化状态,并用扫描电子显微镜测试晶化前后薄膜的形貌。结果表明,随着激光能量密度的增大,薄膜晶化效果越来越好,能量密度达到268.54mJ/cm2时晶化效果最好,此时结晶比约为76.34%;最佳的激光能量密度范围是204.99mJ/cm2～268.54mJ/cm2,这时薄膜表面晶化良好;在1Hz～10Hz范围内,激光频率越大晶化效果越好;晶化后薄膜明显出现微晶和多晶颗粒,从而达到了良好的晶化效果。; 段国平陈俊领周德让韩俊鹤黄明举; 关键词：激光技术微晶硅激光晶化多晶硅

488nm连续激光晶化本征非晶硅薄膜的喇曼光谱研究被引量：5: 2011年; 利用等离子增强化学气相沉积系统制备了本征非晶硅薄膜,并选用488nm波长的连续激光进行晶化.采用喇曼测试技术对本征非晶硅薄膜在不同激光功率密度和扫描时间下的晶化状态进行了表征,并用514nm波长与488nm波长对样品的晶化效果进行了比较.测试结果显示:激光照射时间60s,激光功率密度在1.57×105 W/cm2时,能实现非晶硅向多晶硅的转变,在功率密度达到2.7 56×105 W/cm2时,有非晶开始向单晶转变,随着激光功率密度的继续增加,晶化结果仍为单晶;在功率密度为2.362×105 W/cm2下,60s照射时间晶化效果较好;在功率密度为2.756×105 W/cm2和照射时间为60s的条件下,用488nm波长比514nm波长的激光晶化本征非晶硅薄膜效果较好,并均为单晶态.; 段国平陈俊领韩俊鹤黄明举; 关键词：喇曼光谱单晶硅激光晶化多晶硅

激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响被引量：3: 2013年; 为研究波长对连续激光晶化非晶硅(a-Si)薄膜过程的影响,利用连续Ar+-Kr+激光对a-Si薄膜晶化,在5ms固定照射时间下,改变激光波长,采用拉曼光谱测试技术和场发射扫描电子显微镜(SEM)研究在不同激光功率密度下薄膜晶化后的特性。结果表明,a-Si薄膜的晶化阈值随着波长的增大而增大,当波长为458nm时薄膜晶化阈值为13.2kW/cm2,波长为647nm时,晶化阈值为19.2kW/cm2;在激光功率密度范围为0~27.1kW/cm2内,薄膜的最大晶化率受波长的影响相对较小,但总体也随着波长的增大而呈增大趋势,当波长为647nm时,在激光功率密度26.5kW/cm2处,晶化率达到最大值75.85%。; 周德让段国平陈俊岭韩俊鹤黄明举; 关键词：波长晶化率

激光能量对沉积纳米Si薄膜晶粒尺寸的影响被引量：1: 2012年; 为了制备纳米硅薄膜,采用脉冲激光沉积系统,保持靶材和衬底间距不变,在不同激光能量条件下,得到一系列纳米Si薄膜。利用喇曼散射光谱和X射线衍射谱对晶粒尺寸进行了计算和分析,取得了几组数据。结果表明,改变脉冲激光能量时,纳米Si晶粒平均尺寸均随能量的增强先增大后减小;在单脉冲能量为300mJ时制备的纳米Si晶粒平均尺寸最大,为8.58nm。这一结果对纳米硅薄膜制备的研究有积极意义。; 陈俊领段国平黄明举; 关键词：RAMAN谱 X射线衍射谱

连续氩氪离子激光晶化非晶硅薄膜的研究被引量：1: 2013年; 为了研究连续激光晶化非晶硅薄膜中激光功率密度对晶化效果的影响,利用磁控溅射法制备非晶硅薄膜,采用连续氩氪混合离子激光器对薄膜进行退火晶化,用显微喇曼光谱测试技术和场发射扫描电子显微镜研究了薄膜在5ms固定时间下不同激光功率密度对晶化效果的影响,并对比了普通玻璃片和石英玻璃两种衬底上薄膜晶化过程的差异。结果表明,在一定激光功率密度范围内(0kW/cm2～27.1kW/cm2),当激光功率密度大于15.1kW/cm2时,普通玻璃衬底沉积的非晶硅薄膜开始实现晶化;随着激光功率密度的增大,晶化效果先逐渐变好,之后变差;激光功率密度增大到24.9kW/cm2时,薄膜表面呈现大面积散落的苹果状多晶硅颗粒,晶粒截面尺寸高达478nm;激光功率密度存在一个中间值,使得晶化效果达到最佳;石英衬底上沉积的非晶硅薄膜则呈现与前者不同的结晶生长过程,当激光功率密度为19.7kW/cm2时,薄膜表面呈现大晶粒尺寸的球形多晶硅颗粒,并且晶粒尺寸随着激光功率密度的增大而增大,在27.1kW/cm2处晶粒尺寸达到最大5.38μm。研究结果对用连续激光晶化法制备多晶硅薄膜的研究具有积极意义。; 周德让段国平陈俊岭韩俊鹤黄明举; 关键词：多晶硅激光功率密度衬底

全选清除导出

共1页<1>

段国平