罗腾蛟
- 作品数：7 被引量：2H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- XH－REP－2正性电子束抗蚀剂的工艺研究
- 1994年
- ＸＨ－ＲＥＰ－２正性电子束抗蚀剂的工艺研究王国荃，罗腾蛟，王琴美，吴月莉（中国科学院上海冶金研究所）关键词：电子束曝光，等离子体去渣．０引言普通光学的曝光分辨率受到光波衍射效应的限制，难以制作１μｍ以下的图形；当ＰＧ图形分割的矩形数超过２０万，普通光...
- 王国荃罗腾蛟王琴美吴月莉
- 关键词：电子束曝光等离子体抗蚀剂
- 对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩膜版质量的分析
- 1996年
- 本文在成熟使用电子束曝光机制作各处掩膜版的基础上，针对主人掩膜版质量的三大因素即：图形尺寸精度，图形套准精度，芯片合格率逐一详细分析，以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩膜版。
- 王国荃罗腾蛟
- 关键词：尺寸精度半导体器件电子束曝光机掩膜
- 对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析被引量：1
- 1992年
- 本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。
- 王国荃罗腾蛟陈福余徐志如
- 关键词：电子束曝光机掩模CAD
- 影响电子束曝光机加工微细化的因素被引量：1
- 1991年
- 结合实际工作,分析、探讨了影响电子束曝光机加工微细化的因素。这些因素主要有:抗蚀剂材料、电子束本身、电子束曝光机控制线路、器件结构和电子束工艺等。在诸影响因素中,工艺的影响是目前一个较大且较主要的影响因素,其次是背散射电子束的影响,对后者,我们采用辅助曝光方法加以改善,效果良好。但对工艺等的影响因素的改善尚待继续研究、摸索。
- 王国荃罗腾蛟陈福余李忠涛徐志如
- 关键词：电子束曝光机微细加工
- 对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析
- 1993年
- 本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。
- 王国荃罗腾蛟陈福余徐志如
- 关键词：电子束曝光机掩模版光栅扫描
- 制备声表面波器件掩膜版的电子束曝光新技术
- 罗腾蛟李翔龙杨峥嵘
- 关键词：声表面波器件集成电路工艺
- 影响电子束曝光机加工微细化的因素
- 王国荃罗腾蛟李忠涛
- 关键词：大规模集成电路光致抗蚀剂电子束加工
