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肖智博
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3
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供职机构:
中国科学院半导体研究所
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合作作者
郑联喜
中国科学院半导体研究所
胡雄伟
中国科学院半导体研究所
周帆
中国科学院半导体研究所
金才政
中国科学院半导体研究所
韩勤
中国科学院半导体研究所
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MOCVD生长大功率单量子阱激光器
被引量:3
1996年
本文介绍了MOCVD生长的高质量GaAs和AlAs材料以及(Al)GaAs/AlGaAs分别限制单量于阱激光器.GaAs材料的77K迁移率为122,700cm2/(V·s),GaAs/AlAs具有均匀陡变的界面.激光器的最大光输出功率为4W,平均光功率密度达4MW/cm2,斜率效率为1.2W/A,在1W恒功老化4000小时电流增加小于10%,预计寿命可超过两万小时.
郑联喜
肖智博
韩勤
金才政
周帆
马朝华
胡雄伟
关键词:
单量子阱激光器
激光器
MOCVD
超晶格结构X射线衍射分析及其结构参数的计算
1995年
在本文中,我们在经典的X光运动学理论的基础上,加入一些改进,不再直接计算超晶格的结构因子F00L,而是计算各原子面的散射波函数,获得了卫星峰的模拟峰形和pendellsung条纹,克服了原来不能解释峰形和pendellsung现象的缺点.本文还用此方法对GaAlAs/GaAs超晶格和GeSi/Si应变超晶格进行了模拟计算,与实验吻合很好,证明了理论的正确性.
郑联喜
王玉田
庄岩
邓礼生
肖智博
胡雄伟
梁骏吾
关键词:
超晶格
结构参数
X射线衍射
超晶格中GaAs/InGaAs界面与InGaAs/GaAs界面的特性差异
1997年
InxGa1-xAs缓冲层上生长InyGa1-yAs/GaAs超晶格(x<y).阱层处于压缩应变,垒层处于伸张应变,其厚度均小于MathewsBlakeslee(MB)平衡理论计算的临界厚度.透射电子显微镜及俄歇电子能谱、二级离子质谱测试发现,GaAs/InyGa1-yAs界面铟组分过渡区比InyGa1-yAs/GaAs界面铟组分过渡区窄;InyGa1-yAs合金阱层中,靠近GaAs/InyGa1-yAs界面一端的铟组分更大.用InyGa1-yAs合金层中铟的分凝理论解释了超晶格中铟组分的分布特征.透射电子显微镜观察表明,GaAs/InyGa1-yAs界面比InyGa1-yAs/GaAs界面平整.提出一种新的弛豫机制来解释压缩应变和伸张应变的不同,对两个界面特性的差异也给予解释.
王小军
金星
张子平
郑联喜
肖智博
肖智博
王启明
关键词:
超晶格
砷化镓
铟镓砷
半导体
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