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陈树鹏
作品数:
46
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供职机构:
西安电子科技大学
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
文化科学
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合作作者
刘红侠
西安电子科技大学
王树龙
西安电子科技大学
张丹
西安电子科技大学
张浩
西安电子科技大学
赵东东
西安电子科技大学
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西安电子科技...
作者
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陈树鹏
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刘红侠
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王树龙
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张丹
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张浩
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李伟
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基于总剂量和强电磁脉冲耦合的FDSOI仿真方法
本发明适用于半导体技术领域,公开了一种基于总剂量和强电磁脉冲耦合的FDSOI器件仿真方法,包括:基于第一电学特性文件和第一物理特性文件,确定FDSOI器件;对FDSOI器件进行强电磁脉冲仿真,获得第一器件烧毁时间;对FD...
刘红侠
李星
王树龙
陈树鹏
负电容L型栅隧穿场效应晶体管及其制备方法
本发明属于微电子器件技术领域,公开了一种负电容L型栅隧穿场效应晶体管及其制备方法。包括:埋氧层、P<Sup>‑</Sup>衬底、N<Sup>+</Sup>型夹层、P<Sup>+</Sup>型源区、栅氧化层介质、铁电介质层...
陈树鹏
张浩
刘红侠
王树龙
一种D触发器和应用于抗辐射锁相环的鉴频鉴相器加固结构
本发明涉及一种D触发器和应用于抗辐射锁相环的鉴频鉴相器加固结构,该D触发器包括相互连接的时钟信号滤波电路、输入信号滤波电路、复位信号滤波电路和双锁存电路;该鉴频鉴相器加固结构包括D触发器和基于差分级联电压开关逻辑的基本门...
刘红侠
向琦
王树龙
陈树鹏
基于65nm工艺的超陡倒掺杂抗辐照MOS场效应管
本发明公开了一种基于65nm工艺的超陡倒掺杂抗辐照MOS场效应管,主要解决传统65nm MOS场效应管在总剂量辐照环境下,关态漏电流增大、阈值电压漂移和亚阈值摆幅退化的问题。其包括P型衬底(1),位于衬底上的外延层(2)...
刘红侠
张丹
陈树鹏
陈安
侯文煜
适用于多种可靠性效应耦合研究的SOI FinFET器件的建模方法
本发明提供了一种适用于多种可靠性效应耦合研究的SOI FinFET器件的建模方法,利用Sentaurus TCAD软件以及结构参数建模得到FinFET器件的三维结构模型;对三维结构模型进行总剂量效应的仿真和热载流子效应仿...
刘红侠
周伟
尹晨宇
黄孟豪
李星
王树龙
陈树鹏
一种基于HSPICE和weibull函数的SRAM单粒子加固电路仿真方法
本发明涉及一种基于HSPICE和weibull函数的SRAM单粒子加固电路仿真方法,包括:构建SRAM加固单元的读写仿真电路结构,读写仿真电路结构包括SRAM加固单元以及两个三态门,其中,两个三态门的输出端对应连接SRA...
刘红侠
刘长俊
王树龙
陈树鹏
一种制备基于65nm工艺的冗余掺杂抗辐照MOS场效应管的方法
本发明公开了一种基于65nm工艺的冗余掺杂抗辐照MOS场效应管,主要解决传统65nm MOS场效应管在总剂量辐照环境下,阈值电压漂移、亚阈值摆幅退化和关态漏电流退化的问题。其包括P型衬底(1)和位于衬底上的外延层(2),...
刘红侠
陈树鹏
张丹
陈煜海
刘永杰
王倩琼
赵东东
王树龙
基于22nm工艺的抗辐照FDSOI场效应管及其制备方法
本发明公开了一种基于22nm工艺的抗辐照FDSOI场效应管及其制备方法,主要解决现有FDSOI场效应管抗辐照性能较差的问题,其结构有两个特征,一是在现有FDSOI场效应管的埋氧层(3)与单晶硅层(4)之间增设有氮化硅牺牲...
刘红侠
范晓洋
王树龙
陈树鹏
抗单粒子翻转的SRAM单元加固电路
本发明公开了一种抗单粒子翻转的SRAM单元加固电路,涉及集成电路技术领域,包括:存储模块,存储模块包括第一节点和第二节点,存储模块用于存储第一节点和第二节点的电平数据;其中,第一节点和第二节点的电平数据包括第一节点和第二...
刘红侠
刘长俊
王树龙
陈树鹏
新型隧穿晶体管的结构设计与特性研究
随着场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor FieldEffect Transistor,MOSFET)尺寸不断缩小,集成电路性能获得了巨大的提升。而随着晶体管尺寸进入纳米时代,由于传统CMOS...
陈树鹏
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