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任玲

作品数：4 被引量：3H指数：1
供职机构：上海大学更多>>
发文基金：上海市教育委员会重点学科基金上海市科委纳米专项基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 4篇金刚石薄膜
  • 3篇掩模
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻掩模
  • 3篇X射线
  • 2篇掩模板
  • 2篇射线
  • 2篇气相
  • 2篇气相沉积
  • 2篇气相沉积法
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇化学气相沉积...
  • 1篇纳米金刚石薄...
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇光电
  • 1篇光电流
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质

机构

  • 4篇上海大学

作者

  • 4篇任玲
  • 3篇夏义本
  • 3篇王林军
  • 3篇苏青峰
  • 3篇刘健敏
  • 2篇蒋丽雯
  • 1篇彭鸿雁
  • 1篇史伟民
  • 1篇徐闰

传媒

  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
  • 1篇2006
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
X射线光刻掩模版的制备方法
本发明涉及一种X射线光刻掩模版的制备方法，属光刻掩模版制造技术领域。本发明主要采用热丝化学气相沉积法沉积的金刚石薄膜作为X射线光刻掩模基膜材料，并通过改进的工艺参数和后期处理工艺，改善金刚石薄膜的性能，提高金刚石薄膜的光...
王林军夏义本任玲蒋丽雯刘健敏苏青峰
文献传递
[100]金刚石薄膜的辐照响应特性研究被引量：3
2006年
采用热丝辅助化学气相沉积(HFCVD)方法生长得到25μm厚的[100]取向金刚石膜,用以制备辐射探测器。在100 V偏压下,测得暗电流为16.1 nA,55Fe X射线(5.9 keV)和241Amα粒子(5.5 M eV)辐照下的净光电流分别为15.9nA和7.0nA。光电流随时间的变化先快速增加随后由于“pump ing”效应逐渐达到稳定。X射线和α粒子辐照下的平均电荷收集效率分别为45%和19%,并由Hecht理论计算得到对应的电荷收集距离为11.25μm和4.75μm。
任玲王林军苏青峰刘健敏徐闰彭鸿雁史伟民夏义本
关键词：金刚石膜辐射探测器光电流
基于金刚石薄膜的X射线光刻掩模材料的研究
X射线光刻掩模技术(XRL)被认为是实现32nm技术节点的下一代光刻技术(NGL)之一。作为X射线光刻掩模材料的候选者之一，金刚石薄膜的许多优异性能是其它材料所无法比拟的。但是由于化学气相沉积(CVD)工艺的限制，微晶金...
任玲
关键词：X射线光刻掩模纳米金刚石薄膜光学性质HFCVD
文献传递
X射线光刻掩模版的制备方法
本发明涉及一种X射线光刻掩模版的制备方法，属光刻掩模版制造技术领域。本发明主要采用热丝化学气相沉积法沉积的金刚石薄膜作为X射线光刻掩模基膜材料，并通过改进的工艺参数和后期处理工艺，改善金刚石薄膜的性能，提高金刚石薄膜的光...
王林军夏义本任玲蒋丽雯刘健敏苏青峰
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