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刘丽辉

作品数:52 被引量:7H指数:1
供职机构:北京理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项教育部重点实验室开放基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 47篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇机械工程
  • 5篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇经济管理
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 28篇光刻
  • 21篇物镜
  • 19篇光学
  • 12篇光刻物镜
  • 11篇光刻机
  • 9篇投影物镜
  • 9篇反射镜
  • 9篇波像差
  • 8篇投影光刻
  • 8篇平面反射镜
  • 7篇电池
  • 7篇数值孔径
  • 7篇紫外光刻
  • 7篇光伏
  • 6篇在线检测
  • 6篇视场
  • 6篇投影光刻物镜
  • 6篇透射
  • 6篇透射光
  • 6篇分光

机构

  • 52篇北京理工大学

作者

  • 52篇刘丽辉
  • 50篇李艳秋
  • 20篇刘克
  • 10篇匡翠方
  • 9篇何永泰
  • 8篇常军
  • 8篇李林
  • 8篇马斌
  • 8篇黄一帆
  • 8篇韩星
  • 8篇王磊
  • 4篇汪海
  • 3篇刘岩
  • 2篇马旭
  • 1篇戴学兵
  • 1篇王叶
  • 1篇曹振
  • 1篇杨亮
  • 1篇张芸
  • 1篇周恩源

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇光学技术
  • 1篇光学学报
  • 1篇光电工程
  • 1篇中国微米纳米...

年份

  • 3篇2024
  • 1篇2023
  • 4篇2022
  • 2篇2021
  • 1篇2019
  • 3篇2017
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 4篇2012
  • 5篇2011
  • 9篇2010
  • 10篇2009
  • 5篇2008
52 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
光刻机投影物镜波像差在线检测方法
本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差在线检测方法。通过在光刻机上集成干涉仪装置,进行投影物镜波像差的在线检测、校正和控制。干涉仪装置为点衍射干涉或狭缝衍射干涉仪,具备两种测量模式:PSI测量模式和FTM测量模式。PSI测量...
李艳秋刘克刘丽辉
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深紫外全球面光刻物镜
本发明涉及一种深紫外全球面光刻物镜,属于高分辨力投影光刻物镜技术领域。本发明提出了一种照明系统工作波长为193nm,数值孔径达到0.75的深紫外光刻物镜,该物镜结构紧凑、大视场、成像质量优良,各镜片全部使用球面,降低了加...
李林马斌李艳秋刘丽辉韩星常军黄一帆
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一种光线平行调整的装置与方法
本发明涉及一种光线平行调整的装置和方法,属于光电检测技术领域。本发明利用高稳定性的准直激光器(1)发射准直激光经过分光器偏振(2)分光,在偏振分光器(2)的反射光路和透射光路上分别放置一个λ/4波片,波片的快轴方向与激光...
匡翠方李艳秋刘丽辉
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一种光刻机投影物镜波像差的现场测量装置
本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差的现场测量装置。该装置基于Shack-Hartmann测量原理,包括主机和标准镜两大组成部分。主机部分包括光电传感器、衍射光学元件、准直物镜、带有圆孔的针孔掩模板,以及用于控制光路传输的...
刘克李艳秋刘丽辉汪海
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一种基于微透镜阵列调焦调平的装置与方法
本发明公开了一种基于微透镜阵列调焦调平的方法与装置,属于光电检测技术领域。本发明包括发射部分和接收部分。其中发射部分包括光源、聚焦透镜、针孔滤波器、扩束透镜、优化入瞳器件、微透镜阵列,转向反射镜;接收部分包括转向反射镜、...
匡翠方李艳秋刘丽辉
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可标定系统误差的光刻机投影物镜波像差在线检测装置
本发明公开了一种可标定系统误差的光刻机投影物镜波像差在线检测装置,属于光学检测领域。本装置包括开有圆孔的物方掩模板、移相装置、光电传感器、存储器、控制器、运算器、分束装置和像方掩模板。所述分束装置包括两个二元衍射光栅:第...
刘克李艳秋刘丽辉
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近红外大数值孔径平场显微物镜设计被引量:6
2017年
为满足飞秒激光微纳加工系统对高加工精度和大加工范围的需求,首先确定了该系统的重要组成部分-无限共轭距显微物镜所需具备的特性及设计指标。依据薄透镜组的初级像差理论,针对飞秒激光波长推导出光学系统为校正匹兹凡场曲和二级光谱所需满足的条件。该镜头由11片球面透镜构成,所选用材料皆为国产玻璃,同时避免三胶合结构的使用。设计了一套工作波长为785~815 nm,数值孔径为0.9,像方视场为22.5 mm,放大倍率为40×的近红外平场复消色差显微物镜。设计结果表明:该镜头的MTF良好,全视场波像差均小于0.08λ,各种几何像差均远小于公差且满足平场和复消色差条件,能量集中度高。使用补偿器放松材料公差、加工公差和装调公差,公差分配后全视场RMS波像差小于0.09λ,满足实际应用要求。
周恩源刘丽辉刘岩曹振
关键词:光学设计显微物镜飞秒激光微纳加工
极紫外光刻投影曝光光学系统
本发明提供一种极紫外光刻投影曝光光学系统,包含照明模块和成像模块两部分,其中成像模块的设计使用了基于真实光线追迹的分组移动双向构造法,分组设计可以将复杂的系统分解为多个简单的子系统分别进行设计,即将整体系统众多未知参数分...
李艳秋闫旭刘丽辉刘克
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大距离光线平行调整的装置与方法
本发明涉及一种大距离光线平行调整的装置和方法,利用高稳定性的准直激光器(1)发射准直激光经过偏振分光器(2)分光,在偏振分光器反射光路与透射光路上分别放置一个λ/4波片,波片的快轴方向与激光的偏振方向成45°,再入射到一...
匡翠方李艳秋刘丽辉
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高分辨率非球面光刻物镜
本发明涉及一种高分辨率非球面光刻物镜,属于高分辨力投影光刻物镜技术领域。本发明的高分辨率非球面光刻物镜包括前透镜组、后透镜组,数值孔径为0.75,共使用29片透镜,其中有3个表面使用了10次非球面;透镜材料使用熔石英和氟...
李林马斌李艳秋刘丽辉韩星常军黄一帆
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共6页<123456>
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