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李艳秋

作品数:438 被引量:332H指数:11
供职机构:北京理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 342篇专利
  • 74篇期刊文章
  • 21篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 86篇电子电信
  • 61篇机械工程
  • 50篇理学
  • 19篇自动化与计算...
  • 10篇文化科学
  • 7篇一般工业技术
  • 3篇动力工程及工...
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇经济管理
  • 1篇医药卫生
  • 1篇历史地理

主题

  • 194篇光刻
  • 72篇掩模
  • 69篇物镜
  • 59篇偏振
  • 56篇紫外光刻
  • 54篇极紫外
  • 53篇光学
  • 45篇极紫外光刻
  • 45篇光刻系统
  • 44篇光源
  • 39篇投影物镜
  • 37篇衍射
  • 34篇光刻机
  • 34篇光刻物镜
  • 34篇成像模型
  • 31篇像差
  • 27篇矢量
  • 27篇数值孔径
  • 25篇偏振态
  • 25篇波像差

机构

  • 344篇北京理工大学
  • 103篇中国科学院
  • 6篇华中科技大学
  • 6篇中国科学院研...
  • 2篇长沙学院
  • 1篇清华大学
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇中国人民解放...

作者

  • 438篇李艳秋
  • 89篇刘克
  • 55篇马旭
  • 50篇刘丽辉
  • 31篇董立松
  • 27篇尚永红
  • 24篇汪海
  • 22篇刘少波
  • 20篇杨亮
  • 19篇刘菲
  • 15篇于红云
  • 14篇梅秋丽
  • 14篇苏波
  • 14篇刘晓林
  • 14篇李铁
  • 12篇曹振
  • 11篇张清涛
  • 11篇郭学佳
  • 10篇魏立冬
  • 10篇匡翠方

传媒

  • 18篇光学学报
  • 15篇微细加工技术
  • 7篇光学技术
  • 5篇激光与光电子...
  • 5篇中国激光
  • 4篇第十三届全国...
  • 3篇电子工业专用...
  • 3篇第十二届全国...
  • 2篇红外与激光工...
  • 2篇太阳能学报
  • 2篇中国机械工程
  • 2篇光电工程
  • 2篇传感技术学报
  • 2篇功能材料与器...
  • 2篇压电与声光
  • 2篇微纳电子技术
  • 2篇纳米技术与精...
  • 2篇中国微米纳米...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇航空制造技术

年份

  • 10篇2024
  • 5篇2023
  • 16篇2022
  • 23篇2021
  • 17篇2020
  • 12篇2019
  • 11篇2018
  • 18篇2017
  • 15篇2016
  • 23篇2015
  • 30篇2014
  • 47篇2013
  • 49篇2012
  • 29篇2011
  • 19篇2010
  • 19篇2009
  • 23篇2008
  • 18篇2007
  • 11篇2006
  • 21篇2005
438 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
光刻机投影物镜波像差在线检测方法
本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差在线检测方法。通过在光刻机上集成干涉仪装置,进行投影物镜波像差的在线检测、校正和控制。干涉仪装置为点衍射干涉或狭缝衍射干涉仪,具备两种测量模式:PSI测量模式和FTM测量模式。PSI测量...
李艳秋刘克刘丽辉
文献传递
高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计被引量:3
2015年
针对极紫外光刻照明系统光能利用率低的问题,设计了一套高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统。该系统中波纹板面形采用柱面镜阵列,降低了加工难度;并且根据波纹板反射光线的特性,确定了由修正型复合抛物面聚光镜与二次曲面反射镜组作为中继镜组的结构。整个系统仅采用四片反射镜且其中两片反射镜为掠入射,与传统的极紫外光刻照明系统相比,有效地提高了系统的光能利用率。对一套数值孔径0.33的极紫外光刻投影物镜,给出了与之相匹配的波纹板照明系统设计实例。仿真结果表明,系统的光能利用率可达39.7%,掩模上弧形照明区域扫描方向的积分不均匀度小于2.7%,验证了该设计的可行性和有效性。
梁欣丽李艳秋梅秋丽
关键词:光学设计极紫外光刻
一种全球面折反式光刻投影物镜
本发明提供一种全球面折反式光刻投影物镜,包括耦合镜组G1、折反镜组G2、会聚透镜组G3以及孔径光阑,所述折反镜组G2包括第二镜片L2和第三镜片L3,第二镜片L2和第三镜片L3之间的距离的取值范围为45mm~35mm;上述...
李艳秋刘晓林
文献传递
深紫外全球面光刻物镜
本发明涉及一种深紫外全球面光刻物镜,属于高分辨力投影光刻物镜技术领域。本发明提出了一种照明系统工作波长为193nm,数值孔径达到0.75的深紫外光刻物镜,该物镜结构紧凑、大视场、成像质量优良,各镜片全部使用球面,降低了加...
李林马斌李艳秋刘丽辉韩星常军黄一帆
文献传递
一种光线平行调整的装置与方法
本发明涉及一种光线平行调整的装置和方法,属于光电检测技术领域。本发明利用高稳定性的准直激光器(1)发射准直激光经过分光器偏振(2)分光,在偏振分光器(2)的反射光路和透射光路上分别放置一个λ/4波片,波片的快轴方向与激光...
匡翠方李艳秋刘丽辉
文献传递
一种极紫外光刻投影物镜设计方法
本发明提供一种极紫外光刻投影物镜的设计方法,具体步骤为:确定光刻系统中投影物镜为六反射镜结构,并设定该投影物镜的光学系统参数;选取六枚反射镜和光阑设置于光刻系统中掩膜和硅片之间,确定各反射镜之间的比例参数;根据给定的物方...
李艳秋刘菲
文献传递
一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法
本发明提供一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测技术,通过设计一系列具有傅里叶远场频谱结构简单的标记掩模;用琼斯光瞳的pesudo-zernike展开法表征成像模型中投影物镜的PA,并由标记掩模衍射远场特性简化成像...
李艳秋李恩泽
文献传递
高数值孔径光刻成像中顶层抗反膜的优化被引量:4
2008年
高数值孔径光学光刻中,成像光分布在较大的入射角范围内,传统顶层抗反膜优化方法只对垂直光来减小光刻胶上表面反射率,难以保证光在整个入射角范围实现反射率最小。提出全入射角范围顶层抗反膜优化方法,即在入射角范围内实现光刻胶-顶层抗反膜-空气(或浸没液体)界面的最小平均反射率,并优化顶层抗反膜参量。结果表明,该方法能减小薄膜干涉引起的成像线宽(CD)变化,有效控制成像摆效应,增大顶层抗反膜透射率,提高横电和横磁偏振光透射率之比,从而提高扫描曝光系统的生产率,进一步改善成像衬比度。
周远李艳秋
关键词:光学光刻
一种极紫外光刻投影物镜的优化设计方法
本发明提供一种极紫外光刻投影物镜的优化设计方法,具体优化过程为:对投影物镜是否具有可优化的潜力进行判断,当判定其具有可优化潜力时,则设定优化的边界条件,该边界条件包括远心限制、非球面度限制、间距限制和各镜片无遮拦空间的限...
李艳秋刘菲
文献传递
Mueller矩阵成像偏振仪的误差标定和补偿研究被引量:5
2016年
Mueller矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响Mueller矩阵成像偏振仪测量精度的主要误差源。通过对本课题组研制的Mueller矩阵成像偏振仪中5个主要误差因素进行标定和补偿,显著提高了其测量精度。利用傅里叶分析法获得各项傅里叶系数,并根据各个误差与傅里叶系数的关系,实现了这些误差的标定,即达到对Mueller矩阵成像偏振仪误差标定的目的。根据标定出的误差大小对Mueller矩阵成像偏振仪进行了补偿。实验结果表明,通过对器件参数误差标定和补偿,Mueller矩阵成像偏振仪的测量精度由0.2015提高到0.1051,提高了47.84%。最后用该Mueller矩阵成像偏振仪对一个物镜系统的偏振像差进行了测量,重复测量精度达到了1.1%。
李建慧郑猛张雪冰李艳秋
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