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张璋

作品数：1 被引量：9H指数：1
供职机构：复旦大学信息科学与工程学院光科学与工程系更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇多孔
  • 1篇多孔氧化铝
  • 1篇多孔氧化铝膜
  • 1篇硅基
  • 1篇超薄

机构

  • 1篇复旦大学

作者

  • 1篇俞宏坤
  • 1篇杨昊炜
  • 1篇金庆原
  • 1篇段晓楠
  • 1篇张璋

传媒

  • 1篇物理化学学报

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
硅基超薄多孔氧化铝膜的制备被引量：9
2008年
将二次阳极氧化法应用于硅基铝膜的制备,在草酸溶液中得到了厚度可控的硅基超薄多孔氧化铝膜(PAM),厚度小于100nm.实验中记录了氧化电流随时间的实时变化曲线,发现硅衬底的氧化电流在大幅下降前有一小幅波动.对应于Al/Si界面的氧化过程中,孔洞底部之间的残留铝岛被优先氧化,可将此作为终止铝氧化的标志.扫描电镜(SEM)观察表明,二次氧化提高了孔洞分布的均匀性,使得孔在一定的区域内呈现有序六角分布.这种模板可进一步用于硅基纳米器件和纳米结构的制备.
杨昊炜张璋段晓楠俞宏坤金庆原
关键词：多孔氧化铝膜硅基超薄
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