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汤晓燕
作品数:
339
被引量:93
H指数:6
供职机构:
西安电子科技大学
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合作作者
张玉明
西安电子科技大学微电子学院微电...
宋庆文
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
张艺蒙
西安电子科技大学微电子学院
袁昊
西安电子科技大学
张义门
西安电子科技大学微电子学院微电...
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2007
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2篇
2004
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339
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一种半沟槽离子注入的混合PiN肖特基二极管
本发明公开了一种半沟槽离子注入的混合PiN肖特基二极管,包括:N<Sup>+</Sup>衬底区;漂移层,位于N<Sup>+</Sup>衬底区上,漂移层的表面至少包括两个沟槽及相邻两个沟槽之间的一个凸起结构;P型区,包括:...
宋庆文
张玉明
汤晓燕
袁昊
张艺蒙
王栋
文献传递
一种集成式高压碳化硅达林顿管及其制作方法
本发明公开了一种集成式高压碳化硅达林顿管及其制作方法,属于微电子技术领域。以提高驱动管电流增益,同时使得工艺简单,降低成本。包括:N+发射区,设置在所述基区上表面,包括呈倾斜槽型的器件沟槽,呈倾斜槽型的器件隔离区和呈垂直...
元磊
李钊君
宋庆文
汤晓燕
张艺蒙
张玉明
文献传递
一种应用于高温环境的SiC MOSFET驱动电路
本发明涉及一种应用于高温环境的SiC MOSFET驱动电路,包括:电源、主驱动电路、驱动保护电路和SiC MOSFET;其中,电源连接主驱动电路和驱动保护电路;主驱动电路连接SiC MOSFET;驱动保护电路连接主驱动电...
张艺蒙
徐帅
吕红亮
宋庆文
汤晓燕
文献传递
一种高温碳化硅功率器件封装结构及其制备方法
本发明实施例提供了一种高温碳化硅功率器件封装结构及制备方法,涉及半导体器件封装领域,可以有效地增强器件寿命,提高器件稳定性,同时降低成本,简化工艺。所述封装结构包括:金属正电极(1)、金属负电极(3)以及所述金属正电极(...
张艺蒙
李家昌
宋庆文
王悦湖
张玉明
汤晓燕
贾仁需
文献传递
碳化硅功率器件研究现状
被引量:8
2015年
随着我国科技事业的大力发展,尤其是航空航天、高铁和高压输电等尖端领域,非常需要性能更好的功率器件作为研究和发展的支撑。而硅(si)器件由于材料本身的限制导致其不适合在某些严酷条件下工作,
张玉明
汤晓燕
宋庆文
关键词:
硅功率器件
碳化
航空航天
高压输电
一种集成SBD的碳化硅UMOSFET器件
本发明涉及一种集成SBD的碳化硅UMOSFET器件,包括:N+衬底区、N‑外延区、P‑阱区、N+注入区、栅极、第一P+注入区、第二P+注入区、源极和漏极,其中,第一P+注入区和第二P+注入区的深度大于栅极的深度,源极与N...
袁昊
何艳静
韩超
汤晓燕
宋庆文
张玉明
文献传递
n+多晶硅/n+ SiC异质结欧姆接触
被引量:1
2006年
采用器件仿真软件ISE TCAD模拟了n+多晶硅/n+ SiC异质结形成欧姆接触的新的SiC欧姆接触制造技术.模拟结果表明n+多晶硅/n+ SiC异质结接触可以形成良好的欧姆接触,具有工艺简单、性能优良的优点.
张林
张义门
张玉明
汤晓燕
关键词:
SIC
欧姆接触
多晶硅
异质结
一种新型浮结碳化硅功率器件的SIMS-JTE终端结构及其制备方法
本发明公开了一种新型浮结碳化硅功率器件的SIMS‑JTE终端结构及其制备方法,该方法包括:提供一N+衬底;在N+衬底的一侧表面制作至少一层外延结构;外延结构包括:第一N‑外延层、浮结p区和JTE;在至少一层外延结构远离N...
汤晓燕
刘延聪
袁昊
王溶
周瑜
宋庆文
陈泽宇
陈利利
一种基于双MOS栅控的N型碳化硅晶闸管及其制备方法
本发明公开了一种基于双MOS栅控的N型碳化硅晶闸管,包括:钝化层(1)、阳极接触金属(2)、关断栅极接触金属(3)、开启栅极接触金属(4)、栅氧化层(5)、P+短路区(6)、N+阳极区(7)、P‑漂移区(8)、N‑漂移区...
元磊
杨柳
汤晓燕
宋庆文
张艺蒙
张玉明
张义门
文献传递
一种双沟道半包结构UMOSFET器件
本发明涉及一种双沟道半包结构UMOSFET器件,包括:N+衬底、n‑漂移区、电流传输层、沟道区、n+源区、栅氧化层、栅电极、夹层氧化层、半包结构、源电极和漏电极,其中,N+衬底、n‑漂移区、电流传输层、沟道区、n+源区依...
张玉明
王晨谕
杜丰羽
袁昊
汤晓燕
宋庆文
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