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葛亚爽

作品数:4 被引量:13H指数:2
供职机构:郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇光电
  • 2篇光电性
  • 2篇光电性能
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电致发光
  • 1篇电致发光器件
  • 1篇优化设计
  • 1篇有机电致发光
  • 1篇有机电致发光...
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电薄膜
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇缓冲层
  • 1篇发光
  • 1篇发光器件
  • 1篇ZNO

机构

  • 4篇郑州大学
  • 3篇中国科学院

作者

  • 4篇葛亚爽
  • 3篇崔娜娜
  • 3篇张兵临
  • 3篇姚宁
  • 2篇邢宏伟
  • 2篇王英俭
  • 1篇韩昌报
  • 1篇鲁占灵
  • 1篇常立红
  • 1篇穆慧慧
  • 1篇安子凤
  • 1篇苏博

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇金刚石与磨料...

年份

  • 4篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
ITO薄膜的制备及优化设计
透明导电薄膜(ITO)作为一种独特的光电功能材料,兼具了较高的可见光透过性和良好的导电性能,受到人们的青睐。由于其优异的光电特性,使其在太阳能电池、气体传感器、液晶显示等领域得到了广泛应用。随着相关领域在光电转换、发光亮...
葛亚爽
关键词:磁控溅射光电性能表面形貌透明导电薄膜优化设计
Al_2O_3缓冲层对以ZnO∶Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响被引量:4
2011年
采用直流磁控溅射法制备ZnO∶Al(AZO)透明导电薄膜,薄膜电阻率为5.3×10-4Ω.cm,可见光区平均透过率大于85%。采用施加缓冲层的方法,在AZO和NPB之间加入一层Al2O3绝缘薄膜,提高了AZO阳极有机电致发光器件的性能,分析了Al2O3缓冲层的作用机理。结果表明施加1.5 nm缓冲层后器件的电流效率是单纯AZO阳极器件的3.4倍,同时也高于传统ITO器件。
姚宁邢宏伟穆慧慧崔娜娜葛亚爽王英俭张兵临
关键词:掺铝氧化锌缓冲层AL2O3有机电致发光器件
纳米片状金刚石膜的生长过程被引量:2
2011年
采用微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD)在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为1∶1,微波功率为1 800 W,反应气压为10 kPa。利用扫描电镜(SEM)和Raman光谱分析薄膜的形貌和碳结构。结果表明,纳米金刚石薄膜呈现片状的组织特征,其生长过程为:生长初期在单晶硅衬底上形成由纳米碳颗粒组成的球状碳团簇;随着沉积时间的增加,碳团簇逐渐增大,纳米碳颗粒定向排列或自组装,最终形成片状纳米金刚石膜。
姚宁崔娜娜鲁占灵苏博葛亚爽安子凤张兵临
能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究被引量:7
2011年
采用磁控溅射(DMS)和能量过滤磁控溅射(EFDMS)技术在玻璃衬底上制备ITO透明导电薄膜。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻仪、椭偏光谱仪等对薄膜的性能进行表征和分析,初步探讨了EFDMS技术的成膜机理。研究发现与DMS技术相比,EFDMS技术可有效降低薄膜的表面粗糙度,并且薄膜光电性能有一定改善。
姚宁常立红韩昌报邢宏伟葛亚爽崔娜娜王英俭张兵临
关键词:ITO薄膜光电性能表面粗糙度磁控溅射
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