您的位置： 专家智库 > >

邓世斌

作品数：10 被引量：0H指数：0
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇中文专利

主题

  • 5篇相对密度
  • 5篇靶材
  • 4篇光学
  • 3篇增透
  • 3篇增透膜
  • 3篇折射率
  • 3篇树脂镜片
  • 3篇热压
  • 3篇溅射
  • 3篇溅射靶材
  • 3篇光学薄膜
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜机
  • 2篇压头
  • 2篇预处理
  • 2篇熔融
  • 2篇熔融状态
  • 2篇设计值
  • 2篇素坯
  • 2篇陶瓷靶材

机构

  • 10篇北京有色金属...

作者

  • 10篇王星明
  • 10篇段华英
  • 10篇邓世斌
  • 9篇张明贤
  • 9篇张碧田
  • 9篇潘德明
  • 9篇龚述荣
  • 6篇储茂友
  • 5篇韩沧
  • 4篇孙静
  • 4篇储茂有
  • 4篇黄松涛

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 4篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2007
共 10 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
高折射率光学薄膜用LaTiO<Sub>3</Sub>蒸发材料及其制备方法和用途
一种高折射率光学薄膜用蒸发材料，是一种化学式为LaTiO<Sub>3</Sub>的化合物。该材料为单一相结构组成，不存在其它杂相。该材料密度为5.2～5.9g/cm<Sup>3</Sup>，材料充填性好。以Ti<Sub>...
张碧田潘德明王星明段华英储茂友邓世斌孙静张明贤龚述荣
文献传递
预处理光学镀膜材料及其预处理方法
本发明公开了一种预处理光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：(1)选用光学镀膜材料的原料粉体；(2)在温度为700～1400℃，压力为10～40Mpa条件下制备素坯；(3)在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800...
王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
文献传递
中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法
膜层致密、牢固、化学稳定性好，在近紫外到近红外有较高的透过率的中折射率光学薄膜用蒸发材料及其制备方法。技术方案是：中折射率光学薄膜用蒸发材料，其特征在于所述材料是熔融材料，由化学式为LaAlO<Sub>3</Sub>和L...
张碧田张明贤龚述荣潘德明段华英孙静王星明储茂友邓世斌韩沧
文献传递
高纯硼化锆/硼化铪粉体及其超高温陶瓷靶材的制备方法
本发明公开了属于陶瓷靶材技术领域的一种高纯超高温陶瓷靶材的制备方法，具体为高纯硼化锆/硼化铪粉体及其陶瓷靶材的制备方法。该方法是以高纯Zr粉，Hf粉以及高纯B粉为原料，采用自蔓延法分别制备高纯ZrB<Sub>2</Sub...
储茂友王星明邓世斌韩沧张碧田段华英张明贤龚述荣潘德明
文献传递
大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
本发明公开了一种大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法，其方法步骤如下：A)称取制作靶材的粉体原料；B)按制作靶材的直径要求选定同直径的模具；C)将模具放进上加压、固定下压头基准面的热压炉炉体中；D)采用振动漏斗法装料，测...
王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
文献传递
高纯硼化锆/硼化铪粉体及其超高温陶瓷靶材的制备方法
本发明公开了属于陶瓷靶材技术领域的一种高纯超高温陶瓷靶材的制备方法，具体为高纯硼化锆/硼化铪粉体及其陶瓷靶材的制备方法。该方法是以高纯Zr粉，Hf粉以及高纯B粉为原料，采用自蔓延法分别制备高纯ZrB<Sub>2</Sub...
储茂友王星明邓世斌韩沧张碧田段华英张明贤龚述荣潘德明
文献传递
大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
本发明公开了一种大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法，其方法步骤如下：A)称取制作靶材的粉体原料；B)按制作靶材的直径要求选定同直径的模具；C)将模具放进上加压、固定下压头基准面的热压炉炉体中；D)采用振动漏斗法装料，测...
王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
文献传递
预处理的光学镀膜材的处理方法
本发明公开了一种预处理的光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：(1)选用光学镀膜材料的原料粉体；(2)在温度为700～1400℃，压力为10～40MPa条件下制备素坯；(3)在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～180...
王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
文献传递
中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法
膜层致密、牢固、化学稳定性好，在近紫外到近红外有较高的透过率的中折射率光学薄膜用蒸发材料及其制备方法。技术方案是：中折射率光学薄膜用蒸发材料，其特征在于所述材料是熔融材料，由化学式为LaAlO<Sub>3</Sub>和L...
张碧田张明贤龚述荣潘德明段华英孙静王星明储茂友邓世斌韩沧
文献传递
导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法
本发明公开了一种导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法，通过在金属氧化物粉体原料中加入所述金属氧化物对应的金属粉并与之充分混合，或在靶材的制备过程中向保护气氛中充入H<Sub>2</Sub>气，使得靶材原位一次合成，即靶材...
王星明储茂友邓世斌韩沧段华英孙静
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0