于大洋
- 作品数：5 被引量：16H指数：3
- 供职机构：东北大学机械工程与自动化学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划深圳市科技计划项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- Al含量对非平衡磁控溅射制备Ti_(1-x)Al_xN膜性能的影响被引量：3
- 2007年
- 将电弧离子镀和中频非平衡磁控溅射工艺相结合制备了Ti1-xAlxN薄膜。利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪、摩擦磨损仪等分析检测仪器研究了不同Al含量Ti1-xAlxN薄膜的性能。结果表明:随Al含量增加,沉积速率变大;各种Al含量的膜层中都有Ti1-xAlxN相;当x为51at.%时薄膜有最高的显微硬度2741.8HV,此时摩擦系数达到最低值0.14;Al含量多时膜层Ti1-xAlxN表面粗糙;各种Al含量的膜层与基体的结合力大致相同,临界载荷都在16～20N左右。
- 张以忱于大洋马胜歌刘艳文巴德纯
- 关键词：硬质膜非平衡磁控溅射AL含量
- 复合离子镀膜技术制备Cr＋Ti＋TiNC／TiNC＋C／DLC膜性能研究被引量：3
- 2008年
- 结合中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺,制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜。硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好。
- 马胜歌于大洋杨宏伟张以忱
- 关键词：类金刚石膜非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 中频磁控溅射沉积DLC/TiAlN复合薄膜的结构与性能研究被引量：5
- 2008年
- 采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、显微硬度计、摩擦磨损仪等分析检测仪器对DLC/TiAlN复合薄膜的表面形貌、晶体结构、显微硬度、耐磨性等性能进行了检测分析。实验及分析结果表明:DLC/TiAlN薄膜平均膜厚为1.1μm,由于薄膜中的Al含量较多,使得复合薄膜的表面比DLC薄膜的表面要粗糙一些;通过对复合薄膜表层的XPS分析可知,ID/IG为2.63。由XPS深层剖析可知,DLC/TiAlN薄膜表层结构与DLC薄膜基本相同,里层则与TiAlN薄膜相似。在梯度过渡膜中,复合膜层之间的界面呈现为渐变过程,结合的非常好。DLC/TiAlN薄膜的显微硬度为2030 HV左右。与DLC薄膜显微硬度接近,低于TiAlN薄膜的显微硬度。但是DLC/TiAlN薄膜的耐磨性要好于TiAlN薄膜和DLC薄膜;DLC/TiAlN薄膜的耐腐蚀性能略好于DLC薄膜。
- 张以忱巴德纯于大洋马胜歌
- 关键词：TIALN薄膜DLC薄膜非平衡磁控溅射
- 非平衡磁控溅射结合电弧离子镀制备掺杂DLC硬质膜性能研究被引量：6
- 2006年
- 将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2600以上,摩擦因数接近0.1,电阻高于2MΩ。
- 于大洋马胜歌张以忱徐路
- 关键词：硬质膜DLC非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 类金刚石掺杂Ti/N薄膜的制备与性能研究
- 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明: 膜层中含有sp2键...
- 张以忱于大洋马胜歌巴德纯
- 关键词：硬质膜DLC非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 文献传递
