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李涛

作品数：6 被引量：29H指数：3
供职机构：中国科学技术大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：核科学技术电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇核科学技术
  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇衍射
  • 3篇衍射光学
  • 3篇衍射光学元件
  • 3篇光学
  • 3篇光学元件
  • 3篇ICF
  • 2篇聚变
  • 2篇均匀照明
  • 2篇惯性约束
  • 2篇核聚变
  • 1篇特性分析
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁共振
  • 1篇误差分析
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束刻蚀
  • 1篇模拟退火
  • 1篇模拟退火法
  • 1篇刻蚀
  • 1篇混合算法

机构

  • 6篇中国科学技术...

作者

  • 6篇李涛
  • 5篇李永平
  • 5篇王炜
  • 4篇傅绍军
  • 3篇洪义麟
  • 2篇徐俊中
  • 2篇徐向东
  • 2篇裴珉
  • 1篇刘力
  • 1篇吴杭生
  • 1篇周洪军
  • 1篇赵逸琼
  • 1篇霍同林
  • 1篇付绍军

传媒

  • 2篇中国激光
  • 2篇光电工程
  • 1篇物理学报
  • 1篇计算物理

年份

  • 1篇2002
  • 2篇2001
  • 2篇1999
  • 1篇1996
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
连续工艺衍射光学元件的应用特性分析被引量：7
2001年
研究了连续工艺衍射光学元件在实际系统中的宽容度问题 ,模拟了非理想入射波、系统非共轴以及焦面定位对均匀照明的影响 ,提出了系统定位精度的重要性 ,并为实际工程检测提供了有意义的参数。
王炜裴珉李永平李涛洪义麟傅绍军
关键词：衍射光学元件
用于ICF的大尺寸位相元件的设计被引量：12
1999年
发展了用于实现ＩＣＦ靶面均匀照明的大口径连续型位相元件设计的新方法，并且在工艺上进行了初步试制。等厚干涉图显示达到了预期的大口径。
王炜李涛刘力李永平李永平徐向东洪义麟傅绍军
关键词：PPEICF惯性约束核聚变激光技术
离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响被引量：3
2001年
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东周洪军洪义麟李涛傅绍军
关键词：误差分析离子束刻蚀衍射光学元件均匀照明
用于ICF的位相元件宽容度分析被引量：3
1999年
分析了用于惯性约束核聚变驱动器的大口径连续型位相元件的宽容度问题，并用计算机模拟了具有一定的频带宽度及随机的位相光强畸变的入射光波对靶场均匀照明的影响。结果显示，所设计的位相元件具有较大的适应性。
王炜裴珉李永平李涛傅绍军
关键词：惯性约束核聚变
Gd_2CuO_4的远红外反铁磁共振理论
1996年
提出一个适用于奈耳温度6.4K以下,Gd_2CuO_4的远红外反铁磁共振理论.理论预言的结果与Kaplan等的实验符合.
李涛吴杭生
关键词：反铁磁共振
一种用于均匀照明的衍射光学元件设计的混合算法被引量：11
2002年
介绍一种综合迭代法和优化算法两者优势的混合算法 ,并用于设计ICF靶场照明衍射光学元件 ,得出比先前方法更加理想的模拟结果 .其衍射效率达到 97 5 % ,均方误差为 0 0 2 6 。
李涛付绍军王炜徐俊中李永平
关键词：模拟退火法ICF靶场衍射光学元件均匀照明
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