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傅绍军

作品数：33 被引量：127H指数：8
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域：电子电信机械工程理学核科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 30篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 15篇电子电信
  • 13篇机械工程
  • 12篇理学
  • 4篇核科学技术

主题

  • 15篇刻蚀
  • 14篇离子束
  • 14篇离子束刻蚀
  • 12篇光栅
  • 9篇软X射线
  • 8篇衍射
  • 7篇全息
  • 6篇全息光刻
  • 6篇光刻
  • 5篇衍射光栅
  • 5篇透射
  • 5篇光学
  • 4篇透射光
  • 4篇透射光栅
  • 4篇激光
  • 4篇光刻胶
  • 3篇衍射光学
  • 3篇衍射光学元件
  • 3篇光学元件
  • 2篇紫外光刻

机构

  • 32篇中国科学技术...
  • 3篇同济大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇合肥国家同步...

作者

  • 33篇傅绍军
  • 26篇洪义麟
  • 16篇徐向东
  • 15篇陶晓明
  • 10篇霍同林
  • 8篇周洪军
  • 5篇李永平
  • 4篇李涛
  • 4篇王炜
  • 3篇田扬超
  • 3篇刘颖
  • 2篇王占山
  • 2篇赵逸琼
  • 2篇胡一贯
  • 2篇张允武
  • 2篇裴珉
  • 1篇刘力
  • 1篇周红军
  • 1篇徐俊中
  • 1篇李标

传媒

  • 4篇光学学报
  • 3篇微细加工技术
  • 2篇科学通报
  • 2篇仪器仪表学报
  • 2篇中国科学技术...
  • 2篇物理
  • 2篇光学技术
  • 2篇中国激光
  • 2篇光电工程
  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇光子学报
  • 1篇高技术通讯
  • 1篇量子电子学
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇中国宇航学会...

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2003
  • 7篇2001
  • 4篇2000
  • 2篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1996
  • 5篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1991
  • 1篇1987
共 33 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
深蚀刻玻璃光波导光栅的研究
1995年
采用全息法制备了光刻胶光栅，并用该光栅掩膜离子蚀刻。刻得槽深为１．６ｕｍ的玻璃光栅。再采用Ｋ＋／Ｎａ＋交换法制备玻璃光波导光栅。用６３３ｎｍ波长激光由一端棱镜耦合输入，经过光栅，由另一端面输出。在实验中观察到多级布拉格衍射，一级布拉格衍射效率最高达９０％。
马少杰文雨水傅绍军赵伟范俊清
关键词：离子蚀刻光栅
全息离子束刻蚀衍射光栅制作
本文着重介绍真空紫外闪耀光栅、软X射线Laminar光栅和软X射线自支撑透射光栅的全息离子束刻蚀制作技术,给出相应的研制结果.
徐向东洪义麟刘颖傅绍军
关键词：全息光刻离子束刻蚀衍射光栅
文献传递
长程大型非球面轮廓测量仪的研究被引量：10
2006年
总结了常用大型非球面光学元件轮廓检测方法及其特点。详细阐述了用于同步辐射光学元件检测的长程面形仪的基本原理、发展阶段、关键技术、误差补偿、现状及发展方向。并介绍了合肥国家同步辐射实验室长程面形仪的进展。
刘斌王秋平傅绍军
关键词：非球面光学检测
连续工艺衍射光学元件的应用特性分析被引量：7
2001年
研究了连续工艺衍射光学元件在实际系统中的宽容度问题 ,模拟了非理想入射波、系统非共轴以及焦面定位对均匀照明的影响 ,提出了系统定位精度的重要性 ,并为实际工程检测提供了有意义的参数。
王炜裴珉李永平李涛洪义麟傅绍军
关键词：衍射光学元件
同步辐射Laminar光栅的研制被引量：10
2001年
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺 ,在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新工艺相对简单 。
徐向东洪义麟霍同林周洪军陶晓明傅绍军
关键词：全息光刻离子束刻蚀反应离子刻蚀
软X射线直线单色仪光场分布实验研究被引量：2
2000年
合肥国家同步辐射光源软X射线直线单色仪配备三种不同参数的波带片和针孔光阑 ,通过调节波带片和针孔光阑间的距离可输出 1.97— 5 .44nm波段的软X射线 .利用高分辨正性光刻胶 ,记录了CZP32 和 30 μm针孔光阑组合下的准确聚焦和大离焦量时的软X射线衍射图 ,即直线单色仪输出的光场分布 .获得了有关爱里斑及空间相干半径等实验数据 。
徐向东周洪军洪义麟霍同林陶晓明傅绍军
关键词：软X射线
同步辐射球面闪耀光栅的研制被引量：12
2000年
A spherical blazed grating (SBG) of 1200l/mm was successfully fabricated for the Seya Namioka monochromator of photochemistry experiment station at National Synchrotron Radiation Laboratory with the holographic ion beam technique. In addition to the general process, the photoresist ashing technique is developed for achieving good quality gratings.
徐向东洪义麟霍同林周洪军陶晓明傅绍军张允武
关键词：离子束刻蚀
离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响被引量：3
2001年
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东周洪军洪义麟李涛傅绍军
关键词：误差分析离子束刻蚀衍射光学元件均匀照明
用于超宽焦斑光束整形的大口径衍射光学元件设计和制作被引量：6
2005年
采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有极好的离焦宽容性的宽焦斑,但焦斑顶部不均匀性较大。对此进行了深入的模拟分析,结果表明:焦斑顶部较大的光强调制主要来源于现有的工艺及实验条件误差。
赵逸琼王建东张晓波李永平伍源王旭迪傅绍军
关键词：应用光学衍射光学元件离子束刻蚀
光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作被引量：7
2003年
针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。
徐向东洪义麟傅绍军
关键词：离子束刻蚀衍射光栅
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