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梁通

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:中山大学物理科学与工程技术学院更多>>
发文基金:高等学校全国优秀博士学位论文作者专项资金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电极
  • 1篇电学性能
  • 1篇电阻率
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇化学溶液沉积...
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 2篇中山大学

作者

  • 2篇包定华
  • 2篇阮凯斌
  • 2篇梁通
  • 2篇伍广亨
  • 1篇陈心满

传媒

  • 1篇华中科技大学...
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
Zno薄膜的结构和发光性能研究
本研究以Zn(CH3CO2)2·2H2O为原材料,用Sol-Gel法在Si衬底上制备了ZnO薄膜,研究了退火条件对Zno薄膜的结晶、微结构及发光性能的影响。研究表明,ZnO薄膜呈多晶特征,随退火温度升高,晶粒尺寸增大,c...
陈心满阮凯斌梁通伍广亨包定华
关键词:氧化锌薄膜光致发光
文献传递
集成铁电器件用LaNiO_3薄膜电极的结构与电学性能
2007年
采用化学溶液沉积法在(100)Si,SiO2/Si,(100)Al2O3,(100)MgO,(100)SrTiO3(STO),(100)ZrO2等衬底上制备了LaNiO3(LNO)薄膜,研究了热处理温度对薄膜结构和电性能的影响.结果显示,衬底种类影响LNO薄膜的结晶,其中STO衬底上的LNO薄膜呈高a轴择优取向成长,且其电阻率最低,为0.87 mΩ.cm.而对于Si衬底上的LNO薄膜,随着热处理温度升高,晶粒尺寸增大,电阻率降低,在750℃时电阻率达到最低值(1.52 mΩ.cm),其后热处理温度的升高导致杂相的形成,电阻率反而上升.扫描电镜观察证实这些LNO薄膜光滑、致密、均匀且无裂纹.结果表明,制得的LNO薄膜可用作集成铁电薄膜器件的底电极.
阮凯斌伍广亨梁通包定华
关键词:化学溶液沉积法电阻率
共1页<1>
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