闫建成
- 作品数：9 被引量：19H指数：4
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 硅掺杂辉光放电聚合物薄膜的热稳定性研究被引量：4
- 2011年
- 采用等离子体辉光放电聚合技术,在不同四甲基硅烷(TMS)流量条件下制备了硅掺杂辉光放电聚合物(Si-GDP)薄膜,采用傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱和热重(TG)分析技术分析了不同TMS流量对Si-GDP薄膜结构与热稳定性的影响.结果表明:随着TMS流量在0—0.06cm3/min范围变化,Si-GDP薄膜中Si的原子含量CSi为0—16.62%;含Si红外吸收峰的相对强度随TMS流量的增加而明显增大;Si-GDP薄膜的TG分析显示,温度在300℃时,随TMS流量的增加,Si-GDP薄膜的失重减少,热稳定性增强.
- 张颖何智兵李萍闫建成
- 关键词：X射线光电子能谱热稳定性
- 不同参数对GDP薄膜的结构与力学性能的影响被引量：5
- 2010年
- 采用辉光放电等离子体聚合技术,在不同制备参数条件下,制备了辉光放电聚合物(GDP)薄膜。利用傅里叶变换红外吸收光谱对GDP薄膜的化学结构组成进行了分析,采用纳米压痕技术对GDP薄膜的硬度及杨氏模量进行了表征,探讨了GDP薄膜的化学结构组成、硬度及杨氏模量随制备参数的变化规律。研究表明:随着工作气压和反式二丁烯与氢气(T2B/H2)流量比逐渐降低,GDP薄膜中SP3(CH3)基团随之降低,SP2(CH2)基团含量和SP3(CH1,2)随之增加;GDP薄膜的硬度与杨氏模量随着工作气压、T2B/H2流量比的降低而逐渐增大。
- 何智兵阳志林闫建成张林
- 关键词：FT-IR光谱纳米压痕力学性能
- 倾斜式微球滚动装置
- 本实用新型提供一种步进电机带动的倾斜式微球滚动装置。所述的装置包括微球盘、步进电机转轴与微球盘的连接头、步进电机、倾斜角度调节螺杆、电机支撑平台、微球滚动装置支撑台与紧固螺钉。所述装置通过步进电机带动微球盘转动，微球盘的...
- 何智兵许华李俊闫建成冯建鸿张林李波杜凯
- 文献传递
- 玻璃微球表面辉光等离子体聚合物涂层的热稳定性研究被引量：2
- 2010年
- 采用辉光放电聚合技术,在不同工作压强条件下在直径为350—400μm,厚度为2.5—3μm的玻璃微球上制备了辉光放电聚合物(GDP)涂层,并对玻璃/GDP微球模拟充气过程进行了热稳定性实验.利用傅里叶变换红外光谱仪、元素分析仪、热重法、体视显微镜和X射线照相技术对GDP涂层的内部结构及其化学键、热稳定性、微球形貌和厚度进行了表征.结果表明:GDP涂层中的碳氢比、不饱和键和CC含量随着制备压强的增大而减小,低压的热稳定性较好,GDP涂层与玻璃微球的结合力提高,流变、起泡和脱层现象也得到明显改善.微球的流变起泡与GDP涂层的热稳定性有关,而脱层与GDP涂层与玻璃微球界面的热应力和结合力有关.
- 闫建成何智兵阳志林陈志梅唐永建韦建军
- 关键词：玻璃微球热稳定性结合力
- 辉光放电聚合物结构及力学性质研究被引量：7
- 2011年
- 采用低压等离子体聚合技术,通过调整工作气压和反式二丁烯(T2B)与H2流量比制备了辉光放电聚合物(GDP)涂层.利用傅里叶变换红外吸收光谱和元素分析法讨论了工作气压和T2B与H2流量比对GDP涂层内部H原子含量及结构的影响,并且通过纳米压痕技术对GDP涂层的硬度及杨氏模量进行了表征.研究结果表明:降低工作气压和T2B与H2流量比,GDP涂层内sp3CH3基团与H原子含量随之逐渐降低,sp2CH2基团、sp3CH2基团和sp3CH基团含量随之增加,涂层的网络结构交联化程度增强,硬度和杨氏模量增大.
- 何智兵阳志林闫建成宋之敏卢铁城
- 关键词：傅里叶变换红外光谱纳米压痕杨氏模量
- 射频功率对辉光放电聚合物结构和性能的影响被引量：6
- 2011年
- 采用辉光放电技术,利用三倍频射频电源制备了不同功率下的辉光放电聚合物(GDP)涂层.并对GDP涂层进行了傅里叶变换红外吸收光谱(FT-IR)和元素分析仪表征,讨论了功率变化对其内部结构的影响.利用热重法(TG)表征了GDP涂层在30—650℃范围内的热稳定性.结果表明:随着射频功率的提高,GDP涂层的沉积速率增大;SP3CH3和联结甲基的乙烯基强度明显减小,SP3CH2,SP2CH2和不联结甲基的乙烯基强度增加,H含量降低,C=C键增多;热稳定性增强.
- 闫建成何智兵阳志林张颖唐永建韦建军
- 关键词：红外吸收谱热稳定性射频功率
- 硅掺杂辉光放电聚合物薄膜的成分结构分析被引量：1
- 2010年
- 以H2、反式二丁烯（T2B）和四甲基硅烷（TMS）混合气体为工作气体，在不同TMS流量条件下，用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了Si掺杂辉光放电聚合物（GDP）薄膜。采用傅里叶变换红外光谱表征了不同TMS流量下Si掺杂GDP薄膜的化学组成结构。X射线光电子能谱表征了Si掺杂GDP薄膜成分，分析了TMS流量对Si掺杂GDP薄膜化学结构与元素组成的影响。研究表明：薄膜中成功地掺入了Si元素；Si掺杂GDP薄膜中Si元素主要以Si—C，Si—H等键合形式存在；在TMS流量为0．5～2mL／min（标准状态）的范围内，薄膜中Si的原子浓度为0．72％～1．35％；随着TMS流量的逐渐增加，薄膜中Si含量逐渐增大。
- 唐定平何智兵陈志梅谢征微李玲阳志林闫建成
- 关键词：X射线光电子能谱傅里叶变换红外光谱
- 工作压强对硅掺杂辉光放电聚合物结构和性能的影响被引量：3
- 2011年
- 采用辉光放电聚合技术,在不同工作压强条件下制备了掺硅的辉光放电聚合物(Si-GDP)薄膜.并采用傅里叶变换红外吸收光谱和X射线光电子能谱(XPS)对Si-GDP薄膜进行了表征,分析了压强变化对其内部结构及成分的影响.利用紫外—可见光谱对Si-GDP薄膜的光学带隙进行了分析.结果表明:Si-GDP薄膜中Si元素主要以Si—C,Si—H,Si—O,Si—CH3的键合形式存在;随着工作压强的增大,薄膜中Si—C键相对含量先减小后增加;从Si-GDP薄膜的XPS分析可以发现,C—C与CC含量相对比值随压强的增大而减小.光学带隙的宽度也随压强的增大先减小后增加.
- 张颖何智兵闫建成李萍唐永建
- 关键词：X射线光电子能谱
- 沉积参数对ICF靶丸辉光放电聚合物烧蚀涂层红外特性的影响被引量：4
- 2010年
- 采用低压等离子体聚合装置,在溴化钾单晶盐片上制备了气压、功率、反式二丁烯(T2B)与氢气流量比3个沉积参数系列的辉光放电聚合物(GDP)涂层。对3个系列涂层各自的红外光谱进行比较分析,结合高斯拟合,定量地讨论涂层内部SP3(CHx)与SP2(CHx)键的相对含量的变化规律,且探讨了各系列沉积参数对气体分子在等离子体发生区的离解效率和沉积过程活性粒子与涂层新生表面及亚表面相互作用的影响。结果表明,在低气压、较高功率和低流量比参数下,GDP涂层内SP3(CH3)和氢元素的含量相对较低,SP2(CH2)和碳元素的含量相对较高。
- 阳志林何智兵卢铁城宋之敏闫建成
- 关键词：红外吸收谱
