宁永功
- 作品数：30 被引量：33H指数：4
- 供职机构：电子科技大学更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术化学工程更多>>
- 氘在金属钛中的分布
- 1998年
- Ｔｉ是优良的吸气物质，尤其是氢（Ｈ）Ｉ的同位素氘（Ｔ）或氘（Ｄ）进入Ｔｉ晶格空穴后，在特定的条件下可实现核反应，然而氘具有放射性，常将Ｔ替换为Ｄ进行研究。Ｄ在Ｔｉ中的分布规律，提高Ｔｉ中Ｄ的含量一直是相关科学关注的重要内容。
- 宁永功李宏发
- 关键词：钛SIMS
- 纳米级PtSi/P-Si(100)薄膜形成工艺研究被引量：1
- 2001年
- 用XRD、XPS、TEM分析手段研究了在P Si( 10 0 )上溅射的Pt膜 ,经不同工艺形成PtSi薄膜的物相及连续性。通过分析硅衬底预处理以及退火条件、气氛等对成膜质量的影响 ,找到形成超薄PtSi膜的工艺方法 ,制备出 4nm连续薄膜。
- 刘爽宁永功陈艾刘俊刚杨家德李昆
- 关键词：红外探测器纳米级退火
- 示踪二氧化碳激光器
- 示踪二氧化碳激光器，属于光学技术领域，涉及二氧化碳激光器。包括二氧化碳激光器1、并束片2和示踪光源3，所述二氧化碳激光器(1)、并束片(2)和示踪光源(3)三者之间的位置关系满足：所述二氧化碳激光器1所发出的波长为10....
- 詹光永宁永功杨忠孝詹光朝吴太国
- 文献传递
- 聚苯胺纳米复合材料的研究进展
- 综述了近年来聚苯胺/无要物纳米复合材料和纳米聚苯胺/有机聚合物材料的合成方法和其独特的导电、导磁、防腐蚀方面的性能等研究成果,并展望了聚苯胺纳米复合材料的潜在应用前景
- 屠晶景宁永功杨忠孝张悦陶华锋
- 关键词：聚苯胺纳米复合材料导电率
- 文献传递
- XPS对电导性纳米聚苯胺的性能表征被引量：5
- 2006年
- 以微乳液聚合法合成了导电性纳米聚苯胺(PANI),讨论了乳化剂的用量对聚苯胺电导率的影响,并用XPS对其性能进行了表征。结果表明:当十二烷基苯磺酸钠(SDBS)和苯胺(An)的摩尔比在1左右时,PANI的电导率有最大值;SDBS以两种方式存在,即掺杂PANI的SDBS和自由独立于PANI的SDBS;在一定酸性SDBS掺杂的条件下,(-N=+NH+)/N比率决定PANI的电导率。
- 屠晶景宁永功李元勋
- 关键词：XPS微乳液电导率掺杂
- VPS60型溅射离子泵电源的维修及调试方法
- 1999年
- 本文详尽地分析了VPS60型溅射离子泵的故障诊断及调试方法。将原电路整理简化为测量电路,保护、遥控电路及电源电路三大部分。在此基础上举出故障分析判断及排除事例,并总结了电路调整步骤。
- 杨忠孝刘爽宁永功
- 关键词：溅射离子泵故障诊断电路调整
- 生命光穴位治疗仪
- 生命光穴位治疗仪，属于医疗器械技术领域，涉及光学技术及电子技术，包括示踪生命光源、电源、微电脑控制系统和冷却系统。利用8～12μm波长的功率可调、频率可调，光斑大小可调的生命光线作用于人体相应的经络穴位，达到中医针灸治疗...
- 宁永功詹光永杨忠孝吴太国肖本懿詹炯
- 文献传递
- MICROLAB MKII失效原因探讨
- 2005年
- 剖析了MICROLAB MKII表面分析仪的386电源、MIG300高压电源、VPS60溅射离子泵电源、14D一20示波器等单元电路的原理。分析了部分故障产生的原因及排除方法。还对部分单元电路进行了简化处理,补绘了部分模块的电路图。
- 杨忠孝宁永功
- 关键词：电路原理
- TiV合金中钒原子的行为研究被引量：1
- 2004年
- 为了改善钛金属的储氢和保持惰性气体的综合性能并增加其抗氢脆能力 ,使用合金化手段引入合金元素钒 ,用XRD仔细分析了所制取的不同钒含量的合金。通过对XRD结果的分析发现钒原子进入钛晶格后 ,当V <4 0 %时 ,合金晶胞参数a ,c的变化主要是V的原子半径起作用 ;V >4 0 %时 ,V的电子电荷和原子半径同时起着显著作用。这些因素使晶胞参数c先变小后变大 ,而a则一直减小 ,这导致晶格中A ,B层的间距增大 ,层间的相互作用被削弱 ,因而使c轴方向上的晶格畸变加大。随着V含量的增加 ,单胞体积呈下降趋势 ,但在V为 5 %～ 7 5 %之间有一平台区。 ( 0 0 2 )和 ( 10 3 )晶面半高宽的异常增大则是由于不同相结构衍射角相近 ,且相应衍射面晶格畸变加大等因素综合作用的结果。
- 廖思舜宁永功李宏发杨忠孝李元勋
- 关键词：晶胞参数储氢合金
- X射线衍射、X射线光电子能谱对PtSi薄膜形成机理的研究
- 2001年
- 促使物相尽可能地向Pt2 Si和PtSi转化 ,是PtSi薄膜工艺研究中的重要工作。文中通过用X射线衍射 (XRD)、X射线光电子能谱 (XPS)微观分析手段对PtSi薄膜形成物相分步观察 ,研究了长时间变温退火、真空退火以及真空和保护气体 (N2 和H2 )退火等工艺条件对溅射PtSi薄膜物相形成的影响。结果表明 ,氢气气氛退火能提高薄膜质量 ;
- 刘爽宁永功陈艾龙再川杨家德
- 关键词：X射线衍射光电子能谱
