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刘东剑

作品数：7 被引量：23H指数：4
供职机构：四川大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划辐射物理及技术教育部重点实验室开放课题基金更多>>
相关领域：理学核科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇核科学技术
  • 4篇理学

主题

  • 4篇聚变
  • 4篇惯性约束
  • 4篇惯性约束聚变
  • 3篇中子
  • 2篇动力学
  • 2篇动力学方法
  • 2篇快中子
  • 2篇分子
  • 2篇分子动力学
  • 2篇分子动力学方...
  • 2篇成像
  • 1篇点扩散函数
  • 1篇电子碰撞
  • 1篇指向
  • 1篇散射
  • 1篇数值模拟
  • 1篇能量刻度
  • 1篇驱动源
  • 1篇卢瑟福
  • 1篇卢瑟福背散射

机构

  • 6篇中国工程物理...
  • 5篇四川大学
  • 2篇清华大学
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 7篇刘东剑
  • 4篇唐昶环
  • 3篇赵宗清
  • 3篇安竹
  • 2篇段艳敏
  • 2篇刘慢天
  • 2篇蒲以康
  • 2篇丁永坤
  • 2篇吴英
  • 1篇袁永腾
  • 1篇吴兴春
  • 1篇罗顺忠
  • 1篇郑思孝
  • 1篇董建军
  • 1篇陈鸣
  • 1篇丁庆平
  • 1篇张颖
  • 1篇温树槐
  • 1篇龙兴贵
  • 1篇刘宁

传媒

  • 2篇四川大学学报...
  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇清华大学学报...

年份

  • 3篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
MCNP在惯性约束聚变核探测中的初步应用被引量：1
2007年
随着惯性约束聚变的发展,对聚变产物特别是中子探测的定量分析变得非常重要。采用三维Monte Carlo输运程序MCNP(Monte Carlo N-particle),对不同铅屏蔽厚度下探测器的DT中子相对灵敏度,和中子半影成像的数值模拟进行了一定的研究。结果显示,相对灵敏度的模拟与实验结果符合得很好,而中子成像模拟能为惯性约束聚变物理实验的开展提供指导。
赵宗清丁永坤张颖陈鸣袁永腾刘东剑王向贤唐昶环蒲以康
关键词：惯性约束聚变
惯性约束聚变中的快中子半影成像研究
在解决能源危机和国防方面的重要作用，使得惯性约束聚变受到各国的普遍重视。惯性约束聚变实验中，驱动源驱动聚变靶丸内爆，内爆过程中燃料的流体力学不稳定性和冷热燃料的混合有可能导致靶丸点火失败，这些问题都和驱动源的不均匀性密切...
刘东剑
关键词：惯性约束聚变蒙特卡洛方法分子动力学方法驱动源
文献传递
快中子半影成像技术中的半影孔形状及半影孔指向精度研究
随着惯性约束聚变靶丸尺寸的增加,靶丸内爆过程中产生的高温、高密度等离子体对 X 射线的不透明度增大,使得常规的 X 射线诊断技术受到了很大的限制;而作为热核反应产物的快中子具有 MeV 级的能量,而且不带电,因而能够穿透...
刘东剑安竹唐昶环邹炼
关键词：惯性约束聚变
文献传递
原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析被引量：4
2004年
作者使用241Amα标准源与卢瑟福背散射相结合的方法,对四川大学原子核科学技术研究所的2.5MeV静电加速器进行了能量刻度,并利用卢瑟福背散射方法测量了一系列Al衬底金属薄靶的厚度,所测结果与称重法进行了比较.作者将卢瑟福背散射方法所测厚度值运用到电子碰撞引起原子内壳层电离截面的测量工作中,取得了满意的结果.
段艳敏吴英唐昶环刘东剑丁庆平刘慢天安竹
关键词：能量刻度电子碰撞
用增强质子背散射研究注氦纳米晶钛膜中氦的含量被引量：5
2005年
作者使用增强质子背散射方法,分析了几种Mo基体纳米钛膜中氦的保持量情况.结果表明:采用离子注入法注入的氦在纳米钛膜中能保存较长的时间,氦的释放速率受氦在钛膜及基体中的分布、钛膜中氦浓度大小的影响;Ar,He混合气体放电法工作参数的选择可影响渗氦的效率.
段艳敏刘慢天龙兴贵吴兴春罗顺忠刘东剑吴英郑思孝刘宁安竹
中子半影成像的数值模拟被引量：9
2006年
半影成像具有灵敏度高的特点,该技术是未来惯性约束聚变(ICF)中子成像的主要技术路线。基于中子半影成像的基本要求,利用蒙特卡罗方法,采用偏移抽样法和面通量的体通量替代技巧,模拟中子在半影成像系统中的输运,得到2维图像,并通过图像重建程序得到重建的源区图像。利用模拟结果,对编码孔屏蔽材料的选择和外径设计进行了初步优化,最终选择5 cm厚的钨屏蔽材料,其编码孔外径为1 cm。
赵宗清丁永坤刘东剑唐昶环温树槐蒲以康
关键词：MCNP程序中子
中子半影成像图像反演方法研究被引量：8
2006年
给出了中子半影成像技术的原理;分析了系统分辨率的影响因子;利用MCNP软件对中子半影成像过程进行模拟;用改进的逆滤波和维纳滤波两种方法对成像主轴上一点源和偏轴两点源的编码图像进行重建,并对编码像在降低噪声和去除本底前后的反演结果进行了比较。模拟结果表明维纳滤波法能够更好地抑制统计噪声。
刘东剑唐昶环赵宗清董建军安竹
关键词：惯性约束聚变点扩散函数
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