李雪
- 作品数：8 被引量：17H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程经济管理更多>>
- 机床轴线位置精度检测技术
- 2010年
- 主要介绍了机床轴线位置精度的检测方法、评定标准以及测量过程可能产生的误差来源。
- 宋秀敏李雪
- 关键词：重复定位精度双频激光干涉仪
- 照明光源在AOI中的重要性及设计要素分析被引量：7
- 2009年
- 对用于PCB的自动光学检测设备的光源部分的设计要素进行了叙述,从照明的颜色、强度及角度等各方面进行了分析,使其在各种产品的光学检测的光源设计中都具有一定的意义。
- 孙明睿李雪
- 关键词：AOIPCB照明光源
- 用万能工具显微镜测量的原则及原理分析被引量：2
- 2012年
- 分析了利用万能工具显微镜测量工件时为了提高测量精度采用的原则,并做了一定的原理性分析。
- 李雪宋秀敏
- 关键词：万能工具显微镜调焦
- 构建“三大规范”体系框架绘制技术标准发展蓝图
- 2022年
- 介绍了构建“三大规范”体系框架和明细表编制工作中形成的先进成果与经验。结合企业特点、科研生产实际条件及发展方向确定主流产品;根据需解决的重点问题确定构建的原则;选择适宜的体系框架结构,将标准放置于合适的层次上。形成的体系框架和明细表结构合理、协调一致,具有较强的实用性、可操作性、前瞻性和指导性。
- 杨晓静周建军陶利权胡晓霞李雪
- 关键词：企业标准体系
- 一个成像镜头匹配双CCD的光路设计被引量：6
- 2008年
- 介绍了一个用于自动光学检测方面的光路设计,用一个成像镜头及光源照明系统匹配2个CCD,用于设备的图像采集和观察分析,并分析了光路系统中需要考虑的一些问题及解决办法。该设计可以有效地简化设备结构,并有效地节约设备的总体成本。
- 孙明睿李雪
- 关键词：AOI光通量镜头分辨率
- 光刻机光强影响因素分析被引量：1
- 2017年
- 曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。
- 孙明睿李雪甄万财
- 关键词：光刻机
- 测量不确定度在工作中的重要性及分析应用被引量：1
- 2017年
- 对半导体装备领域零部件加工装配的测量器具进行具体分析,分析量具的测量不确定度以及它对半导体设备零部件及装配的重要影响,以半导体设备中应用最广泛的角度类量具检定装置为例,进行测量不确定度和校准能力的分析。
- 李雪孙明睿杨宽巨莎娜宋秀敏
- 关键词：测量不确定度直角尺校准测量能力
